全方位镭雕设备及系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种全方位镭雕设备及系统，属于镭雕设备技术领域，包括翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。本实用新型专利技术达到提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。镭雕加工误差的技术效果。镭雕加工误差的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
全方位镭雕设备及系统


[0001]本技术属于镭雕设备
，特别涉及一种全方位镭雕设备及系统。

技术介绍

[0002]镭雕是一种利用光学原理对产品的表面进行处理的一种工艺，也称为激光雕刻或者激光打标，可以在产品的表面雕刻图案或文字，为产品做上标记，广泛应用于工业生产中。
[0003]目前，在现有的镭雕设备技术中，通常是将产品安装到治具上，再将治具安装到镭雕机上对产品的某一区域进行镭雕，待该区域镭雕完成后，人工将产品从治具上取出，并且人工对产品的摆放位置进行翻转，再将翻转后的产品安装到治具上，对产品的另一区域进行镭雕。但是，在对产品进行全方位的镭雕加工过程中，会耗费较多的人力去对产品的位置进行多次的调节，难以对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，也容易造成镭雕加工的误差较大，降低了镭雕效率。
[0004]综上所述，在现有的镭雕设备技术中，存在着镭雕效率低，镭雕加工的误差较大的技术问题。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的技术问题是镭雕效率低，镭雕加工的误差较大的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全方位镭雕设备，其特征在于，所述设备包括：翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。2.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述翻转机构还包括：伺服电机，所述伺服电机安装于所述支撑台，且所述伺服电机与所述旋转台连接。3.根据权利要求2所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述支撑台包括：底板、第一竖板和第二竖板，所述第一竖板和所述第二竖板分别与所述底板连接，所述伺服电机与所述第一竖板固定连接，所述旋转台与所述第二竖板转动连接，且所述伺服电机的转轴贯穿所述第一竖板与所述旋转台连接。4.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述旋转台包括：支撑座、第一卡紧端和第二卡紧端，所述支撑座转动的安装于所述支撑台，所述支撑座设置有通槽，所述镭雕区域位于所述通槽内；所述第一卡紧端和所述第二卡紧端均安装于所述支撑座，所述通槽位...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋日我，杨乐，杨阳光，王聪，
申请(专利权)人：东莞市新美洋技术有限公司，
类型：新型
国别省市：