去除聚合物污垢的方法和组合物技术

一种用于溶解单体制造过程中形成的污垢的组合物和方法。该组合物可以包含含酰胺的化合物和溶剂。其他组分可以任选地包含在组合物，例如聚合抑制剂或分散剂中。含酰胺的化合物可以是例如二甲基乙酰胺。溶剂可以是例如甲醇或甲苯。污垢包括聚合物。污垢包括聚合物。污垢包括聚合物。

【技术实现步骤摘要】
去除聚合物污垢的方法和组合物


[0001]本公开通常涉及单体制造过程。更具体地，本公开涉及用于溶解在单体制造过程中产生的聚合物污垢的方法和组合物。

技术介绍

[0002]甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酰胺或其他单体的聚合是不合乎需要的，但在生产这些单体的过程期间很常见。在甲基丙烯酸甲酯制造过程中，由甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸和其他单体形成的聚合物与用过的介质一起流出该过程。许多形成的聚合物的密度低于用过的介质，因此它们漂浮并可以沉积在设备上，从而导致操作问题。
[0003]用于对抗聚合物结垢的常用方法包括使用抑制剂来抑制低聚物的形成。方法还可以包括向介质施加分散剂。然而，当介质中的聚合物含量高时，这些方法的效果有限。虽然这些防止结垢的方法在不同程度上是有效的，但它们实施起来可能很耗时和/或成本高。此外，它们去除或防止结垢的效率往往很低。

技术实现思路

[0004]本公开提供用于溶解在单体制造过程中形成的聚合物污垢的方法和组合物。
[0005]在一些实施方案中，本公开提供一种在单体制造过程中溶解聚合物的方法。该方法包括在该过程中将组合物加到介质中，其中该组合物包含含酰胺的化合物并且其中该介质包含该聚合物。该方法还包括使含酰胺的化合物与聚合物接触，并溶解聚合物。
[0006]在一些实施方案中，含酰胺的化合物包括下式：
[0007]其中R1、R2和R3独立地选自氢、烷基、烯基和芳基。在一些实施方案中，R1、R2和R3中的至少两个是CH3。
[0008]在某些实施方案中，含酰胺的化合物包括下式：
[0009][0010]在一些实施方案中，含酰胺的化合物具有约45g/mol至约300g/mol的重均分子量。
[0011]在某些实施方案中，组合物包含至少两种不同的含酰胺的化合物。
[0012]在一些实施方案中，单体选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈及其任何组合组成的组。
[0013]在一些实施方案中，组合物进一步包含溶剂。溶剂可以选自例如烃、醚、酯、醇、四氢呋喃及其任何组合。
[0014]在某些实施方案中，溶剂选自烃、四氢呋喃、醚及其任何组合，且单体为丙烯酸。
[0015]在某些实施方案中，溶剂选自由醇、烃及其任何组合组成的组，并且单体选自由甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯及其任何组合组成的组。
[0016]在一些实施方案中，烃包含约5至约20个碳原子。在某些实施方案中，烃选自甲苯、煤油或其任何组合。
[0017]在一些实施方案中，该组合物包含约10重量％至约90重量％的含酰胺的化合物和约90重量％至约10重量％的溶剂。
[0018]在一些实施方案中，单体制造过程的组件包含介质。在某些实施方案中，该组件选自吸收塔、回收塔、纯化塔、汽提塔、产品塔、再沸器、废酸罐、连接任何前述组件的导管，以及它们的任何组合。
[0019]在一些实施方案中，将组合物连续或间歇地加到介质中。
[0020]在一些实施方案中，该组合物以约1:10至约1:1的重量比与碱洗涤水组合并加到介质中。
[0021]在某些实施方案中，从介质中去除组合物和溶解的聚合物。
[0022]在一些实施方案中，将约10ppm至约10,000ppm的含酰胺的化合物加到培养基中。在一些实施方案中，介质包含约0.5重量％至约5重量％的含酰胺的化合物。
[0023]在某些实施方案中，组合物进一步包含聚合抑制剂和/或分散剂。
[0024]上述已经相当广泛地概述了本公开的特征和技术优点，以便可以更好地理解以下具体描述。下文中将对本公开的形成本申请的权利要求的主题的另外的特征和优点进行描述。本领域的技术人员应当理解的是，为了执行本公开的相同目的，所公开的概念和具体实施方式可以容易地被利用，作为修改或设计其它实施方式的基础。本领域技术人员还应当意识到，这些等效实施例不脱离所附权利要求中阐述的本公开的精神和范围。
附图说明
[0025]下文具体参考附图描述本专利技术的具体实施方式，在附图中：
[0026]图1示出与水分离塔相关的本公开的实施方案的示意图；和
[0027]图2示出与废酸罐相关的本公开的实施方案的示意图。
具体实施方式
[0028]下面描述了各种实施方案，其中一些参照附图。可以通过参考以下详细描述更好地理解实施方式的各个要素的关系和功能。然而，实施方案不限于附图中所示和/或下文明确描述的那些。应当理解，附图不一定按比例绘制，并且在某些情况下，可能已经省略对于理解本文公开的实施方案不必要的细节。
[0029]除非另有说明，本文所述的单独或作为另一基团的一部分的烷基是任选取代的直
链或支链饱和一价烃取代基，其在主链中含有例如1至约60个碳原子，例如1至约30个碳原子。未被取代的烷基的实例包括甲基、乙基、正丙基、异丙基、正丁基、异丁基、仲丁基、叔丁基、正戊基、异戊基、仲戊基、叔戊基等等。
[0030]如本文中单独或作为另一基团(例如，亚芳基)的一部分使用的术语“芳基”或“芳”表示任选地被取代的碳环芳香族基团，优选地是在环部分中含有6至约12个碳的单环或双环基团，如苯基、联苯、萘基、被取代的苯基、被取代的联苯或被取代的萘基。术语“芳基”也包括杂芳基官能团。应当理解，术语“芳基”根据休克尔规则(Huckel's Rule)适用于为平面并且包括4n+2n个电子的环状取代基。
[0031]“环烷基”是指含有例如约3到约8个碳原子，优选地约4到约7个碳原子，并且更优选地约4到约6个碳原子的环状烷基取代基。此类取代基的实例包含环丙基、环丁基、环戊基、环己基、环庚基、环辛基等。环状烷基可以是未被取代的或进一步被例如甲基、乙基等的烷基取代。
[0032]本公开的化合物可以被适合的取代基取代。如本文所使用的，术语“适合的取代基”旨在意指化学上可接受的官能团，优选地不使化合物的活性无效的部分。此类适合的取代基包含但不限于卤代基、全氟烷基、全氟烷氧基、烷基、烯基、炔基、羟基、氧代、巯基、烷硫基、烷氧基、芳基或杂芳基、芳氧基或杂芳氧基、芳烷基或杂芳烷基、芳烷氧基或杂芳烷氧基、HO
‑
(C＝O)
‑
基、杂环基、环烷基、氨基、烷基和二烷基氨基、氨基甲酰基、烷基羰基、烷氧基羰基、烷基氨基羰基、二烷基氨基羰基、芳基羰基、芳氧基羰基、烷基磺酰基和芳基磺酰基。在一些实施方案中，适合的取代基可以包含卤素、未被取代的C1‑
C
12
烷基、未被取代的C4‑
C6芳基，或未被取代的C1‑
C
10
烷氧基。本领域的技术人员将了解许多取代基可以被另外的取代基取代。
[0033]如“被取代的烷基”中的术语“被取代的”是指在所讨论的基团(即，烷基)中，键结到碳原子的至少一个氢原子被一个或多个以下取代基置换：如羟基(
‑
OH)、烷硫基、膦基、酰胺基(
‑
CON(R<本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种在单体制造过程中溶解污垢的方法，所述方法包括：在所述过程中将组合物加到介质中，其中所述组合物包含含酰胺的化合物并且其中所述介质包含污垢，使所述含酰胺的化合物与所述污垢接触，和溶解所述污垢。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述含酰胺的化合物包括下式：其中R1、R2和R3独立地选自氢、烷基、烯基和芳基。3.根据权利要求2所述的方法，其中R1、R2和R3中的至少两个是CH3。4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述含酰胺的化合物包括下式：5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述含酰胺的化合物具有约45g/mol至约300g/mol的重均分子量。6.根据权利要求1至5中任一项所述的方法，其中所述组合物包含至少两种不同的含酰胺的化合物。7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法，其中所述单体选自由丙烯酸、甲基丙烯酸、丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、丙烯腈及其任何组合组成的组。8.根据权利要求1到7中任一项所述的方法，其中所述组合物进一步包含溶剂。9.根据权利要求8所述的方法，其中所述溶剂选自烃、醚、酯、醇、四氢呋喃及其任何组合。10.根据权利要求8或9所述的方法，其中所述溶剂选自烃、四氢呋喃、醚及其任何组合，所述单体为丙烯酸。11.根据权利要求8或权利要求9所述的方法，其中所述溶剂选自醇、烃及其任何组合，
并且所述单体选自甲基丙烯酸酯、丙烯酸酯及其任何组合。1...

【专利技术属性】
技术研发人员：孔猛，
申请(专利权)人：埃科莱布美国股份有限公司，
类型：发明
国别省市：