一种光学材料清洗液的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光学材料清洗液的制备方法，所述制备方法如下：步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；步骤二：混合搅拌：在反应釜中加入去离子水，然后依次加入氢键破坏剂，络合剂，醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂，并搅拌使其完全溶解，得到混合液；步骤三：调节PH值；本发明专利技术的有益效果是：抗寒剂具有良好的抗寒性能，清洗液中抗寒剂的加入，增加了光学材料表面的抗寒性能，避免光学材料在低温下结雾；防尘剂在光学材料形成防尘涂层，在防尘涂层中的氧化硅纳米粒子和聚乙二醇辛基苯基醚相结合，形成光滑、细致的膜层表面，从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。

【技术实现步骤摘要】
一种光学材料清洗液的制备方法


[0001]本专利技术属于清洗液
，具体涉及一种光学材料清洗液的制备方法。

技术介绍

[0002]透明光学材料主要由对各种色光的透过率和折射率决定；大部分光学零件是由光学玻璃制成的，一般光学玻璃能通过波长为0.35
‑
2.5um的各种色光，超过这个范围的色光将被光学玻璃强烈地吸收，特殊熔炼的光学玻璃可以透过特定的波段，光学元件制造商经常在样本中给出所使用的标准光学材料数据；在透射材料中，各种光学晶体的应用日益广泛，光学晶体的使用能使光学系统工作在比一般光学玻璃更宽的波段范围，此外，光学塑料已能应用于光学系统中，如菲涅尔透镜、自由光学曲面元件、简易照相物镜、放大镜；这类镜头多用模压或铸塑而成，成本较低，生产效率高；光的折射率n，以及F光和C光的折射率n为主要折射特性，这是因为F光和C光接近人眼灵敏光谱区的两端；而D光或d光在它们中间，比较接近于人眼最灵敏的谱线，实际上e光更接近这个波长；密度、热膨胀系数、化学稳定性等，此外，对光学均匀性、应力消除程度、玻璃中的气泡度、杂质、条纹等都有一定的标准和规定；为了设计质量高的光学系统，需要很多种类的光学玻璃，光学玻璃大体上可以分为两大类冕牌玻璃及火石玻璃，每一大类又分为许多种类，如轻冕、冕、磷冕、钡冕、重冕、镧冕、冕火石、轻火石、火石、钡火石、重钡火石、重火石、镧火石、特种火石等，每一个种类的玻璃又分为许多种牌号。
[0003]塑料光学元件与玻璃材料相比，具有较低的质量、较高的抗冲击性，并能提供更多种形状；外形适应性是塑料光学的优点之一；非球面透镜和其他复杂的形状都可以被塑造；塑料的主要缺点是较低的耐热性，塑料的融化温度比玻璃低，表面耐磨性和抗化学性较差，镀膜的附着性低，因为其融化温度低，薄膜的沉积温度受到限制；塑料透镜上膜层的耐用性也低或寿命短，塑料镀膜可使用离子辅助沉积提供较坚固而耐用的薄膜；光学塑料材料品种的选择自由度有限，一个重要的限制是热膨胀系数高和折射率温度变化的依赖性强，塑料材料的折射率随温度的升高而减小，变化量大约比玻璃高50倍，塑料的热膨胀系数大约比玻璃高10倍，高质量的光学系统可以用玻璃和塑料透镜的组合来实现设计；塑料光学元件可以被注塑成型、压塑成型，或者用浇注放入塑料块制造；反射光学零件一般是在抛光玻璃表面镀以金属的反射层，反射面不存在色散现象，对于任何色光，其反射角均等于入射角，反射光学材料的唯一特性是反射率，反射面多为用金属材料镀制，不同的金属反射面，有不同的反射特性，即随入射光波长的不同而有不同的反射率；光学材料清洗常需要使用清洗液。
[0004]申请号为CN201711361330.3的一种光学材料清洗液，该专利公开了包括阴离子表面活性剂、氢键破坏剂、络合剂、醇类、PH调节剂、盐和水，适用于熔石英、K9玻璃及微晶玻璃等光学材料抛光后表面颗粒的清洗，使用时将清洗液稀释1
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10倍后，将抛光后的光学材料在清洗液中超声清洗5
‑
10分钟，然后在去离子水中超声清洗1
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10分钟去除光学材料表面的清洗液，使用该清洗液可以去除抛光后光学材料表面的污染物，包括有机污染物、颗粒和离
子残留等。
[0005]现有的清洗液只能去除光学材料表面的污染物，当温度较低时，使用光学材料，容易造成光学材料表面结雾。

技术实现思路

[0006]本专利技术的目的在于提供一种光学材料清洗液的制备方法，避免在低温调节下在清洗后的光学材料上结雾。
[0007]为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：一种光学材料清洗液的制备方法，所述制备方法如下：
[0008]步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；
[0009]步骤二：混合搅拌：在反应釜中加入去离子水，然后依次加入氢键破坏剂，络合剂，醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂，并搅拌使其完全溶解，得到混合液；
[0010]步骤三：调节PH值：最后向混合液中加入PH调节剂。
[0011]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述抗寒剂的制备如下：将钾皂液、乙醇、松节油、三乙醇胺、亚硝酸钠均匀混合后在微波频率10
‑
16kMH的条件下微波30
‑
40min。
[0012]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述亲水剂制备如下：将二氧化锡纳米颗粒、碳纳米管分散液、乙醇搅拌混合均匀。
[0013]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述防尘剂制备如下：将二氧化钛纳米粒子、氧化硅纳米粒子、聚乙二醇辛基苯基醚、甘油混合均匀。
[0014]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述抑菌剂为月桂酰胺丙基二甲胺乙内脂、二甲基二硫代氨基甲酸锌中的一种或两种组合。
[0015]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述氢键破坏剂为氨基苯甲酰胺、盐酸胍、氨基胍中的一种或至少两种组合。
[0016]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述络合剂为羟乙基二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、乙二胺四乙酸中的一种或至少两种组合。
[0017]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述醇类为异丙醇、乙二醇、丙二醇中的一种或至少两种组合。
[0018]作为本专利技术的一种优选的技术方案，所述pH调节剂为氢氧化钠、乙醇胺、三乙醇胺中的一种或至少两种组合。
[0019]与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：
[0020]抗寒剂具有良好的抗寒性能，清洗液中抗寒剂的加入，增加了光学材料表面的抗寒性能，避免光学材料在低温下结雾；
[0021]防尘剂在光学材料形成防尘涂层，在防尘涂层中的氧化硅纳米粒子和聚乙二醇辛基苯基醚相结合，形成光滑、细致的膜层表面，从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集；
[0022]抑菌剂具有良好的抑菌效果，清洗液中抑菌剂的加入，增加了光学材料的抑菌性能；
[0023]亲水剂将抗寒剂、防尘剂、抑菌剂、氢键破坏剂、络合剂与初料有效的有机结合。
附图说明
[0024]图1为本专利技术的清洗液的制备方法流程图。
具体实施方式
[0025]下面将结合本专利技术实施例中的附图，对本专利技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本专利技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本专利技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本专利技术保护的范围。
[0026]实施例1
[0027]请参阅图1，为本专利技术的第一个实施例，该实施例提供一种光学材料清洗液的制备方法，包括如下步骤：
[0028]步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；抗寒剂的制备如下：将钾皂液、乙醇、松节油、三乙醇胺、亚硝酸钠均匀混合后在微波频率10kMH的条件下微波40min；亲水剂制备如下：将二氧化锡纳米颗粒、碳纳米管分散液、乙醇搅拌混合均匀；防尘剂制备如下：将二氧化钛纳本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学材料清洗液的制备方法，其特征在于：所述制备方法如下：步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；步骤二：混合搅拌：在反应釜中加入去离子水，然后依次加入氢键破坏剂，络合剂，醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂，并搅拌使其完全溶解，得到混合液；步骤三：调节PH值：最后向混合液中加入PH调节剂。2.根据权利要求1所述的一种光学材料清洗液的制备方法，其特征在于：所述抗寒剂的制备如下：将钾皂液、乙醇、松节油、三乙醇胺、亚硝酸钠均匀混合后在微波频率10
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16kMH的条件下微波30
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40min。3.根据权利要求1所述的一种光学材料清洗液的制备方法，其特征在于：所述亲水剂制备如下：将二氧化锡纳米颗粒、碳纳米管分散液、乙醇搅拌混合均匀。4.根据权利要求1所述的一种光学材料清洗液的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：王琦，王征，徐昕，刘俊军，
申请(专利权)人：南京睿扬光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：