一种烧结钕铁硼磁体及其制备工艺制造技术

本发明专利技术涉及稀土永磁材料领域，尤其涉及一种烧结钕铁硼磁体及其制备工艺，包括以下步骤：S1，对不含重稀土元素的烧结钕铁硼初始磁体进行预处理，获得预制钕铁硼磁体；S2，在预制钕铁硼磁体的表面溅射重稀土元素膜，获得沉积有重稀土膜的钕铁硼磁体；S3，将沉积有重稀土膜的钕铁硼磁体在真空下依次进行扩散热处理、第一退火热处理和第二退火热处理，获得烧结钕铁硼磁体。本发明专利技术采用磁控溅射方法在磁体表面沉积重稀土元素膜，可以沉积单面或双面或多面或全部表面都被沉积，理论沉积表面积越多，扩散效率越高，但是沉积面的多少和磁体最终性能影响不大，只影响热扩散过程的时间。将沉积完的磁体经分步真空热处理晶界扩散工艺，制得高性能烧结钕铁硼磁体。性能烧结钕铁硼磁体。

【技术实现步骤摘要】
一种烧结钕铁硼磁体及其制备工艺


[0001]本专利技术涉及稀土永磁材料领域，具体为一种烧结钕铁硼磁体及其制备工艺。

技术介绍

[0002]烧结钕(Nd)铁硼永磁体因其具有高磁能积成为电声器材、电子电器、轨道交通、风力发电、新能源汽车等领域不可或缺的能量交换材料。但居里温度低、热稳定性差导致其在高温领域(超过150℃)的应用受限，特别是随着混合动力汽车的快速发展，具有高温高性能的钕铁硼磁体受到广泛关注。
[0003]因此，一种重稀土铽(Tb)、镝(Dy)晶界扩散技术被用来制备高温高性能的烧结钕铁硼磁体，它是通过真空蒸镀、涂覆等手段将重稀土铽、镝及其化合物包覆在磁体表面，经高温热处理沿晶界液相扩散最终实现高温高性能的目标。目前由于晶界扩散技术是利用高温将重稀土铽(Tb)、镝(Dy)缓慢渗入磁体内部，而且在渗入过程中，重稀土铽(Tb)、镝(Dy)会和钕铁硼晶粒中的稀土发生置换反应，在钕铁硼晶粒外形成(Nd,HRE)2Fe
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B硬磁壳层结构，因此只能制备较薄磁体(磁体厚度一般不超过6mm)，对于厚磁体而言，一方面需要很长的时本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种烧结钕铁硼磁体制备工艺，其特征在于，包括以下步骤：S1，对不含重稀土元素的烧结钕铁硼初始磁体进行预处理，获得预制钕铁硼磁体；S2，在预制钕铁硼磁体的表面溅射重稀土元素膜，获得沉积有重稀土膜的钕铁硼磁体；S3，将沉积有重稀土膜的钕铁硼磁体在真空下依次进行扩散热处理、第一退火热处理和第二退火热处理，获得烧结钕铁硼磁体。2.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体制备工艺，其特征在于，在S1中，预处理过程为抛光或者消除表面氧化层后抛光。3.根据权利要求1所述的烧结钕铁硼磁体制备工艺，其特征在于，在S2中，溅射时的步骤为：将打磨抛光的磁体放入磁控溅射样品台，将高纯Tb(99.9wt.％)或Dy(99.9wt.％)或TbDy合金(99.9wt.％)置于对应强磁靶位，抽真空至5*10
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【专利技术属性】
技术研发人员：左文亮，杨森，
申请(专利权)人：西安交通大学，
类型：发明
国别省市：