烹饪容器和烹饪器具制造技术

本发明专利技术提出了一种烹饪容器和烹饪器具，烹饪容器包括：容器本体，容器本体包括底壁；第一发热层，设置于底壁的中部区域；第二发热层，设置于容器本体上；其中，沿容器本体的高度方向进行投影，第一发热层的投影图形与第二发热层的投影图形之间的存在间隔区域，从底壁的中部至底壁的边缘的方向上，间隔区域的尺寸大于或等于2mm，并小于或等于15mm。本发明专利技术提出的烹饪容器在使用过程中可形成温差段，提升了烹饪容器内液体的沸腾效果。器内液体的沸腾效果。器内液体的沸腾效果。

【技术实现步骤摘要】
烹饪容器和烹饪器具


[0001]本专利技术涉及生活电器
，具体而言，涉及一种烹饪容器和烹饪器具。

技术介绍

[0002]相关技术中，在烹饪容器的容器本体上设置有金属发热层，进而通过电磁现象产生加热效果。但是，在烹饪容器使用过程中，对于烹饪容器内部食物的加热效果不佳，特别是加热液体时，烹饪容器内部液体的翻腾效果较差。

技术实现思路

[0003]本专利技术旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。
[0004]为此，本专利技术第一方面提供了一种烹饪容器。
[0005]本专利技术第二方面提供了一种烹饪容器。
[0006]本专利技术第三方面提供了一种烹饪器具。
[0007]有鉴于此，本专利技术的第一方面提出了一种烹饪容器，包括：容器本体，容器本体包括底壁；第一发热层，设置于底壁的中部区域；第二发热层，设置于容器本体上；其中，沿容器本体的高度方向进行投影，第一发热层的投影图形与第二发热层的投影图形之间的存在间隔区域，从底壁的中部至底壁的边缘的方向上，间隔区域的尺寸大于或等于2mm，并小于或等于15mm本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烹饪容器，其特征在于，包括：容器本体，所述容器本体包括底壁；第一发热层，设置于所述底壁的中部区域；第二发热层，设置于所述容器本体上；其中，沿所述容器本体的高度方向进行投影，所述第一发热层的投影图形与所述第二发热层的投影图形之间的存在间隔区域，从所述底壁的中部至所述底壁的边缘的方向上，所述间隔区域的尺寸大于或等于2mm，并小于或等于15mm。2.根据权利要求1所述的烹饪容器，其特征在于，所述间隔区域的尺寸大于或等于5mm，并小于或等于10mm。3.根据权利要求1所述的烹饪容器，其特征在于，所述第一发热层为圆形层或环形层；沿所述容器本体的高度方向进行投影，所述第二发热层的投影图形为环形，并分布于所述第一发热层的四周。4.根据权利要求1至3中任一项所述的烹饪容器，其特征在于，所述第二发热层的发热温度高于所述第一发热层的发热温度。5.根据权利要求4所述的烹饪容器，其特征在于，在所述烹饪容器使用过程中，所述第二发热层与所述第一发热层的温差，小于或等于200℃；和/或在所述烹饪容器使用过程中，所述第二发热层与所述间隔区域的温差，小于或等于200℃。6.根据权利要求1至3中任一项所述的烹饪容器，其特征在于，所述容器本体还包括侧壁，所述侧壁与所述底壁相连接；所述第二发热层的至少部分位于所述侧壁上。7.根据权利要求6所述的烹饪容器，其特征在于，所述第二发热层设置于所述侧壁上；或所述第二发热层自所述底壁延伸至所述侧壁。8.根据权利要求6所述的烹饪容器，其特征在于，所述第一发热层与所述底壁的面积比，大于或等于80％并小于100％；和/或设置于所述第二发热层的部分所述侧壁，与所述侧壁的高度比小于或等于1/3。9.根据权利要求1至3中任一项所述的烹饪容器，其特征在于，所述容器本体包括：陶瓷坯体；第一釉层，设置于所述陶瓷坯体的外壁；第二釉层，设置于所述陶瓷坯体的内壁；其中，所述第一发热层和所述第一发热层中至少一者设置于所述第一釉层或所述第二釉层上。10.根据权利要求9所述的烹饪容器，其特征在于，所述容器本体还包括：第三釉层，设置于所述第二釉层上，所述第三釉层的烧结温度低于所述第一釉层的烧结温度，所述第三釉层的烧结温度低于所述第二釉层的烧结温度；其中，所述第一发热层和所述第二发热层中至少一者连接于所述第二釉层和所述第三
釉层之间。11.根据权利要求10所述的烹饪容器，其特征在于，所述第三釉层包括氧化铝、氧化硅、氧化铋、氧化硼，在所述第三釉层中，所述氧化铝的重量百分比大于或等于1％并小于或等于20％，所述氧化硅的重量百分比大于或等于10％并小于或等于30％，所述氧化铋的重量百分比大于或等于30％并小于或等于55％，所述氧化硼的...

【专利技术属性】
技术研发人员：周瑜杰，万鹏，曹达华，李兴航，王婷，
申请(专利权)人：佛山市顺德区美的电热电器制造有限公司，
类型：发明
国别省市：