用于超高压处理设备的堵塞装置和超高压处理设备制造方法及图纸

本实用新型专利技术涉及超高压技术领域，具体提供了一种用于超高压处理设备的堵塞装置和超高压处理设备。所述堵塞装置包括第一堵塞构件、第一密封组件、第二堵塞构件和第二密封组件，第一堵塞构件沿第一方向延伸并具有在第一方向上排布的第一端和第二端，第一密封组件设在第一堵塞构件的侧壁面上，且第一密封组件环绕第一方向设置，第二堵塞构件具有在第一方向上排布的第一端和第二端，第二堵塞构件的第二端与第一堵塞构件的第一端相连，第二密封组件设在第二堵塞构件的第一端，且第二密封组件环绕第一方向设置。该堵塞装置通过设在第一堵塞构件上的第一密封组件以及设在第二堵塞构件上的第二密封组件共同起到密封作用，以避免超高压处理设备出现泄漏。压处理设备出现泄漏。压处理设备出现泄漏。

【技术实现步骤摘要】
用于超高压处理设备的堵塞装置和超高压处理设备


[0001]本技术涉及超高压
，具体涉及一种用于超高压处理设备的堵塞装置和超高压处理设备。

技术介绍

[0002]超高压处理设备用于进行超高压处理，广泛用于食品杀菌保鲜等领域。超高压处理设备包括通过堵塞密封和打开开口的超高压容器。在相关技术中，堵塞仅在端部设置一层密封圈，当超高压容器的内腔中形成超高压后，内腔中的介质在超高压作用下容易突破该密封圈的阻挡而外泄，从而出现安全隐患。

技术实现思路

[0003]本技术旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本技术提出一种用于超高压处理设备的堵塞装置，该用于超高压处理设备的堵塞装置通过设在第一堵塞构件上的第一密封组件以及设在第二堵塞构件上的第二密封组件共同起到密封作用，以避免超高压处理设备出现泄漏。
[0004]本技术还提出一种超高压处理设备。
[0005]本技术的用于超高压处理设备的堵塞装置包括：
[0006]第一堵塞构件，所述第一堵塞构件具有在第一方向上相对设置的第一端和第二端；
[000本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于超高压处理设备的堵塞装置，其特征在于，包括：第一堵塞构件(1)，所述第一堵塞构件(1)具有在第一方向上相对设置的第一端和第二端；第一密封组件(2)，所述第一密封组件(2)设在所述第一堵塞构件(1)的侧壁面上，且所述第一密封组件(2)环绕所述第一方向设置；第二堵塞构件(3)，所述第二堵塞构件(3)具有在所述第一方向上相对设置的第一端和第二端，所述第二堵塞构件(3)的第二端与所述第一堵塞构件(1)的第一端相连；第二密封组件(4)，所述第二密封组件(4)设在所述第二堵塞构件(3)的第一端，且所述第二密封组件(4)环绕所述第一方向设置。2.根据权利要求1所述的用于超高压处理设备的堵塞装置，其特征在于，所述第一堵塞构件(1)的侧壁面设有环绕所述第一方向的第一环形槽(11)，所述第一密封组件(2)包括第一密封圈，所述第一密封圈的内侧嵌设在所述第一环形槽(11)内，所述第一密封圈的外侧凸出所述第一堵塞构件(1)的侧壁面。3.根据权利要求2所述的用于超高压处理设备的堵塞装置，其特征在于，所述第一密封圈为橡胶圈或金属圈。4.根据权利要求1所述的用于超高压处理设备的堵塞装置，其特征在于，还包括导向带，所述第一堵塞构件(1)的侧壁面设有环绕所述第一方向的安装槽(12)，所述导向带嵌设在所述安装槽(12)内，所述第一密封组件(2)位于所述第二堵塞构件(3)和所述导向带之间。5.根据权利要求1所述的用于超高压处理设备的堵塞装置，其特征在于，所述第二堵塞构件(3)的第一端的端面设有第二环形槽(31)，所述第二堵塞构件(3)的第一端的侧壁面设有第三环形槽(32)和第四环形槽(33)，所述第二环形槽(31)、所述第三环形槽(32)和所述第四环形槽(33)沿所述第一方向依次连通，所述第四环形槽(33)具有倾斜槽壁面，所述倾斜槽壁面由所述第二堵塞构件(3)的第一端向所述第二堵塞构件(3)的第二端延伸，并向远离所述第二堵塞构件(3)的中心线的方向倾斜；所述第二密封组件(4)包括挡圈(41)、第二密封圈(42)和第三密封圈(43)，所述...

【专利技术属性】
技术研发人员：杜凤麟，张亚男，
申请(专利权)人：山西力德福科技有限公司，
类型：新型
国别省市：