一种电解槽支撑结构以及电解槽装置制造方法及图纸

本申请公开一种电解槽支撑结构以及电解槽装置，电解槽支撑结构包括至少一对支撑轮，所述支撑轮用于接触并支撑电解槽；所述电解槽支撑结构还包括位于所述支撑轮下方的调节组件，所述调节组件包括驱动部件以及斜面配合的第一楔块、第二楔块，所述驱动部件驱动所述第一楔块相对所述第二楔块移动，以调节所述支撑轮的高度。该电解槽支撑结构可以改善电解槽下陷的问题。陷的问题。陷的问题。

【技术实现步骤摘要】
一种电解槽支撑结构以及电解槽装置


[0001]本技术涉及水电解制氢
，具体涉及一种电解槽支撑结构以及电解槽装置。

技术介绍

[0002]在国内碱水电解水制氢装置中，为了追求更大的产量，电解槽的多个电解小室往往串联在一起，导致电解槽装置越来越长，质量越来越大。
[0003]电解槽的外周设置有隔垫，而电解槽长度和质量的增加对隔垫提出了越来越高的要求，但由于隔垫需要兼顾绝缘、密封等作用，隔垫的机械性能和稳定性无法无限制地提高。在此前提下，现有已经在使用的大型电解槽装置存在中间段下陷的问题，严重时会直接导致泄露或者短路。

技术实现思路

[0004]本申请的目的在于提供一种电解槽支撑结构以及电解槽装置，以改善电解槽下陷的问题。
[0005]本申请提供的电解槽支撑结构，包括至少一对支撑轮，所述支撑轮用于接触并支撑电解槽；所述电解槽支撑结构还包括位于所述支撑轮下方的调节组件，所述调节组件包括驱动部件以及斜面配合的第一楔块、第二楔块，所述驱动部件驱动所述第一楔块相对所述第二楔块移动，以调节所述支撑轮的高度。
[0006]在一种具体实施方式中，所述驱动部件包括驱动螺栓，或所述驱动部件包括驱动缸。
[0007]在一种具体实施方式中，所述支撑轮支撑在所述第一楔块的上方，所述调节组件还包括两个相对布置的所述第二楔块，所述第一楔块的表面包括相接的第一斜面和第二斜面，所述第一斜面和所述第二斜面的倾斜方向相反；所述第二楔块包括第三斜面，一个所述第二楔块的所述第三斜面和所述第一斜面配合，另一个所述第二楔块的所述第三斜面和所述第二斜面配合；
[0008]所述驱动螺栓贯穿两个所述第二楔块，所述驱动螺栓用于驱动两个所述第二楔块相互靠近或者远离，以调节所述第一楔块的高度。
[0009]在一种具体实施方式中，所述调节组件包括上、下布置的两个所述第一楔块，上侧的所述第一楔块的下侧表面包括相接的所述第一斜面、所述第二斜面，下侧的所述第一楔块的上侧表面包括相接的所述第一斜面、所述第二斜面；两个所述第二楔块位于两个所述第一楔块之间，每个所述第二楔块的上、下侧表面均包括所述第三斜面。
[0010]在一种具体实施方式中，所述第一楔块为环形，所述第一楔块环形的内侧表面包括所述第一斜面和所述第二斜面，所述第一斜面和所述第二斜面均为圆锥形斜面；所述第二楔块为圆锥形楔块，所述圆锥形楔块的环形的锥形外表面包括所述第三斜面。
[0011]在一种具体实施方式中，还包括支撑架，所述支撑架的顶部设置所述支撑轮，所述
支撑架的底部设置所述调节组件。
[0012]在一种具体实施方式中，还包括滑块，所述调节组件支撑于所述滑块之上，所述调节组件能够沿所述滑块滑动。
[0013]在一种具体实施方式中，所述电解槽支撑结构中，至少所述支撑轮为绝缘部件，所述绝缘部件为绝缘材料制成或者所述绝缘部件的外表面包裹有绝缘材料层。
[0014]本申请还提供一种电解槽装置，包括电解槽和上述任一项所述的电解槽支撑结构，所述电解槽包括沿外周分布的多个电解槽螺栓；一对所述支撑轮位于相邻两个所述电解槽螺栓之间，或者，一个所述电解槽螺栓位于一对所述支撑轮之间。
[0015]本申请中的电解槽支撑结构可以支撑电解槽，从而改善或防止电解槽基于质量、长度的增加而下陷，缓解电解槽的安全隐患。并且，电解槽支撑结构通过驱动部件驱动第一楔块、第二楔块相对移动以调节支撑轮的高度，一方面使得电解槽支撑结构的应用更为灵活，而且也可以更为精确地调节支撑的高度，让电解槽处于最佳状态运行。
附图说明
[0016]图1为本申请第一实施例中电解槽装置的示意图；
[0017]图2为图1中电解槽支撑结构位置的放大图；
[0018]图3为图2中电解槽支撑结构的调节组件的示意图；
[0019]图4为图3中调节组件高度增高后的示意图；
[0020]图5为本申请第二实施例中电解槽装置的示意图；
[0021]图6为图5中电解槽支撑结构位置的放大图。
[0022]图1
‑
6中附图标记说明如下：
[0023]100
‑
电解槽支撑结构；1
‑
基础；2
‑
滑块；3
‑
支撑轮；4
‑
支撑架；41
‑
基座；42
‑
支架；5
‑
调节组件；51
‑
第一楔块；51a
‑
第一斜面；51b
‑
第二斜面；52
‑
第二楔块；52a
‑
第三斜面；53
‑
驱动螺栓；
[0024]200
‑
电解槽；201
‑
电解槽螺栓。
具体实施方式
[0025]为了使本
的人员更好地理解本技术方案，下面结合附图和具体实施方式对本技术作进一步的详细说明。
[0026]请参考图1
‑
4，图1为本申请第一实施例中电解槽装置的示意图；图2为图1中电解槽支撑结构100位置的放大图；图3为图2中电解槽支撑结构100的调节组件5的示意图；图4为图3中调节组件5高度增高后的示意图。
[0027]本实施例中电解槽支撑结构100，用于支撑电解槽200，如图1所示，电解槽200的轴线水平延伸，即电解槽200水平布置，电解槽支撑结构100位于电解槽200的下方，用于支撑电解槽200。本实施例中的电解槽支撑结构100包括至少一对支撑轮3，支撑轮3用于接触并支撑电解槽200，如图1所示，支撑轮3支撑在电解槽200的外周表面，图1中示意出一对支撑轮3，也可以是两对或者两对以上，两对或者两对以上支撑轮3可以沿平行于电解槽200的轴向分布。
[0028]电解槽支撑结构100还包括位于支撑轮3下方的调节组件5，调节组件5包括第一楔
块51、第二楔块52以及驱动部件，第一楔块51和第二楔块52斜面配合，这样，驱动部件驱动第一楔块51相对第二楔块52移动，可以调节支撑轮3的高度。
[0029]具体地，该实施例中的电解槽支撑结构100包括上、下布置的两个第一楔块51，支撑轮3支撑在第一楔块51的上方，具体是支撑在上侧第一楔块51的上方，另外，调节组件5还包括两个相对布置的第二楔块52，两个第二楔块52位于两个第一楔块51之间。其中，第一楔块51的表面包括相接的第一斜面51a和第二斜面51b，第一斜面51a和第二斜面51b的倾斜方向相反，上侧的第一楔块51的下侧表面包括相接的第一斜面51a、第二斜面51b，下侧的第一楔块51的上侧表面包括相接的第一斜面51a、第二斜面51b，图3中，上侧的第一楔块51的下表面下凸，下侧的第一楔块51的上表面上凸。
[0030]调节组件5的第二楔块52则包括第三斜面52a，图3中第二楔块52包括上侧表面和下侧表面，且上侧表面、下侧表面均包括第三斜面52a本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种电解槽支撑结构，其特征在于，包括至少一对支撑轮，所述支撑轮用于接触并支撑电解槽；所述电解槽支撑结构还包括位于所述支撑轮下方的调节组件，所述调节组件包括驱动部件以及斜面配合的第一楔块、第二楔块，所述驱动部件驱动所述第一楔块相对所述第二楔块移动，以调节所述支撑轮的高度。2.根据权利要求1所述的电解槽支撑结构，其特征在于，所述驱动部件包括驱动螺栓，或所述驱动部件包括驱动缸。3.根据权利要求2所述的电解槽支撑结构，其特征在于，所述支撑轮支撑在所述第一楔块的上方，所述调节组件还包括两个相对布置的所述第二楔块，所述第一楔块的表面包括相接的第一斜面和第二斜面，所述第一斜面和所述第二斜面的倾斜方向相反；所述第二楔块包括第三斜面，一个所述第二楔块的所述第三斜面和所述第一斜面配合，另一个所述第二楔块的所述第三斜面和所述第二斜面配合；所述驱动螺栓贯穿两个所述第二楔块，所述驱动螺栓用于驱动两个所述第二楔块相互靠近或者远离，以调节所述第一楔块的高度。4.根据权利要求3所述的电解槽支撑结构，其特征在于，所述调节组件包括上、下布置的两个所述第一楔块，上侧的所述第一楔块的下侧表面包括相接的所述第一斜面、所述第二斜面，下侧的所述第一楔块的上侧表面包括相接的所述第一斜面、所述第二斜面...

【专利技术属性】
技术研发人员：王俊华，白建明，叶阜，董太明，黄振国，刘海锋，单小勇，王昕，侯朋飞，
申请(专利权)人：华电重工股份有限公司，
类型：新型
国别省市：