密封机构及镀膜设备制造技术

本实用新型专利技术涉及薄膜制备设备技术领域，涉及一种密封机构及镀膜设备。密封机构包括腔体结构和腔门结构，腔体结构一侧设有内壁，且内壁贯穿设有腔口；腔门结构活动连接于腔体结构，且腔门结构用于密封腔口，腔门结构朝向内壁的一侧设有内弧面；在腔门结构密封腔口时，内弧面的边缘与腔口的边缘齐平，且内弧面至少部分与内壁齐平。在本实施例的密封结构中，当腔门结构密封于腔体结构的腔口时，腔门结构的内弧面的边缘可以与腔口的边缘呈齐平状态，当气流通过内壁流动至腔门结构时，可以避免气流出现扰动现象，以提高气流的流动性。当密封机构应用于镀膜设备中时，可以使镀膜设备具有更为紧凑的结构，减小空间占用，使用效果好。使用效果好。使用效果好。

【技术实现步骤摘要】
密封机构及镀膜设备


[0001]本技术涉及薄膜制备设备
，尤其涉及一种密封机构及镀膜设备。

技术介绍

[0002]作为一种精准可控的薄膜材料制备方法，ALD技术已成为半导体芯片制造中热门的材料制备技术，是沉积纳米尺度薄膜的最有效途径之一。根据反应激活方式的不同，ALD可分为传统的热式ALD、等离子体增强ALD、催化ALD等新型技术。其中，由于等离子体可以在较低温度下为衬底表面提供高反应活性且该反应活性可控的反应氛围，对促进薄膜的快速反应生长具有极大的推动作用，等离子体增强ALD脱颖而出且得到了迅速发展，在半导体等诸多领域具有广泛的应用。
[0003]在现有的ALD镀膜设备中，腔门在闭合后其内表面与腔体的内壁之间仍存在较大的间隔空间，当腔体内的气流流经腔门处时，气流容易出现扰动现象，这样不仅影响气流的流动性，同时也使腔体内部存在较大的冗余空间，镀膜设备整体占用空间较大。
[0004]因此，有必要针对上述问题进行改进，以改变现状。

技术实现思路

[0005]本技术提供一种密封机构及镀膜设备，用于解决现有镀膜设备中，腔门与腔体之间存在较大间隔空间而导致气流流动性不佳以及设备占用空间较大的问题。
[0006]本技术提出一种密封机构，包括：
[0007]腔体结构，一侧设有内壁，且所述内壁贯穿设有腔口；以及
[0008]腔门结构，活动连接于所述腔体结构，且所述腔门结构用于密封所述腔口，所述腔门结构朝向所述内壁的一侧设有内弧面；在所述腔门结构密封所述腔口时，所述内弧面的边缘与所述腔口的边缘齐平，且所述内弧面至少部分与所述内壁齐平。
[0009]根据本技术的一个实施例，在所述密封机构的横截面上，所述内壁和所述内弧面的边缘至少部分为圆弧形，且所述内壁与所述内弧面同心设置。
[0010]根据本技术的一个实施例，所述腔体结构包括腔本体和延伸部，所述内壁设于所述腔本体的一侧，所述延伸部自所述内壁的另一侧向外延伸，且所述延伸部环绕所述腔口设置，在所述腔门结构密封于所述腔口时，所述腔门结构至少部分容置于所述延伸部内。
[0011]根据本技术的一个实施例，所述腔门结构包括密封部盖板部，所述内弧面设于所述密封部的一侧，所述盖板部连接于所述密封部远离所述内弧面的一侧并自所述密封部的边缘向外延伸，在所述腔门结构密封所述腔口时，所述盖板部盖设于所述延伸部远离所述腔本体的一侧。
[0012]根据本技术的一个实施例，所述密封部还设有密封面，所述密封面的边缘连接于所述内弧面的边缘，在所述腔门结构密封所述腔口时，所述密封面与所述延伸部平行设置或贴合。
[0013]根据本技术的一个实施例，所述密封面与所述内弧面的径向之间具有夹角。
[0014]根据本技术的一个实施例，所述腔门结构还包括连接件，所述腔门结构通过所述连接件活动连接于所述腔体结构，所述连接件包括铰链或滑轨。
[0015]根据本技术的一个实施例，所述密封机构还包括把手结构，所述把手结构连接于所述腔门结构，且所述把手结构设于所述腔门结构远离所述内弧面的一侧。
[0016]本技术还提供了一种镀膜设备，包括：
[0017]镀膜腔；以及
[0018]如上述任意一项所述的密封机构，所述密封机构密封于所述镀膜腔的开口处。
[0019]实施本技术实施例，具有如下有益效果：
[0020]在本实施例的密封结构中，当腔门结构密封于腔体结构的腔口时，腔门结构的内弧面的边缘可以与腔口的边缘呈齐平状态，当气流通过内壁流动至腔门结构时，可以避免气流出现扰动现象，以提高气流的流动性。当密封机构应用于镀膜设备中时，可以使镀膜设备具有更为紧凑的结构，减小空间占用，使用效果好。
附图说明
[0021]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0022]其中：
[0023]图1是本技术的实施例中密封机构的立体视图；
[0024]图2是本技术的实施例中密封结构的另一视角立体视图；
[0025]图3是本技术的实施例中密封机构的打开状态结构示意图；
[0026]附图标记：
[0027]10、密封机构；100、腔体结构；110、腔本体；111、内壁；112、腔口；120、延伸部；200、腔门结构；210、密封部；211、内弧面；212、密封面；220、盖板部；230、连接件；300、把手结构。
具体实施方式
[0028]为使本技术的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术中的附图，对本技术中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0029]参阅图1至图3所示，本技术实施例提供了一种用于镀膜设备的密封机构10，其包括腔体结构100和腔门结构200，腔体结构100一侧设有内壁111，且内壁111贯穿设有腔口112；腔门结构200活动连接于腔体结构100，且腔门结构200用于密封腔口112，腔门结构200朝向内壁111的一侧设有内弧面211；在腔门结构200密封腔口112时，内弧面211的边缘与腔口112的边缘齐平，且内弧面211至少部分与内壁111齐平。
[0030]在本实施例的密封结构中，当腔门结构200密封于腔体结构100的腔口112时，腔门
结构200的内弧面211的边缘可以与腔口112的边缘呈齐平状态，当气流通过内壁111流动至腔门结构200时，可以避免气流出现扰动现象，以提高气流的流动性。
[0031]在一实施例中，在密封机构10的横截面上，内壁111和内弧面211的边缘至少部分为圆弧形，且内壁111与内弧面211同心设置。
[0032]在本实施例中，腔体结构100大致为圆筒型结构，通过将内弧面211设置为与内壁111同心结构，可以使内弧面211的边缘与腔口112开口处的边缘齐平，当气体流经腔门结构200时，相较于现有的镀膜设备可以提高气体的流动性，使用效果好。
[0033]进一步地，腔体结构100包括腔本体110和延伸部120，内壁111设于腔本体110的一侧，延伸部120自内壁111的另一侧向外延伸，且延伸部120环绕腔口112设置，在腔门结构200密封于腔口112时，腔门结构200至少部分容置于延伸部120内。
[0034]由此设置，可以提高腔门结构200与腔体结构100之间的接触面，以提高密封机构10的密封效果，同时，通过设置延伸部120与腔门结构200连接，在腔门结构200关闭时，延伸部12本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种密封机构，其特征在于，包括：腔体结构，一侧设有内壁，且所述内壁贯穿设有腔口；以及腔门结构，活动连接于所述腔体结构，且所述腔门结构用于密封所述腔口，所述腔门结构朝向所述内壁的一侧设有内弧面；在所述腔门结构密封所述腔口时，所述内弧面的边缘与所述腔口的边缘齐平，且所述内弧面至少部分与所述内壁齐平。2.根据权利要求1所述的密封机构，其特征在于，在所述密封机构的横截面上，所述内壁和所述内弧面的边缘至少部分为圆弧形，且所述内壁与所述内弧面同心设置。3.根据权利要求1所述的密封机构，其特征在于，所述腔体结构包括腔本体和延伸部，所述内壁设于所述腔本体的一侧，所述延伸部自所述内壁的另一侧向外延伸，且所述延伸部环绕所述腔口设置，在所述腔门结构密封于所述腔口时，所述腔门结构至少部分容置于所述延伸部内。4.根据权利要求3所述的密封机构，其特征在于，所述腔门结构包括密封部盖板部，所述内弧面设于所述密封部的一侧，所述盖板部连接于所述密封部远离所述内弧面的一...

【专利技术属性】
技术研发人员：请求不公布姓名，
申请(专利权)人：深圳市原速光电科技有限公司，
类型：新型
国别省市：