本发明专利技术公开了基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备，该清洗设备包括安装框架，安装框架内设置有清洗仓，清洗仓上设置有多个微波模块，清洗仓通过真空导管与真空泵连通，清洗仓上设置有真空计，真空导管上设置有破真空阀门与挡板阀门，清洗仓两侧分别设置有腔体门，腔体门与清洗仓旋转连接，相邻微波模块分别通过分流导管连接，分流导管远离微波模块一端与充气泵连接，每个微波模块、清洗仓分别通过导线与控制微机电性连接，安装框架上设置有多个防护板，每个防护板分别与安装框架旋转连接，靠近安装框架顶端的防护板上设置有多个散热风扇，本发明专利技术具有石墨舟上氮化硅涂层自动去除功能。层自动去除功能。层自动去除功能。
【技术实现步骤摘要】
基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备
[0001]本专利技术涉及石墨舟清洗
，具体为基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备。
技术介绍
[0002]石墨舟是一个像小船一样的石墨容器，就像一个盒子一样，用来做光伏行业的生产模具，因为看起来像一个船，形状是舟型的，所以被称为石墨舟，通俗来讲，石墨舟就是石墨模具，石墨模具本身是一种载体，可以把我们需要定位或定型的原材料和零部件一起放于石墨模具中高温烧结成型，石墨模具是选用人造石墨经机械加工而成的，所以石墨模具有时成为石墨舟，也有称为石墨船的。
[0003]但是石墨舟在使用之前或使用后，其表层会存在大量的氮化硅涂层，为了避免这些涂层会对接下来的生产工作带来影响，通常要对其进行氮化硅涂层进行去除，目前在光伏行业里，石墨舟去除氮化硅涂层主要用的工艺是湿法去除，传统的湿法去涂层工艺缺点，一方面设备占地面积大，而且处理时间长及整个湿法处理工艺过程中会产生大量废液，造成环境污染的问题，为了改善这一现状，工程师们开始探究一种干法去除的手段，既可以对石墨舟的氮化硅涂层进行去除，同时还能减少资源浪费，避免污染问题。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备。
[0006]该清洗设备包括安装框架，安装框架内设置有清洗仓，清洗仓上设置有多个微波模块，清洗仓通过真空导管与真空泵连通，清洗仓上设置有真空计，真空导管上设置有破真空阀门与挡板阀门，清洗仓两侧分别设置有腔体门，腔体门与清洗仓旋转连接，相邻微波模块分别通过分流导管连接，分流导管远离微波模块一端与充气泵连接，每个微波模块、清洗仓分别通过导线与控制微机电性连接，安装框架上设置有多个防护板，每个防护板分别与安装框架旋转连接，靠近安装框架顶端的防护板上设置有多个散热风扇，将需要处理的产品放进真空腔体，关上腔门，清洗仓在真空泵的作用下达到需要的真空环境，工艺气体经过微波模块后将会获得高密度而稳定的微波等离子体，微波等离子体将会进入到清洗仓内，在高浓度的微波等离子体环境中，石墨舟上的氮化硅涂层会发生化学反应形成气体，最终通过真空泵不断抽真空将反应后的气体排出腔体外，从而达到对石墨舟上的氮化硅涂层去除的效果，而防护板将会对内部设备进行保护与支撑，同时也可以对内部的清洗仓等部件进行及时的降温，挡板阀门负责关断和接通清洗仓和真空泵之间的真空连接管道，破真空阀则连通清洗仓和大气环境。
[0007]微波模块包括微波发生器，每个微波发生器上设置有隔离器，隔离器上设置有水
负载组件，隔离器上设置有三销钉调配器，三销钉调配器远离隔离器一端设置有拐波导，拐波导远离三销钉调配器上设置有馈电箱，馈电箱内上设置有多个散热器，馈电箱上设置有工艺进气口，馈电箱通过分流导管与充气泵连通，馈电箱上设置有短路器，馈电箱出气口与清洗仓连通，微波发生器依次启动产生微波，经过隔离器、水负载、三销钉调配器、馈电箱，并从微波馈入口馈入到真空腔体里面，工艺气体从进气分流网络均匀地分流到套微波模块，工艺气体从馈电箱进入腔体里面，工艺气体会被电离生成微波等离子体，其中的水负载可以吸收掉微波的反射功率，短路器可以将电磁波能量全部反射回去，集中到微波馈口处，再通过三销钉调配器改变负载的阻抗数值从而消除反射功率，最终达到微波匹配的效果，从而获得高密度而稳定的微波等离子体。
[0008]清洗仓包括真空腔体与腔体门，腔体门与真空腔体通过旋转轴旋转连接，真空腔体底端设置有多个分流片，每个分流片分别与真空腔体内壁可拆卸连接，真空腔体底端与真空导管连通，真空腔体内设置有移动组件，移动组件设置在真空腔体内壁上，真空腔体上设置有移动电机，移动电机输出端穿过真空腔体与移动组件连接，当微波等离子体进入到真空腔体后，微波等离子体将会对石墨舟上的氮化硅层进行清洗，等到清洗完成后，微波等离子体将会带着清洗完成的碎屑进入到真空到管内，为了使得碎屑完全脱离，移动组件在移动电机的作用下进行将会带着石墨舟进行晃动，晃动的石墨舟碎屑将会更加轻松的脱离，同时还可以增加微波等离子体的流动性，使得反应更加完全。
[0009]移动组件包括安装盘与锁定架，安装盘与真空腔体滑动连接，安装盘底端设置有齿牙，安装盘上设置有锁定架，锁定架与安装盘滑动连接，移动电机输出端设置有球状齿轮，安装盘上的齿牙与球状齿轮连接，真空腔体内壁上设置有摇晃滑道，安装盘两侧分别嵌入摇晃滑道内并与摇晃滑道滑动连接，移动电机带动球状齿轮进行旋转，球状齿轮始终与安装盘啮合，因此移动电机将会带动安装盘进行移动，将石墨舟放置在安装盘上后，锁定架将锁住石墨舟，随后，石墨舟送进清洗箱内进行清洗，在清洗的过程中，移动电机带动安装盘进行移动，安装盘将会在摇晃滑动内进行游走，产生倾斜晃动的效果，从而使得石墨舟在真空腔体内得以更加彻底的清洗。
[0010]锁定架上设置有移动滚轮，移动滚轮与锁定架旋转连接，锁定架上设置有锁定槽，安装盘上设置有锁定键，锁定键与安装盘滑动连接，锁定架与锁定槽间歇性滑动接触，安装盘两侧分别设置有缓冲座，缓冲座分别与安装盘滑动连接，缓冲座与安装盘之间设置有缓冲弹簧，缓冲弹簧两端分别与安装盘、缓冲座连接，在进行摇晃的过程中，为了增加化学反应的面积，移动滚轮安装的位置也将会得到清理，在安装完成后，按下锁定键，锁定键将会卡进锁定槽内，使得锁定架得以固定，在石墨舟进行晃动的过程中，移动滚轮也将会随之进行转动，从而时刻保持对石墨舟夹持状态，而缓冲座将会在安装盘上进行滑动，而缓冲弹簧将会抵住缓冲座，使得石墨舟得到足够的缓冲。
[0011]馈电箱出气口上设置有连接管，连接管内设置有防逆环，防逆环上设置有防逆轴，防逆轴上设置有防逆涡轮，防逆涡轮与防逆轴旋转连接，防逆轴上设置有防逆槽，防逆涡轮上设置有防逆弹片，防逆弹片与防逆槽滑动接触，在进行清洗的过程中，为了避免清洗后的等离子体发生逆流的问题，在微波等离子体从馈电箱出来后，馈电箱内的防逆涡轮将会在微波等离子体流动的作用下进行旋转，防逆涡轮在防逆轴与防逆弹片的作用下进行单方向旋转，从而达到防止逆流的效果。
[0012]连接管上设置有分配管道，分配管道上设置有分气排，分气排内设置有多个分气扇叶，分气扇叶与分配管道旋转连接，相邻分气扇叶通过传动皮带连接，分气排上设置有多个分气孔，分气孔内设置有加热网罩，加热网罩通过导线与馈电箱电性连接，在进行微波等离子体分配时，微波等离子体率先进入到分配管道内，在真空泵以及分配管道的作用下，分气扇叶将会进行转动，从而达到全方位的引流效果，避免单一的出气方向，导致石墨舟出现清洗遗漏或者清洗力度不足的问题，同时加热网罩可以对微波等离子体在流动过程中的热量损失进行补偿。
[0013]真空导管上设置有换热导管，换热导管缠绕在真空导管上，真空导管上设置有换热槽，换热导管嵌入换热槽内，换热导管两端与分流导管、充气泵连通，真空导管上设置有过滤本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备，其特征在于：该清洗设备包括安装框架(1)，所述安装框架(1)内设置有清洗仓(2)，所述清洗仓(2)上设置有多个微波模块(3)，清洗仓(2)通过真空导管(6)与真空泵(4)连通，所述清洗仓(2)上设置有真空计(5)，所述真空导管(6)上设置有破真空阀门与挡板阀门，所述清洗仓(2)两侧分别设置有腔体门(20)，所述腔体门(20)与清洗仓(2)旋转连接，所述相邻所述微波模块(3)分别通过分流导管(9)连接，所述分流导管(9)远离微波模块(3)一端与充气泵连接，每个所述微波模块(3)、清洗仓(2)分别通过导线与控制微机(10)电性连接，所述所述安装框架(1)上设置有多个防护板(11)，每个所述防护板(11)分别与安装框架(1)旋转连接，靠近所述安装框架(1)顶端的防护板(11)上设置有多个散热风扇(12)。2.根据权利要求1所述的基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备，其特征在于：所述微波模块(3)包括微波发生器(301)，每个所述微波发生器(301)上设置有隔离器(302)，所述隔离器(302)上设置有水负载组件(303)，所述隔离器(302)上设置有三销钉调配器(304)，所述三销钉调配器(304)远离隔离器(302)一端设置有拐波导(305)，所述拐波导(305)远离三销钉调配器(304)上设置有馈电箱(306)，所述馈电箱(306)内上设置有多个散热器(308)，馈电箱(306)上设置有工艺进气口(309)，所述馈电箱(306)通过分流导管(9)与充气泵连通，所述馈电箱(306)上设置有短路器(310)，所述馈电箱(306)出气口与清洗仓(2)连通。3.根据权利要求1所述的基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备，其特征在于：所述清洗仓(2)包括真空腔体(201)与腔体门(20)，所述腔体门(20)与真空腔体(201)通过旋转轴旋转连接，所述真空腔体(201)底端设置有多个分流片(203)，每个所述分流片(203)分别与真空腔体(201)内壁可拆卸连接，所述真空腔体(201)底端与真空导管(6)连通，所述真空腔体(201)内设置有移动组件(13)，所述移动组件(13)设置在真空腔体(201)内壁上，所述真空腔体(201)上设置有移动电机(14)，所述移动电机(14)输出端穿过真空腔体(201)与移动组件(13)连接。4.根据权利要求3所述的基于微波等离子干法清洗氮化硅涂层的石墨舟清洗设备，其特征在于：所述移动组件(13)包括安装盘(1301)与锁定架(1302)，所述安装盘(1301)与真空腔体(201)滑动连接，所述安装盘(1301)底端设置有齿牙，所述安装盘(1301)上设置有锁定架(1302)，所述锁定架(1302)与安装盘(1301)滑动连接，所述移动电机(14)输出端设置有球状齿轮(1401)，所述安装盘(1301)上的齿牙与球状齿轮(1401)连接，所述真空腔体(201)内壁上设置有摇晃滑道(204)，所述安装盘(1301)两侧分别嵌入...
【专利技术属性】
技术研发人员：苏宜鹏，冼健威，李南杰，
申请(专利权)人：东莞市晟鼎精密仪器有限公司，
类型：发明
国别省市：
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