本实用新型专利技术涉及等离子装置技术领域，且公开了一种用于涂层处理的等离子装置，包括箱体，箱体内设置有等离子发生器以及真空室水冷机构；箱体的一侧连接有真空系统，等离子发生器包括阴极，阴极的外侧套有水套管，水套管的外侧套有空气管，空气管的一端外侧缠绕有线圈，线圈上连接有电源，阴极的一端设置有可更换的阴极头，阴极头设置在线圈的内部，阴极头的外端连接有阳极，阳极内侧设置有放电腔，且在放电腔的表面设置有电弧，阳极的一端设置有等离子喷头，真空室水冷机构设置在阳极的侧面，箱体的内部设置有用于调节等离子发生器角度的调节装置，可以对等离子喷头喷出的等离子体冷却降温处理，方便实现联动控制水冷。方便实现联动控制水冷。方便实现联动控制水冷。
【技术实现步骤摘要】
一种用于涂层处理的等离子装置
[0001]本技术涉及等离子装置
，具体为一种用于涂层处理的等离子装置。
技术介绍
[0002]在真空等离子表面处理工艺中，真空等离子体清洗机产生的等离子体温度很低，但是在使用过程中，如果使用功率较大或处理时刻过长，就会出现电极板温度升高的情况，而等离子体清洗机一般也会处理一些对温度比较敏感的产品，这时就需要根据用户的要求给电极板降温，以达到使对腔内温度稳定在要求范围的目的。
[0003]等离子体清洗机的等离子体发生器是该设备的核心部件，一般小型等离子体清洗机使用功率较小，等离子体发生器自身产生的热量较小，一般会选择风冷除温的方法。而大型等离子清洗机都是会使用输出功率较大的等离子发生器，工作时自身产生的热量也很大，为了保证设备使用的稳定性，延长使用寿命，采用工艺冷却水除温的方法来冷却。
[0004]真空泵在使用过程中无润滑油冷却，机械结构之间又产生了很高的摩擦温度，如真空泵在没有冷却的情况下工作时，会出现转子或螺杆抱死的情况，造成报废。因此，真空泵在使用中需要实时冷却，所采用的方法就是采用过程工艺冷却水冷却。
[0005]局部干泵在设计时为了保证降低电机噪音，更好地做好电机保护，一般还会选择水冷式电机，也需要工艺冷却水进行实时降温。
[0006]一般情况下，等离子清洗机的冷却水压力和流量监测由水流开关完成，水流开关分为机械式和数量式，需要串联应用于进水管，当压力或流量太小时，输出信号，完成设备的报警功能。一般是在每个温度控制部件的入口安装独立的水流量开关，以确保其稳定可靠。
技术实现思路
[0007]本技术提供了一种用于涂层处理的等离子装置，用于解决了上述
技术介绍
中所提到的技术问题。
[0008]本技术提供如下技术方案：一种用于涂层处理的等离子装置，包括箱体，所述箱体内设置有等离子发生器以及真空室水冷机构；
[0009]所述箱体的一侧连接有真空系统，所述等离子发生器包括阴极，所述阴极的外侧套有水套管，所述水套管的外侧套有空气管，所述空气管的一端外侧缠绕有线圈，所述线圈上连接有电源，所述阴极的一端设置有可更换的阴极头，所述阴极头设置在线圈的内部，所述阴极头的外端连接有阳极，所述阳极内侧设置有放电腔，且在放电腔的表面设置有电弧，所述阳极的一端设置有等离子喷头，所述真空室水冷机构设置在阳极的侧面，所述箱体的内部设置有用于调节等离子发生器角度的调节装置。
[0010]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：真空室水冷机构包括外壳、水管、转杆以及第一喷嘴器，所述外壳内开设有滑槽与槽体，所述滑槽与所述槽体相连通，所述滑槽内可滑动连接有密封块，所述密封块上开设有流通槽，所
述转杆上固定连接有连接杆，所述连接杆上固定连接有限流部件，所述转杆用于将所述密封块进行位置调整从而促使所述流通槽与所述水管相连通；
[0011]所述限流部件为转动板，所述转动板上开设有第一通孔，所述连接杆用于促使所述转动板进行转动。
[0012]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述密封块上固定连接有定位板，所述定位板上开设有第二通孔，所述连接杆用于促使所述第一通孔与所述第二通孔相连通，从而控制水流大小进入到所述槽体内。
[0013]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述密封块上可转动连接有限位圈，所述限位圈呈中空环形状，所述限位圈用于促使所述密封块转动时稳定。
[0014]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述第一喷嘴器内可滑动连接有第二喷嘴器，所述第二喷嘴器呈倒圆台状，所述第一喷嘴器呈倒圆台状，所述第一喷嘴器的半径大于所述第二喷嘴器的半径，所述第二喷嘴器上固定连接有移动块，所述移动块用于促使所述第二喷嘴器在所述第一喷嘴器内滑动，所述第一喷嘴器内开设有移动槽，所述移动块的一端与所述移动槽滑动连接，所述移动块的另一端与所述第二喷嘴器连接。
[0015]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述移动块上安装有推动杆，所述推动杆上可拆卸的安装有限位杆，所述第一喷嘴器上开设有限位槽，所述限位槽与所述移动槽相连通，所述限位槽与所述限位杆相卡合。
[0016]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述箱体的一侧设置有箱体门，所述箱体门的内侧设置有多层凸出密封环，所述箱体门的四角均螺纹连接有丝杆，所述丝杆的一端转动连接在箱体上，所述丝杆的另一端设置有旋转把手。
[0017]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述真空系统包括安装在箱体的抽气泵，所述抽气泵用于将箱体进行抽真空处理。
[0018]作为本技术所述一种用于涂层处理的等离子装置的一种可选方案，其中：所述调节装置包括电机，所述电机的输出端上连接有丝杠，所述丝杠上螺纹连接有滑套，丝杠的转动可以带动滑套的移动，所述等离子发生器安装在滑套上，所述丝杠上还同轴设置有圆盘，所述圆盘的外周面上设置有一层防滑纹路，所述圆盘的外周面与转杆的侧面接触。
[0019]本技术具备以下有益效果：
[0020]1、通过将等离子发生器置于真空箱体内，压缩空气进入到空气管内，线圈通电以及水进入到水套管内，其中水为循环设置，在密封箱体中设置两个电极形成电场，用真空泵实现一定的真空度，随着气体愈来愈稀薄，分子间距及分子或离子的自由运动距离也愈来愈长，受电场作用，它们发生碰撞而形成等离子体，然后通过等离子喷头喷送出来，设置的真空室水冷机构可以对等离子喷头喷出的等离子体冷却降温处理；
[0021]在需要控制雾化喷嘴喷洒的水量大小时，使用者把传送管与水管连接，水源传送到水管内，此时使用者转动转杆，转杆转动带动密封块转动，密封块转动到一定位置关系时，滑槽与密封块上的流通槽相连通，此时水管内的水流流入到流通槽内，水流通过流通槽传送到转动板上，转杆转动带动连接杆转动，连接杆转动带动转动板转动，转动板转动到一
定位置后，水流的流量通过第一通孔与第二通孔接通的空隙中流送到槽体内，槽体内的水源进一步流送到第一喷嘴器内，此时第一喷嘴器开始喷洒水流，转杆便于调节雾化喷嘴喷洒的水流大小，从而控制喷洒时的水压，提高雾化喷嘴的工作效率，且在不使用时，使用者转动转杆，转杆带动密封块对水管进行封堵，即第一喷嘴器不能喷洒水流，使用调节便捷，结构简单。
[0022]2、该一种用于涂层处理的等离子装置，在需要调节雾化喷嘴喷洒的范围时，使用者推动推动杆，推动杆带动移动块在移动槽内滑动，移动块带动第二喷嘴器滑动，移动块在移动槽内滑动便于对第二喷嘴器在滑动时进行限位，避免第二喷嘴器在第一喷嘴器内滑动产生位移等现象，当滑动到具体想要喷洒的位置后，使用者固定推动杆即可，第二喷嘴器滑动便于调节第一喷嘴器喷洒的范围内，提高雾化喷嘴的实用性。
附图说明
[0023本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：包括箱体（21），所述箱体（21）内设置有等离子发生器（22）以及真空室水冷机构（23）；所述箱体（21）的一侧连接有真空系统（24），所述等离子发生器（22）包括阴极（25），所述阴极（25）的外侧套有水套管（26），所述水套管（26）的外侧套有空气管（27），所述空气管（27）的一端外侧缠绕有线圈（28），所述线圈（28）上连接有电源，所述阴极（25）的一端设置有可更换的阴极头（29），所述阴极头（29）设置在线圈（28）的内部，所述阴极头（29）的外端连接有阳极（30），所述阳极（30）内侧设置有放电腔（31），且在放电腔（31）的表面设置有电弧（32），所述阳极（30）的一端设置有等离子喷头（33），所述真空室水冷机构（23）设置在阳极（30）的侧面，所述箱体（21）的内部设置有用于调节等离子发生器（22）角度的调节装置（34）。2.根据权利要求1所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：真空室水冷机构（23）包括外壳（1）、水管（2）、转杆（3）以及第一喷嘴器（4），所述外壳（1）内开设有滑槽（5）与槽体（6），所述滑槽（5）与所述槽体（6）相连通，所述滑槽（5）内可滑动连接有密封块（7），所述密封块（7）上开设有流通槽（8），所述转杆（3）上固定连接有连接杆（9），所述连接杆（9）上固定连接有限流部件，所述转杆（3）用于将所述密封块（7）进行位置调整从而促使所述流通槽（8）与所述水管（2）相连通；所述限流部件为转动板（10），所述转动板（10）上开设有第一通孔（11），所述连接杆（9）用于促使所述转动板（10）进行转动。3.根据权利要求2所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述密封块（7）上固定连接有定位板（12），所述定位板（12）上开设有第二通孔（13），所述连接杆（9）用于促使所述第一通孔（11）与所述第二通孔（13）相连通，从而控制水流大小进入到所述槽体（6）内。4.根据权利要求2所述的一种用于涂层处理的等离子装置，其特征在于：所述密封块（7）上可转动连接有限位圈（14），所述限位圈（14）呈中空环形状...
【专利技术属性】
技术研发人员：阙永生，刘斌，汪庆蓉，卢彬彬，闫向领，鲍恩霞，鲍金胜，
申请(专利权)人：浙江鑫盛永磁科技股份有限公司，
类型：新型
国别省市：
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