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本实用新型涉及等离子装置技术领域，且公开了一种用于涂层处理的等离子装置，包括箱体，箱体内设置有等离子发生器以及真空室水冷机构；箱体的一侧连接有真空系统，等离子发生器包括阴极，阴极的外侧套有水套管，水套管的外侧套有空气管，空气管的一端外侧缠绕...
该专利属于浙江鑫盛永磁科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过浙江鑫盛永磁科技股份有限公司授权不得商用。

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