【技术实现步骤摘要】
辐射整形屏蔽装置
[0001]本专利技术创造涉及辐射整形
技术介绍
[0002]在核技术利用领域，往往需要利用高能粒子或激光进行打靶，以产生新的辐射源项，如高能质子打重靶产生散裂中子、电子掠过钨靶产生X射线、自由电子打超短激光靶产生相干X射线、伽马射线，以用于诊断、治疗、或核科学研究实验。高能粒子打靶产生的辐射源通常情况下具有各向同性。通常情况下只有在一定的方向、以一定张角的辐射束流是有用的，其它方向的放射源是无用而且是有害的，为了束流的准直和焦斑整形，往往通过设计一定形状的屏蔽体作靶腔，把靶件放置在靶腔内，只在高能粒进入方向和打靶后辐射源利用方向留出开口，装在辐射源利用方向的开孔与靶点形成一定的张角，辐射源只能在这个张角内以一定的方向射出，从而实现焦斑整形以及准直。
[0003]高能粒子一般在真空管中输运，靶件一般在真空管中与高能粒子发生作用，在很多情况下，靶件会被活化而具有放射性，靶件使用一段时间后往往需要更换，当靶件需要更换时，工作人员往往不能靠近操作，一般需要通过设备远程操作，从靶腔的入口伸入靶腔内...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.辐射整形屏蔽装置，包括靶件屏蔽体，靶件屏蔽体中空形成有用于放置靶件的靶腔，其特征是，靶件屏蔽体包括至少两个屏蔽组合块，该至少两个屏蔽组合块拼接形成靶件屏蔽体及其靶腔，各个屏蔽组合块之间的拼接面均为曲折的曲面，各个屏蔽组合块可散开使靶件屏蔽体及其靶腔解体，以方便更换所述靶件。2.如权利要求1所述的辐射整形屏蔽装置，其特征是，屏...
【专利技术属性】
技术研发人员：陈栩涵，陈秋宏，奚昂涛，黄瑞铭，
申请(专利权)人：广东中科揽胜辐射防护科技有限公司，
类型：新型
国别省市：
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