一种高透过光学镜头的制备方法技术

一种高透过光学镜头的制备方法，涉及一种光学镜头的制备方法。本发明专利技术是要解决现有的薄膜制备技术难以精确控制纳米级薄膜厚度的技术问题。本发明专利技术利用高、低折射率搭配的原则，选用高折射率TiO2和低折射率SiO2为基础的膜系材料，以达到高透过的效果。此光学镜头兼实现了高透过，在400nm～800nm范围内的理论平均反射率约为10％，实际反射率也低于16％，具有良好的可见光光学性能。该光学镜头的实现，可为抬头显示可见光波段工作提供技术保障，极大程度地提升抬头显示使用性能。度地提升抬头显示使用性能。度地提升抬头显示使用性能。

【技术实现步骤摘要】
一种高透过光学镜头的制备方法


[0001]本专利技术涉及一种光学镜头的制备方法。

技术介绍

[0002]抬头显示系统(Head
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UpDisplay,HUD)，亦称平视显示系统，是一种光学虚像显示系统。此系统通过光学镜片的反射或折射，将与汽车、飞机行驶相关的各种信息通过位于驾驶者视线正前方的放大虚像来呈现。虚像与景物同时出现在驾驶者的视野中，这样可以让驾驶者的视线一直保持在路面之上，而不用低头去看仪表盘。光学塑料具有质量轻、成本低、易加工成型、良好的韧性和机械性能、抗老化性能强等优点具有优异的综合性能，是优秀的制造HUD光学镜头的材料，但是如何在光学塑料上制备光学性能好、牢固度高、耐环境性能好的光学薄膜仍是有待解决的难题。在抬头显示系统中要求光学镜头具有高透过率。常用的薄膜制备方法有热蒸发法、磁控溅射法和化学气相沉积法，但这些制备方法都难以精确控制薄膜生长的厚度。原子层沉积(Atomic layer deposition，ALD)法依赖于前驱体气体和蒸汽在基底表面上的交替脉冲以及前体的后续化学吸附或表面反应制备薄膜，并在前驱体本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种高透过光学镜头的制备方法，其特征在于高透过光学镜头的制备方法是按以下步骤进行的：一、将PC镜片衬底依次用去离子水超声波清洗10min～15min，无水乙醇超声波清洗10min～15min，更换新的无水乙醇继续超声波清洗10min～15min，然后取出样品，用氮气吹干表面的水分，获得表面清洁的衬底PC镜片样品；二、将步骤一中清洗好的PC镜片衬底固定在原子层沉积设备的样品台上，抽真空，设定载气流量为20sccm～25sccm，将钛的前驱体加热至50℃～100℃，反应腔加热至50℃～100℃，硅的前驱体保持常温，臭氧和水蒸气均是常温，达到设定温度以后开始镀膜；膜层结构为在PC镜片衬底的两侧均镀膜TiO2，然后将SiO2和TiO2交替镀膜，最外侧为SiO2膜层，PC镜片衬底的两侧完全对称布置，完成高透过率光学镜头薄膜的制备；当镀膜TiO2时采用钛的前驱体和水蒸气；当镀膜SiO2时采用硅的前驱体和臭氧。2.根据权利要求1所述的一种高透过光学镜头的制备方法，其特征在于步骤一中所述的PC镜片衬底的厚度为20mm。3.根据权利要求1所述的一种高透过光学镜头的制备方法，其特征在于步骤一中将PC镜片衬底依次用去离子水超声波清洗10min，无水乙醇超声波清洗10min，更换新的无水乙醇继续超...

【专利技术属性】
技术研发人员：朱嘉琦，秦宇婕，高岗，李坤，段超，
申请(专利权)人：哈尔滨工业大学，
类型：发明
国别省市：