器件近场扫描方法、装置、计算机设备、存储介质制造方法及图纸

技术编号:37852405 阅读:25 留言:0更新日期:2023-06-14 22:43
本申请涉及一种器件近场扫描方法、装置、计算机设备、存储介质。所述方法包括:获取待检测器件的第一扫描区域,并确定第一扫描区域中的多个扫描点;控制磁场探头分别在各扫描点位置进行扫描,获取各扫描点对应的磁场测量参数,磁场测量参数用于表征扫描点位置场强变化最大的方向以及场强变化的剧烈程度;根据各扫描点对应的磁场测量参数确定待检测器件的第二扫描区域;获取当前迭代次数,若当前迭代次数小于预设迭代次数,将第二扫描区域作为新的第一扫描区域,对当前迭代次数进行加一,并返回确定第一扫描区域中的多个扫描点的步骤。采用本方法能够针对器件电磁场发射较强的区域进行扫描,缩短扫描时间,提高扫描效率。提高扫描效率。提高扫描效率。

【技术实现步骤摘要】
器件近场扫描方法、装置、计算机设备、存储介质


[0001]本申请涉及电子制造
,特别是涉及一种器件近场扫描方法、装置、计算机设备、存储介质和计算机程序产品。

技术介绍

[0002]随着集成电路工艺等电子制造技术的发展,芯片及电路板朝着高集成、高速化方向发展,而这也导致产品的电磁可靠性问题变得越来越严重,而且芯片/电路的集成度高,规模大,一旦发生故障,传统的人工排查也越来也难以进行。基于近场扫描的故障定位方法是现今处理EMC设计问题最有效的方法。但是因为近场扫描探头的灵敏度和精度差异以及所扫描器件的尺寸不同,使得的扫描的时间较大,进行一次扫描需要几个小时甚至几天的时间,扫描效率较低。如果能够快速定位到电磁场辐射比较大的区域,从而只对这些辐射较大的区域进行较为密集的扫描,而电磁场辐射较为稀疏的区域则做稀疏扫描或者不扫描,从而能够减少整体的扫描时间。
[0003]目前使用比较广泛的扫描方式是固定步长对整个被测器件进行扫描,扫描的效率较低。一种改进方案是变步长扫描,也就是在扫描到电磁场发射较强的区域时,自动减小步长,而扫描到较为稀疏的区域本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种器件近场扫描方法,其特征在于,所述方法包括:获取待检测器件的第一扫描区域,并确定所述第一扫描区域中的多个扫描点;控制磁场探头分别在各扫描点位置进行扫描,获取各扫描点对应的磁场测量参数,所述磁场测量参数用于表征扫描点位置场强变化最大的方向以及场强变化的剧烈程度;根据各扫描点对应的磁场测量参数确定所述待检测器件的第二扫描区域,所述第二扫描区域小于所述第一扫描区域;获取当前迭代次数,若所述当前迭代次数小于预设迭代次数,将所述第二扫描区域作为新的第一扫描区域,对所述当前迭代次数进行加一,并返回所述确定所述第一扫描区域中的多个扫描点的步骤。2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述方法还包括:若所述当前迭代次数不小于预设迭代次数,将所述第二扫描区域作为目标扫描区域,控制磁场探头对所述目标扫描区域进行扫描。3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述确定所述第一扫描区域中的多个扫描点,包括:根据磁场探头高度确定所述第一扫描区域对应的扫描步长,所述扫描步长用于表征所述第一扫描区域中每一个扫描点之间的间距;获取所述第一扫描区域的区域长度和区域宽度;根据磁场探头中环路半径、所述区域长度、所述区域宽度和所述扫描步长,确定所述第一扫描区域的扫描点数量;根据所述扫描点数量和所述扫描步长,确定所述第一扫描区域中的多个扫描点的位置。4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述磁场探头高度的确定方式,包括:根据所述待检测器件的整体磁场强度,确定所述磁场探头高度。5.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述磁场探头中环路半径的确定方式,包括:根据所述待检测器件的扫描任务需求,确定磁场探头需要的空间分辨率;确定规格参数与所述空间分辨率相匹配的磁场探头,以获取相应规格参数中的磁场...

【专利技术属性】
技术研发人员:黄权方文啸阮建高孙宸邵伟恒黄云路国光
申请(专利权)人:中国电子产品可靠性与环境试验研究所工业和信息化部电子第五研究所中国赛宝实验室
类型:发明
国别省市:

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