全方位镭雕设备及系统技术方案

本实用新型专利技术公开了一种全方位镭雕设备及系统，属于镭雕设备技术领域，包括翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。本实用新型专利技术达到提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。镭雕加工误差的技术效果。镭雕加工误差的技术效果。

【技术实现步骤摘要】
全方位镭雕设备及系统


[0001]本技术属于镭雕设备
，特别涉及一种全方位镭雕设备及系统。

技术介绍

[0002]镭雕是一种利用光学原理对产品的表面进行处理的一种工艺，也称为激光雕刻或者激光打标，可以在产品的表面雕刻图案或文字，为产品做上标记，广泛应用于工业生产中。
[0003]目前，在现有的镭雕设备技术中，通常是将产品安装到治具上，再将治具安装到镭雕机上对产品的某一区域进行镭雕，待该区域镭雕完成后，人工将产品从治具上取出，并且人工对产品的摆放位置进行翻转，再将翻转后的产品安装到治具上，对产品的另一区域进行镭雕。但是，在对产品进行全方位的镭雕加工过程中，会耗费较多的人力去对产品的位置进行多次的调节，难以对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，也容易造成镭雕加工的误差较大，降低了镭雕效率。
[0004]综上所述，在现有的镭雕设备技术中，存在着镭雕效率低，镭雕加工的误差较大的技术问题。

技术实现思路

[0005]本技术所要解决的技术问题是镭雕效率低，镭雕加工的误差较大的技术问题。
[0006]为解决上述技术问题，本技术提供了一种全方位镭雕设备，所述设备包括：翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。
[0007]进一步地，所述翻转机构还包括：伺服电机，所述伺服电机安装于所述支撑台，且所述伺服电机与所述旋转台连接。
[0008]进一步地，所述支撑台包括：底板、第一竖板和第二竖板，所述第一竖板和所述第二竖板分别与所述底板连接，所述伺服电机与所述第一竖板固定连接，所述旋转台与所述第二竖板转动连接，且所述伺服电机的转轴贯穿所述第一竖板与所述旋转台连接。
[0009]进一步地，所述旋转台包括：支撑座、第一卡紧端和第二卡紧端，所述支撑座转动的安装于所述支撑台，所述支撑座设置有通槽，所述镭雕区域位于所述通槽内；所述第一卡紧端和所述第二卡紧端均安装于所述支撑座，所述通槽位于所述第一卡紧端和第二卡紧端之间。
[0010]进一步地，所述导引机构包括：安装于所述第一支撑柱的导轨，以及与所述导轨滑动连接的滑块，所述导轨沿所述第一支撑柱的长度延伸方向设置，所述滑块与所述第二支
撑柱连接。
[0011]进一步地，所述镭雕机构包括还包括：反射镜片，所述反射镜片至少包括反光面，所述镭雕头发射的激光束经所述反光面反射至所述镭雕区域。
[0012]进一步地，所述反射镜片还包括透光面；所述镭雕机构包括还包括图像检测装置，所述图像检测装置接收经所述透光面透过的来自所述镭雕区域的光束。
[0013]进一步地，所述镭雕机构还包括；防护机构，所述防护机构安装于所述镭雕头，且所述防护机构与所述镭雕头围合形成防护区，所述反射镜片安装于所述防护区，所述防护区位于所述图像检测装置与所述支撑台之间。
[0014]进一步地，所述设备还包括；操作台，所述支撑台和所述第一支撑柱分别设于所述操作台。
[0015]依据本技术的又一个方面，本技术还提供一种全方位镭雕系统，包括可供安装目标产品的治具，还包括所述的全方位镭雕设备，所述治具安装于所述镭雕区域。
[0016]有益效果：
[0017]本技术提供一种全方位镭雕设备，通过翻转机构中旋转台转动的安装于支撑台，旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品。镭雕机构中导引机构安装于第一支撑柱，第二支撑柱与导引机构连接，第二支撑柱以通过导引机构可以沿着所述第一支撑柱的长度延伸方向进行移动，镭雕头安装于第二支撑柱，并且镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。这样在对产品进行全方位的镭雕加工的过程中，镭雕头发射的激光束照射至位于镭雕区域的目标产品的正面上，可以对目标产品的正面进行镭雕，待对目标产品的正面镭雕完成后，旋转台的转动会带动目标产品翻转至背面朝向激光束的照射方向，此时镭雕头发射的激光束会度位于镭雕区域的目标产品的背面进行镭雕，继而能够较快的对目标产品的正面和反面进行镭雕，实现对产品的不同区域进行连续的镭雕加工，会降低镭雕加工的误差，提高了镭雕效率。从而达到了提高镭雕加工效率，降低镭雕加工误差的技术效果。
附图说明
[0018]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0019]图1为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图一；
[0020]图2为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图二；
[0021]图3为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备中镭雕头和反射镜片的放大结构示意图；
[0022]图4为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备中激光束和反射镜片的夹角示意图；
[0023]图5为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备中翻转机构的结构示意图；
[0024]图6为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备中镭雕头和防护机构的结构示意图；
[0025]图7为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图三；
[0026]图8为本技术实施例提供的一种全方位镭雕设备的结构示意图四。
[0027]附图中各标号的含义为：1
‑
操作台；2
‑
镭雕机构；3
‑
翻转机构；4
‑
第一支撑柱；5
‑
第二支撑柱；6
‑
镭雕头；7
‑
激光束；8
‑
反射镜片；9
‑
支撑台；10
‑
目标产品；11
‑
伺服电机；12
‑
图像检测装置；13
‑
治具；14
‑
防护机构；15
‑
旋转台；16a—支撑座，16b—第一卡紧端，16c—第二卡紧端，17
‑
导轨；18
‑
滑块；19
‑
旋钮组件；21
‑
电源按钮；22
‑
急停按钮；23
‑
开关按钮；24
‑
上升按钮；25
‑
下降按钮；26
‑
控制屏；27
‑
设备箱；41
‑
底座；91
‑
底板；92
‑
第一竖板；93
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种全方位镭雕设备，其特征在于，所述设备包括：翻转机构和镭雕机构，所述翻转机构包括支撑台以及转动的安装于所述支撑台的旋转台，所述旋转台设置有镭雕区域，所述镭雕区域可供安装目标产品；所述镭雕机构包括第一支撑柱、导引机构、第二支撑柱和镭雕头，所述导引机构安装于所述第一支撑柱；所述第二支撑柱与所述导引机构连接，以通过所述导引机构沿所述第一支撑柱的长度延伸方向移动；所述镭雕头安装于所述第二支撑柱，且所述镭雕头发射的激光束照射至所述镭雕区域。2.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述翻转机构还包括：伺服电机，所述伺服电机安装于所述支撑台，且所述伺服电机与所述旋转台连接。3.根据权利要求2所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述支撑台包括：底板、第一竖板和第二竖板，所述第一竖板和所述第二竖板分别与所述底板连接，所述伺服电机与所述第一竖板固定连接，所述旋转台与所述第二竖板转动连接，且所述伺服电机的转轴贯穿所述第一竖板与所述旋转台连接。4.根据权利要求1所述的全方位镭雕设备，其特征在于，所述旋转台包括：支撑座、第一卡紧端和第二卡紧端，所述支撑座转动的安装于所述支撑台，所述支撑座设置有通槽，所述镭雕区域位于所述通槽内；所述第一卡紧端和所述第二卡紧端均安装于所述支撑座，所述通槽位...

【专利技术属性】
技术研发人员：蒋日我，杨乐，杨阳光，王聪，
申请(专利权)人：东莞市新美洋技术有限公司，
类型：新型
国别省市：