一种溅射镀膜装置制造方法及图纸

一种溅射镀膜装置，包括设置在真空腔体中的溅射靶、防护罩、两个固定挡板和两个活动挡片组；溅射靶包括两个圆柱形靶材,两个圆柱形靶材处于防护罩中，防护罩的前侧具有条形溅射口；两个固定挡板并排设置在条形溅射口的左右两侧，两个活动挡片组分别设置在相应的固定挡板上，活动挡片组包括自上至下紧密排列的多个活动挡片，活动挡片可左右滑动安装在固定挡板上，各个活动挡片均可自条形溅射口的边沿伸出以构成对圆柱形靶材的遮挡；所述溅射镀膜装置还包括能够对两个活动挡片组的各活动挡片在左右方向上的位置进行调节的位置调节机构。这种溅射镀膜装置能够实现对溅射靶不同位置的溅射速率进行控制，从而提高镀膜的均匀性，达到均匀镀膜的效果。到均匀镀膜的效果。到均匀镀膜的效果。

【技术实现步骤摘要】
一种溅射镀膜装置


[0001]本专利技术涉及镀膜
，具体涉及一种溅射镀膜装置。

技术介绍

[0002]溅射镀膜是用工艺气体(如氩气)经放电离化之后形成的离子轰击靶材表面，将靶材的原子击出并使其沉积在基板(如玻璃基板)上的一种真空镀膜技术。
[0003]在现有的溅射镀膜设备中，孪生靶作为用于生产的溅射靶最常用的靶位结构，其采用两个并列设置的圆柱形靶材，工作时，两个圆柱形靶材之间施加中频电压进行放电，从而使工艺气体离化形成轰击靶材表面的离子，由于圆柱形靶材的轴向长度非常长，因而这种靶位结构的溅射靶适合大基板或多片基板的镀膜，并且两个圆柱形靶材可由电机带动做缓慢旋转运动，使得靶材被均匀消耗，从而有效地提高了靶材的利用率。
[0004]然而，这种靶位结构的溅射靶在镀膜时，由于沿圆柱形靶材的轴向上存在工艺气体气压不均等因素，使得其圆柱形靶材轴向上不同位置的溅射速率不一致，最终容易导致在镀膜时出现膜层厚度不均的问题。

技术实现思路

[0005]本专利技术所要解决的技术问题是提供一种溅射镀膜装置，这种溅射镀膜装置能够实现对溅射靶不同位置的溅射速率进行控制，从而提高镀膜的均匀性，达到均匀镀膜的效果。采用的技术方案如下：一种溅射镀膜装置，包括设置在真空腔体中的溅射靶，溅射靶包括左右并列设置且能够相对旋转的两个圆柱形靶材；其特征在于：所述溅射镀膜装置还包括防护罩、两个固定挡板和两个活动挡片组；两个所述圆柱形靶材处于防护罩中，防护罩的前侧具有供两个圆柱形靶材表面外露的条形溅射口；两个固定挡板并排设置在条形溅射口的左右两侧，两个活动挡片组分别设置在相应的固定挡板上，每个活动挡片组均包括自上至下紧密排列的多个活动挡片，活动挡片可左右滑动安装在固定挡板上，各个活动挡片均可自条形溅射口的边沿伸出以构成对所述圆柱形靶材表面的遮挡；所述溅射镀膜装置还包括能够对两个活动挡片组的各活动挡片在左右方向上的位置进行调节的位置调节机构。
[0006]上述溅射镀膜装置工作时，可通过位置调节机构对两个活动挡片组的各活动挡片在左右方向上的位置进行调节（各个活动挡片均可独立调节），使各个活动挡片朝向或背向条形溅射口移动，以此来调节各个活动挡片自条形溅射口的边沿伸出部位的实际长度，以改变各个活动挡片对圆柱形靶材相应部位的遮挡面积，实现对两个圆柱形靶材在轴向上不同位置的溅射速率进行控制（当活动挡片自条形溅射口的边沿伸出的部分长度越长，活动挡片对圆柱形靶材表面形成的遮挡面积越大，镀膜效率越慢；活动挡片自条形溅射口的边沿伸出的部分长度越短，活动挡片对圆柱形靶材表面形成的遮挡面积越小，镀膜效率越快），由此可使圆柱形靶材在轴向上不同位置的溅射速率较为一致，从而提高镀膜的均匀性，达到均匀镀膜的效果。
[0007]作为本专利技术的优选方案，所述固定挡板上安装有滑轨板，滑轨板上设有自上至下依次排列的多个滑轨，各个滑轨均为左右走向；滑轨板上的滑轨与所述活动挡片组的活动挡片数量相同且一一对应，滑轨中安装有能够与其滑动配合的平移滑块，活动挡片安装在对应滑轨中的平移滑块上。
[0008]作为本专利技术进一步的优选方案，所述位置调节机构包括多个弹簧、多条拉线和多个拉线牵拉装置，拉线、弹簧、拉线牵拉装置与所述平移滑块的数量相同且一一对应，弹簧设于相应的滑轨中并处在对应的平移滑块与条形溅射口之间，弹簧的两端分别与相应的滑轨、平移滑块连接；各个拉线牵拉装置均设置在所述真空腔体外部；各条拉线的外端分别与拉线牵拉装置的动力输出端连接，各条拉线内端均伸入真空腔体中并分别与相应的平移滑块远离条形溅射口的一端连接。当需要使活动挡片朝向条形溅射口平移时，拉线牵拉装置通过拉线对平移滑块进行牵拉，带动平移滑块朝向滑轨靠近条形溅射口一端滑动（此时弹簧处于拉伸状态），进而带动活动挡片朝向条形溅射口平移；当需要使活动挡片背向条形溅射口平移时，拉线牵拉装置使拉线变得松弛，处于拉伸状态的弹簧变形复位，平移滑块在弹簧的作用下背向条形溅射口平移，进而带动活动挡片背向条形溅射口平移。
[0009]作为本专利技术更进一步的优选方案，所述拉线牵拉装置包括拉杆电机，拉杆电机的拉杆与相应的所述拉线外端连接。当拉杆电机的拉杆收缩时，拉杆电机能够对拉线产生牵拉作用（此时弹簧处于拉伸状态），带动平移滑块和活动挡片朝向条形溅射口滑动；当拉杆电机的拉杆伸出时，拉线变得稍微松弛，处于拉伸状态的弹簧变形复位，平移滑块和活动挡片在弹簧的作用下背向条形溅射口滑动。所述拉杆电机可以采用步进电机或伺服电机，并连接计算机进行控制， 由此可精确控制不同拉杆电机的拉杆拉伸量，从而精确控制各个活动挡片的所处位置，控制两个圆柱形靶材在轴向上不同位置的镀膜速率，最终达到均匀镀膜的效果。所述拉线牵拉装置也可以采用其他拉动器。
[0010]作为本专利技术更进一步的优选方案，所述滑轨板上设有多个绕线柱，各个绕线柱分别正对相应的所述滑轨远离条形溅射口的一端；各个所述拉线内端分别从相应的绕线柱绕过后伸入滑轨中并与所述平移滑块连接。各个绕线柱能够分别对相应的拉线起到导向及张紧作用。
[0011]作为本专利技术进一步的优选方案，所述真空腔体的腔壁上设有多个接口，各个所述拉线的内端分别从相应的接口穿过后进入真空腔体内。由此可以避免外部空气影响到真空腔体的真空度。
[0012]作为本专利技术更进一步的优选方案，所述溅射镀膜装置还包括压板和密封橡胶板，压板安装在所述真空腔体的腔壁外侧；密封橡胶板夹设在压板和真空腔体的腔壁之间；压板、密封橡胶板上分别设有多个第一穿孔、多个第二穿孔，第一穿孔、第二穿孔均与所述接口的数量相同且一一对准配合，所述拉线的内端依次穿过第一穿孔、第二穿孔、接口后进入真空腔体内。通过将密封橡胶板夹设在压板和真空腔体的腔壁之间，可使密封橡胶板受压变形以形成对各个第二穿孔的密封，由此可以避免外部空气影响到真空腔体的真空度。
[0013]为了不破坏真空腔体的真空度，作为本专利技术进一步的优选方案，所述拉线为表面光滑的金属线。
[0014]作为本专利技术更进一步的优选方案，所述拉线为表面光滑的不锈钢线，如直径在0.5mm以内的不锈钢线。
[0015]作为本专利技术的优选方案，所述溅射镀膜装置还包括控制装置和用于探测镀膜速率的速率探测器，速率探测器与控制装置相应的输入端电连接，位置调节机构与控制装置相应的输出端电连接。工作时，控制装置能够控制速率探测器对溅射靶不同位置的镀膜速率进行探测，再根据镀膜速率来控制不同活动挡片的所在位置，容易实现自动化控制。
[0016]本专利技术与现有技术相比，具有如下优点：这种溅射镀膜装置能够通过位置调节机构对两个活动挡片组的各活动挡片的位置进行调节以改变各个活动挡片对圆柱形靶材相应部位的遮挡面积，实现对溅射靶不同位置的溅射速率进行控制，由此可使圆柱形靶材在轴向上不同位置的溅射速率较为一致，从而提高镀膜的均匀性，达到均匀镀膜的效果。
附图说明
[0017]图1是本专利技术优选实施例的溅射镀膜装置的结构示意图。
[0018]图2是本专利技术优选实施例中防护罩、两个固定挡板和两个活动挡片组的结构示意本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种溅射镀膜装置，包括设置在真空腔体中的溅射靶，溅射靶包括左右并列设置且能够相对旋转的两个圆柱形靶材；其特征在于：所述溅射镀膜装置还包括防护罩、两个固定挡板和两个活动挡片组；两个所述圆柱形靶材处于防护罩中，防护罩的前侧具有供两个圆柱形靶材表面外露的条形溅射口；两个固定挡板并排设置在条形溅射口的左右两侧，两个活动挡片组分别设置在相应的固定挡板上，每个活动挡片组均包括自上至下紧密排列的多个活动挡片，活动挡片可左右滑动安装在固定挡板上，各个活动挡片均可自条形溅射口的边沿伸出以构成对所述圆柱形靶材表面的遮挡；所述溅射镀膜装置还包括能够对两个活动挡片组的各活动挡片在左右方向上的位置进行调节的位置调节机构。2.根据权利要求1所述的一种溅射镀膜装置，其特征在于：所述固定挡板上安装有滑轨板，滑轨板上设有自上至下依次排列的多个滑轨，各个滑轨均为左右走向；滑轨板上的滑轨与所述活动挡片组的活动挡片数量相同且一一对应，滑轨中安装有能够与其滑动配合的平移滑块，活动挡片安装在对应滑轨中的平移滑块上。3.根据权利要求2所述的一种溅射镀膜装置，其特征在于：所述位置调节机构包括多个弹簧、多条拉线和多个拉线牵拉装置，拉线、弹簧、拉线牵拉装置与所述平移滑块的数量相同且一一对应，弹簧设于相应的滑轨中并处在对应的平移滑块与条形溅射口之间，弹簧的两端分别与相应的滑轨、平移滑块连接；各个拉线牵拉装置均设置在所述真空腔体外部；各条拉线的外端分别与拉线牵拉装置的动力输出端连接，各条拉线内端均伸入真空腔体中并分别与相应的平移滑块...

【专利技术属性】
技术研发人员：张汉焱，郑丹旭，林意德，吴锡淳，吕岳敏，
申请(专利权)人：汕头超声显示器二厂有限公司汕头超声显示器有限公司，
类型：发明
国别省市：