【技术实现步骤摘要】
多肽、包括其的光刻胶组合物、和使用其形成图案的方法
[0001]对相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求在韩国知识产权局于2021年12月9日提交的韩国专利申请No.10
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2021
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0176113的优先权以及由其产生的所有权益,将其公开内容全部通过引用引入本文中。
[0003]本公开内容涉及多肽、包括所述多肽的光刻胶组合物、和通过使用所述光刻胶组合物形成图案的方法。
技术介绍
[0004]半导体器件的高度集成已经促成对于在所述器件中的更高分辨率和更精确的图案化的增长的需要。化学放大材料常规地用于光刻胶;然而,这样的材料可导致在光刻胶显影期间的酸扩散,其又使得更加难以在半导体器件中实现精细或高分辨率的图案。而且,目前用于形成光刻胶和/或使光刻胶显影的材料的许多可为对人类健康和环境潜在地有害的。
[0005]因此,存在对于如下的生态友好的光刻胶材料的需求:其适合用于实现高分辨率的图案(例如,在半导体器件中),且减小或消除对于在图案化过程中的潜在有害的化学品的需要或这样的化学品/材料向环境中的释放。
技术实现思路
[0006]提供用于光刻胶的多肽和包括所述多肽的光刻胶组合物。另外,提供通过在图案化过程中使用所述光刻胶组合物形成图案例如半导体器件中的图案的生态友好的方法。
[0007]另外的方面将部分地在随后的描述中阐明,且部分地将由所述描述明晰,或者可通过本公开内容的所呈现的实施方式的实践获悉。
[0008]根据一个方面的多
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.多肽,包括区域A、区域B、和区域C,其中区域A具有20%或更大的丙氨酸含量并且包括具有4
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10个连续氨基酸残基的第一重复单元,区域B具有10%或更大的酪氨酸含量并且包括具有4
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10个连续氨基酸残基的第二重复单元,和区域C具有50%或更大的天冬氨酸或谷氨酸的至少一种的含量并且包括具有2
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8个连续氨基酸残基的第三重复单元。2.如权利要求1所述的多肽,其中在所述第三重复单元中,天冬氨酸或谷氨酸的至少一种的含量为70%或更大。3.如权利要求1所述的多肽,其中所述第三重复单元由天冬氨酸或谷氨酸的至少一种组成。4.如权利要求1所述的多肽,其中所述第一重复单元由式1表示,所述第二重复单元由式2表示,和所述第三重复单元由式3表示:式1X
11
‑
(Ala
‑
X
12
)
n11
‑
X
13
,式2X
21
‑
(X
22
‑
X
23
)
n21
‑
Tyr,式3X
31
‑
(X
32
‑
X
33
)
n31
‑
X
34
,其中在式1、2和3中,X
11
和X
12
各自独立地为Gly或Ala,X
13
为Ser或Ala,且n11为1
‑
4的整数;X
21
和X
23
各自独立地为Gly或Ala,X
22
为Gly、Ala、或Val,且n21为1
‑
4的整数;和X
31
‑
X
34
各自独立地为Asp或Glu,且n31为0
‑
3的整数。5.如权利要求4所述的多肽,其中,在式1中,X
11
和X
12
各自为Gly,X
13
为Ser,且n11为1或2,和在式2中,X
21
和X
23
各自为Gly,X
22
为Ala或Val,且n21为1、2、或3。6.如权利要求1所述的多肽,其中所述第一重复单元为Gly
‑
Ala
‑
Gly
‑
Ala
‑
Gly
‑
Ser或Gly
‑
Ala
‑
Ala
‑
Ser,所述第二重复单元为Gly
‑
Ala
‑
Gly
‑
Tyr、Gly
‑
Ala
‑
Gly
‑
Ala
‑
Gly
‑
Tyr、Gly
‑
Ala
‑
Gly
‑
Val
‑
Gly
‑
Ala
‑
G...
【专利技术属性】
技术研发人员:金智恩,郑焞天,金镇夏,朴焌盛,
申请(专利权)人:三星电子株式会社,
类型:发明
国别省市:
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