分析光谱峰的方法技术

提供了一种分析使用光学光谱仪的检测器生成的样品光谱的干扰峰的方法。所述干扰峰由不同波长的多个光谱发射产生。所述方法包括基于所述光学光谱仪的预期曲线参数的模型和所述样品峰在所述光学光谱仪的所述检测器上的位置，生成表示所述干扰峰中每个光谱发射的峰形的干扰曲线参数。所述方法还包括将多条曲线拟合到所述干扰峰，每条曲线对应于形成所述干扰峰的所述不同波长的多个光谱发射之一，其中每条曲线使用由所述预期峰参数的模型提供的所述干扰曲线参数进行拟合。输出所述多条曲线以供进一步分析。以供进一步分析。以供进一步分析。

【技术实现步骤摘要】
分析光谱峰的方法


[0001]本公开涉及分析光谱峰的方法。具体地说，本公开涉及分析使用光学光谱仪生成的光谱峰的方法。

技术介绍

[0002]光学光谱测定，例如光学发射光谱测定是一种用于分析样品的分析技术。在光学发射光谱测定中，可以例如使用等离子体源来激发样品。样品的激发原子发射光，其中发射的光的波长是存在于样品中的原子的特性。因而，样品发射的光包括多条光谱线，其中每条光谱线对应于原子中的特定能级跃迁。通过检测特定波长处光谱线的存在，可以确定样品中元素的存在。此外，每个光谱发射的强度可用于分析样品内元素的浓度。
[0003]因而，如光学发射光谱仪的光学光谱仪可以从样品中生成多个光谱峰。分析多个光谱峰的过程的一部分涉及从测量数据中识别光谱峰。识别过程通常涉及将曲线拟合到测量数据，以便识别峰位置(和相关联波长)和峰强度。峰波长和峰强度可用于确定样品中存在的元素以及每种元素的相对量。
[0004]在光学光谱测定中，从样品中生成的光谱峰可能包含两个或更多个具有相似波长的光谱峰。因此，当光谱峰在检测器上成像时，相似波长的光谱峰可能重叠。在一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种分析使用光学光谱仪的检测器生成的样品光谱的干扰峰的方法，所述干扰峰由不同波长的多个光谱峰产生，所述方法包括：基于所述光学光谱仪的预期曲线参数的模型和所述干扰峰在所述光学光谱仪的所述检测器上的位置，生成表示所述干扰峰中每个光谱发射的峰形的干扰曲线参数；将多条曲线拟合到所述干扰峰，每条曲线对应于形成所述干扰峰的所述不同波长的多个光谱发射之一，其中每条曲线使用由所述预期峰参数的模型提供的所述干扰曲线参数进行拟合；和输出所述多条曲线以供进一步分析。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述干扰曲线参数包括第一不对称干扰曲线参数和第二不对称干扰曲线参数，以便将多条不对称曲线拟合到所述干扰峰。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述干扰曲线参数是第一双高斯曲线参数和第二双高斯曲线参数。4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述光学光谱仪的所述预期曲线参数的模型包括定义所述干扰峰的中心波长与所述干扰曲线参数之间的关系。5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其进一步包括：所述预期曲线参数的模型是基于使用所述光学光谱仪由校准样品生成的校准光谱的多个光谱峰的峰形和相关联检测器位置生成的。6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述样品光谱是由所述光学光谱仪使用中阶梯光栅将样品光衍射到二维检测器上生成的。7.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中将所述多条曲线中的每一条拟合到所述干扰峰包括为要拟合到所述干扰峰的所述曲线中的每一条选择峰波长和峰强度。8.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其进一步包括确定有多少条曲线要拟合到所述干扰峰。9.根据权利要求8所述的方法，其中基于所述干扰峰的一阶导数和/或二阶导数确定要拟合到所述干扰峰的曲线的数量。10.根据权利要求1至7中任一项所述的方法，其中要拟合到所述干扰峰的每条曲线的所述峰波长选自已知光谱发射的数据库。11.根据前述权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员：潘宁宁，
申请(专利权)人：塞莫费雪科学不来梅有限公司，
类型：发明
国别省市：