揭开力稳定的石墨硅胶保护膜及其制备方法技术

本发明专利技术提供一种揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，包括基层，基层表面涂覆有抗静电涂层；还包括胶水层，胶水层包括：高模量有机硅胶水100份；硅氧烷交联剂1.8

【技术实现步骤摘要】
揭开力稳定的石墨硅胶保护膜及其制备方法


[0001]本专利技术涉及硅胶保护膜领域，尤其涉及一种揭开力稳定的石墨硅胶保护膜及其制备方法。

技术介绍

[0002]导热石墨材料是可以通过一系列不同的热量管理解决应用需求日益广泛的工业散热领域带来新的技术方案，导热石墨材料产品同时它也提供了电子工业热量管理的创新新技术。导热石墨它也通过在减轻器件重量的情况下提供更优异的导热性能解决方案各种方案。导热石墨有效的解决电子设备的热设计难题，石墨同时还广泛的应用于电子产品散热当中。石墨散热材料已大量应用于通讯工业、医疗设备，笔记本，手机等散热当中。
[0003]智能手机主板PCB上的CPU/Flash芯片产生的热量经过石墨膜均匀传递到中间的金属钢托及框架,同时把CPU高发热芯片的热量迅速平均到整个石墨膜的平面。芯片热量同时传递到钢托表面的大片石墨膜，在平面内热量得以充分均匀散开，消除了局部热点，使芯片能处在适宜的工作温度范围内，使性能得到最大的发挥。智能手机PCB屏蔽罩石墨膜主要把热量均布在PCB主板，避免局部热点和避免芯片超过工作温度范围避免死机的情况。手机内的热量经过高导热石墨膜重新分布，通过手机外壳和大面积触摸屏进行有效的散热,通过低导热系数的机壳最大化的表面积把热量均匀的传递到手机外部。石墨膜的均温特性，可以消除芯片局部过热的温度，解决长时间手持高温造成的不适。电池仓背面的钢托石墨膜同时也承担了向触摸屏均温和电池散热的功能，消除了长时间电话后电池会烫手的问题。智能手机的热量会经过LCD触摸屏及手机后盖进行辅助散热，利用了石墨散热膜的传导性可以把发热量控制在人体可以接受的适宜温度。我们可以说，智能手机利用石墨散热膜，平面均热,热量传导作用，把热量迅速均匀地传导到机壳、框架以及屏幕等部件，从而获得更大有效散热面积,所以才可以将CPU所产生的大量热量传递到手机外部石墨散热膜，直接贴在主板金属屏蔽罩，石墨散热膜的下面屏蔽罩保护的就是发热量很大的CPU处理器核心芯片，可以起到散热和屏蔽的双重效果。智能手机的石墨散热片在热源和分散集中于屏幕的热量，把热量传递到钢托机身内贴附在中间的钢托金属板上面，屏蔽扩散电池以及机壳，形成更大的有效散热面积，形成有效的散热路径。
[0004]申请号CN201910246265.2的专利公开了一种抗静电硅胶保护膜的制备方法，制备的保护膜表面电阻率低，解决了保护膜使用过程中静电无法排放而影响自动化连续生产的问题。但该硅胶保护膜爬升较大；且基材表面抗静电无法耐酒精擦拭，经带有压力的酒精擦拭即失去抗静电效果。
[0005]如此需要现有的硅胶保护膜进行改进，设计出一种爬升较小、稳定的石墨硅胶保护膜。

技术实现思路

[0006]为了克服现有技术的不足，本专利技术的第一个目的是提供一种揭开力稳定的石墨硅
胶保护膜，包括基层，所述基层表面涂覆有抗静电涂层；还包括胶水层，所述胶水层包括：
[0007][0008]优选地，所述基层为聚对苯二甲酸乙二醇酯PET薄膜。
[0009]优选地，所述抗静电涂层包括双组份的聚噻吩抗静电液。
[0010]优选地，所述硅氧烷交联剂为甲基氢基环硅氧烷。
[0011]优选地，所述硅烷偶联剂包括乙烯基三乙酰氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷、环氧丙基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种。
[0012]优选地，所述硅烷偶联剂包括：
[0013]乙烯基三乙酰氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷与环氧丙基丙基三甲氧基硅烷。
[0014]优选地，所述乙烯基三乙酰氧基硅烷、缩水甘油醚氧丙基三甲氧基硅烷与环氧丙基丙基三甲氧基硅烷的份重量比为1:1:3
‑
1:1:4。
[0015]优选地，所述催化剂为四甲基二硅氧烷催化剂。
[0016]优选地，所述溶剂为甲苯、乙酸乙酯中的至少一种。
[0017]本专利技术的第二个目的是提供一种揭开力稳定的石墨硅胶保护膜的制备方法，包括以下步骤：
[0018]S1：制备抗静电涂层；
[0019]S2：将有机硅胶水、溶剂、硅氧烷交联剂、硅烷偶联剂、催化剂、溶剂依次加入反应容器并搅拌均匀，以形成胶水；
[0020]S3：在S1的抗静电涂层的电晕面上均匀涂布S2中的胶水，固化以得到最终产品。
[0021]相比现有技术，本专利技术的有益效果在于：本专利技术提供一种揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，包括基层，基层表面涂覆有抗静电涂层；还包括胶水层，胶水层包括：高模量有机硅胶水100份；硅氧烷交联剂1.8
‑
2.2份；硅烷偶联剂0.8
‑
1.2份；催化剂1.5
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1.7份；溶剂170
‑
230份。本专利技术还涉及其制备方法。通过本专利技术制备的保护膜胶面不易因滚压贴合石墨而发生较大形变，以较低揭开力爬升的风险。
[0022]本上述说明仅是本专利技术技术方案的概述，为了能够更清楚了解本专利技术的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本专利技术的较佳实施例详细说明如后。本专利技术的具体实施方式由以下实施例详细给出。
[0023]此处所说明的附图用来提供对本专利技术的进一步理解，构成本申请的一部分，本专利技术的示意性实施例及其说明用于解释本专利技术，并不构成对本专利技术的不当限定。在附图中：
[0024]图1为本专利技术的实施例一的储能模量数据图；
[0025]图2为本专利技术的对比例一的储能模量数据图；
[0026]图3为本专利技术的实施例一和对比例一在不同加连击条件下的性能对比图。
具体实施方式
[0027]下面，结合具体实施方式，对本专利技术做进一步描述，需要说明的是，在不相冲突的前提下，以下描述的各实施例之间或各技术特征之间可以任意组合形成新的实施例。
[0028]石墨本身表面很脆弱，容易划破损坏，贴合在表面的单面胶也是超薄的，容易划破，因此在制成的过程中，要有一款合度粘性合适保护膜，起到保护的作用，以防止石墨与单面胶的损破。同时组装后模切时会出现打孔的情况，更加要求保护膜揭开时的快速揭开力，以保证在孔的位置上不会因为应力而分层。为解决以上不足，本专利技术涉及一种揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，包括基层，所述基层表面涂覆有抗静电涂层；还包括胶水层，所述胶水层包括：
[0029]高模量有机硅胶水
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100份；
[0030]硅氧烷交联剂
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1.8
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2.2份；
[0031]应当理解，硅氧烷交联剂添加量在1.8份以下时会有揭破石墨的风险，而添加量在2.2份以上时会有无法润湿石墨黑色油墨面的风险。
[0032]硅烷偶联剂
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0.8
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1.2份；
[0033]催化剂
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1.5
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1.7份；
[0034]溶剂
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170
‑
230份。本发本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，其特征在于，包括基层，所述基层表面涂覆有抗静电涂层；还包括胶水层，所述胶水层包括：高模量有机硅胶水
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100份；硅氧烷交联剂
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1.8
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2.2份；硅烷偶联剂
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0.8
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1.2份；催化剂
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1.5
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1.7份；溶剂
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170
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230份。2.如权利要求1所述的揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，其特征在于，所述基层为聚对苯二甲酸乙二醇酯PET薄膜。3.如权利要求1或2所述的揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，其特征在于，所述抗静电涂层包括双组份的聚噻吩抗静电液。4.如权利要求1所述的揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，其特征在于，所述硅氧烷交联剂为甲基氢基环硅氧烷。5.如权利要求1所述的揭开力稳定的石墨硅胶保护膜，其特征在于，所述硅烷偶联剂包...

【专利技术属性】
技术研发人员：金闯，张熠，包静炎，蒋晓明，
申请(专利权)人：斯迪克新型材料江苏有限公司，
类型：发明
国别省市：