【技术实现步骤摘要】
一种带隙基准电路
[0001]本专利技术涉及集成电路设计领域,更具体地涉及一种带隙基准电路。
技术介绍
[0002]带隙基准电路被广泛应用于模拟电路中,主要用于为电源管理芯片和数据调节输出电路提供基准电压。在实际应用中,一些系统对基准电压的精度有较高的要求,而传统的带隙基准电路无法对三极管本身具有的负温电压中的对数项进行补偿,限制了基准电压的精度。
技术实现思路
[0003]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种可提高基准电压精度的带隙基准电路。
[0004]为解决上述技术问题,本专利技术提供一种带隙基准电路,包括:启动电路,与外部电源连接,用于产生启动电流;多阶温度补偿电路,与外部电源连接,包括多个级联的温度补偿电路;基准电路,包括产生电路以及调节输出电路,所述产生电路与启动电路连接,以在启动电流的作用下工作,并将根据外部电源产生的第一输出电压传输至多阶温度补偿电路,以使得多个级联的温度补偿电路对第一输出电压进行补偿,所述调节输出电路与多阶温度补偿电路连接,以根据补偿后的第一输出电压输出基准电压。
[0005]其进一步技术方案为:每一所述温度补偿电路包括第九电容、第十PMOS管、第十一PMOS管、第二十PMOS管、第二十一PMOS管、第二十六PMOS管、第九三极管、第十三极管和第六NMOS管;其中,所述第十PMOS管、第十一PMOS管、第二十PMOS管及第二十一PMOS管的源极均连接外部电源,所述第九三极管的基极连接第十三极管的基极和第二十PMOS管的漏极,所述第二十一PMOS管的栅 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种带隙基准电路,其特征在于,包括:启动电路,与外部电源连接,用于产生启动电流;多阶温度补偿电路,与外部电源连接,包括多个级联的温度补偿电路;基准电路,包括产生电路以及调节输出电路,所述产生电路与启动电路连接,以在启动电流的作用下工作,并将根据外部电源产生的第一输出电压传输至多阶温度补偿电路,以使得多个级联的温度补偿电路对第一输出电压进行补偿,所述调节输出电路与多阶温度补偿电路连接,以根据补偿后的第一输出电压输出基准电压。2.如权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于:每一所述温度补偿电路包括第九电容、第十PMOS管、第十一PMOS管、第二十PMOS管、第二十一PMOS管、第二十六PMOS管、第九三极管、第十三极管和第六NMOS管;其中,所述第十PMOS管、第十一PMOS管、第二十PMOS管及第二十一PMOS管的源极均连接外部电源,所述第九三极管的基极连接第十三极管的基极和第二十PMOS管的漏极,所述第二十一PMOS管的栅极和源极连接,并连接第二十PMOS管的栅极和第二十六PMOS管的源极,所述第九三极管和第十三极管的集电极分别连接第十PMOS管和第十一PMOS管的漏极,该第十PMOS管和第十一PMOS管的栅极均连接基准电路,所述第十三极管的集电极还连接所述第二十六PMOS管的栅极,所述第九三极管的发射极通过第六NMOS管接地,且该第九三极管的发射极作为所述温度补偿电路的输出端,所述第九电容的一端连接第六NMOS管的栅极和第九三极管的集电极,所述第九电容的另一端、第十三极管的发射极和第二十六PMOS管的漏极作为所述温度补偿电路的输入端,用于连接基准电路或另一温度补偿电路的输出端。3.如权利要求2所述的带隙基准电路,其特征在于:所述温度补偿电路还包括第五电容,所述第五电容的两端分别连接于第十三极管的基极和集电极。4.如权利要求2所述的带隙基准电路,其特征在于:所述多阶温度补偿电路包括第一温度补偿电路、第二温度补偿电路以及第三温度补偿电路共三个温度补偿电路,所述第一温度补偿电路、第二温度补偿电路以及第三温度补偿电路结构相同,且所述第一温度补偿电路中的输入端连接基准电路,其输出端连接第二温度补偿电路的输入端,以使得第二温度补偿电路对经过第一温度补偿电路补偿后的第一输出电压进行补偿,该第二温度补偿电路的输出端连接第三温度补偿电路的输入端,所述第三温度补偿电路的输出端连接调节输出电路,以将经过三次补偿处理的第一输出电压输入至调节输出电路。5.如权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于:所述启动电路包括PMOS管、第一PMOS管、NMOS管以及二极管,所述NMOS管的栅极和漏极连接,并连接PMOS管的栅极、二极管的正极以及第一PMOS管的漏极,所述第一PMOS管和PMOS管的源极以及二极管的负极连接外部电源,所述第一PMOS管和PMOS管的漏极连接产生电路,所述NMOS管的源极通过一第一电阻接地。6.如权利要求1所述的带隙基准电路,其特征在于:所述启动电路包括多个PMOS管、多个NMOS管、一二极管、一第一PMOS管以及一第一电阻,多个所述PMOS管依次串联连接后的源极和漏极分别连接外部电源和产生电路,多个所述NMOS管依次串联连接后的漏极连接所述二极管的正极、第一PMOS管的漏极和多个所述PMOS管的栅极,且每一所述NMOS管的栅极连接其漏极,多个所述NMOS管...
【专利技术属性】
技术研发人员:来新泉,李虎越,王宇恒,李文岑,李继生,
申请(专利权)人:西安水木芯邦半导体设计有限公司,
类型:发明
国别省市:
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。