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本发明涉及一种基板处理设备，包括：腔体、支撑腔体的上部的腔体盖、相对腔体盖安装以支撑基板的基座、喷射多种气体的气体喷射器，以及安装于腔体盖中的下垂防止栓。下垂防止栓能够与气体喷射器结合。下垂防止栓包括能供多种气体流动的多条路径。气体流动的多...
该专利属于周星工程股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过周星工程股份有限公司授权不得商用。

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