【技术实现步骤摘要】
一种电极距离校准装置
[0001]本申请涉及半导体制造设备检测
,具体而言,涉及一种电极距离校准装置。
技术介绍
[0002]半导体设备刻蚀机是一种用于制造集成电路和其他微纳米尺度器件的关键生产工具。在使用过程中,由于物理因素和日常磨损等原因,上下电极的距离可能会发生变化,这会对加工质量产生不利影响。因此,在设备保养过程中,需要对上下电极的距离进行定期校准,以确保设备能够稳定地运行并且加工出高质量的产品。高效、准确的上下电极距离校准对于确保刻蚀机长期稳定地运行和保证加工质量至关重要。
[0003]但在现有技术中,由于缺乏专用的校准工具,实际保养过程中采用的校准方法较为简单粗糙。具体操作为,将锡箔纸做成球状,刻蚀机的电机带动上电极对锡箔纸球进行施压,再利用卡尺测量挤压后的锡箔球厚度,从而得到刻蚀机上下电极之间的距离,这种方法得到的距离补偿数据存在较大的误差,校准结果准确度不高,因此需要一种便于测量的工具或改善校准方法以提高准确度。
[0004]从质量角度分析,现有的电极距离校准方法得到的距离补偿数据存在误 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种电极距离校准装置,其特征在于,包括底板、定位孔及与所述定位孔对应的定位销;所述底板具有相对的第一表面和第二表面,所述定位孔贯穿所述第一表面和所述第二表面;所述定位销包括固定部和与所述固定部连接的测量部,所述固定部置于所述定位孔中,所述定位销通过所述定位孔作用于所述固定部的挤压力与所述底板固定,所述测量部相对于所述第一表面凸出的部分用于测量刻蚀机上下电极之间的间距。2.根据权利要求1所述的电极距离校准装置,其特征在于,所述定位孔的数量为多个,在平行所述第一表面的平面,任意两个定位孔截面的几何中心连线不平行。3.根据权利要求2所述的电极距离校准装置,其特征在于,所述底板为圆盘;多个所述定位孔在所述底板上相对于所述底板的几何中心成中心对称分布。4.根据权利要求1
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3中任意一项所述的电极距离校准装置,所述定位孔包括连接孔和限位孔,所述连接孔靠近所述第一表面,所述限位孔靠近所述第二表面;所述连接孔和限位孔均为圆柱形孔,所述连接孔的中心轴线与所述限位孔的中心轴线重合,所述连接孔的孔径小于所述限位孔的孔径;所述固定部包括限位部与连接部,所述限位部通过所述连接部与所述测量部连接;所述限位部与连接部为圆柱形,所述限位部的中心轴线与所述连接部的中心轴线重合,所述连接部的半径小于所述连接...
【专利技术属性】
技术研发人员:石也琛,杨明,
申请(专利权)人:吉林华微电子股份有限公司,
类型:新型
国别省市:
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