一种光学材料清洗液的制备方法技术

本发明专利技术公开了一种光学材料清洗液的制备方法，所述制备方法如下：步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；步骤二：混合搅拌：在反应釜中加入去离子水，然后依次加入氢键破坏剂，络合剂，醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂，并搅拌使其完全溶解，得到混合液；步骤三：调节PH值；本发明专利技术的有益效果是：抗寒剂具有良好的抗寒性能，清洗液中抗寒剂的加入，增加了光学材料表面的抗寒性能，避免光学材料在低温下结雾；防尘剂在光学材料形成防尘涂层，在防尘涂层中的氧化硅纳米粒子和聚乙二醇辛基苯基醚相结合，形成光滑、细致的膜层表面，从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。从而避免灰尘等固体颗粒物的聚集。

【技术实现步骤摘要】
一种光学材料清洗液的制备方法


[0001]本专利技术属于清洗液
，具体涉及一种光学材料清洗液的制备方法。

技术介绍

[0002]透明光学材料主要由对各种色光的透过率和折射率决定；大部分光学零件是由光学玻璃制成的，一般光学玻璃能通过波长为0.35
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2.5um的各种色光，超过这个范围的色光将被光学玻璃强烈地吸收，特殊熔炼的光学玻璃可以透过特定的波段，光学元件制造商经常在样本中给出所使用的标准光学材料数据；在透射材料中，各种光学晶体的应用日益广泛，光学晶体的使用能使光学系统工作在比一般光学玻璃更宽的波段范围，此外，光学塑料已能应用于光学系统中，如菲涅尔透镜、自由光学曲面元件、简易照相物镜、放大镜；这类镜头多用模压或铸塑而成，成本较低，生产效率高；光的折射率n，以及F光和C光的折射率n为主要折射特性，这是因为F光和C光接近人眼灵敏光谱区的两端；而D光或d光在它们中间，比较接近于人眼最灵敏的谱线，实际上e光更接近这个波长；密度、热膨胀系数、化学稳定性等，此外，对光学均匀性、应力消除程度、玻璃中的气泡度、杂质、条纹等都有一定的标准本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学材料清洗液的制备方法，其特征在于：所述制备方法如下：步骤一：原料准备：氢键破坏剂、络合剂、醇类、pH调节剂、去离子水、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂；步骤二：混合搅拌：在反应釜中加入去离子水，然后依次加入氢键破坏剂，络合剂，醇类、抗寒剂、亲水剂、防尘剂、抑菌剂，并搅拌使其完全溶解，得到混合液；步骤三：调节PH值：最后向混合液中加入PH调节剂。2.根据权利要求1所述的一种光学材料清洗液的制备方法，其特征在于：所述抗寒剂的制备如下：将钾皂液、乙醇、松节油、三乙醇胺、亚硝酸钠均匀混合后在微波频率10
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16kMH的条件下微波30
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40min。3.根据权利要求1所述的一种光学材料清洗液的制备方法，其特征在于：所述亲水剂制备如下：将二氧化锡纳米颗粒、碳纳米管分散液、乙醇搅拌混合均匀。4.根据权利要求1所述的一种光学材料清洗液的制备方法...

【专利技术属性】
技术研发人员：王琦，王征，徐昕，刘俊军，
申请(专利权)人：南京睿扬光电技术有限公司，
类型：发明
国别省市：