用于PVD镀膜的遮挡装置制造方法及图纸

本申请提供一种用于PVD镀膜的遮挡装置，包括：第一遮挡件，设有收容槽和第一通孔，收容槽与待镀膜的工件相适配并用于收容工件的一部分，这一部分是工件在镀膜过程中需要被遮挡的一处部位，第一通孔相对于收容槽的轴向方向垂直或倾斜地贯穿第一遮挡件并与收容槽连通，用于平衡收容槽的内外气压差；限位件，沿收容槽的轴向方向穿设于第一遮挡件并伸至收容槽，且限位件抵接位于收容槽内的工件，并用以限制位于收容槽内的工件的位置。如此，通过为第一遮挡件遮挡工件的一部分，以保护工件的一部分不被镀膜，并通过第一通孔平衡收容槽的内外气压差，避免收容槽内所存在的气体因镀膜作业温度升高而升压以推动工件移出收容槽，提高遮挡精度。精度。精度。

【技术实现步骤摘要】
用于PVD镀膜的遮挡装置


[0001]本技术涉及PVD
，尤其涉及一种用于PVD镀膜的遮挡装置。

技术介绍

[0002]如今通常会使用物理气相沉积(PhysicalVaporDeposition，PVD)技术，在基体表面沉积将具有某种特殊功能的薄膜，以提高基体的性能，例如：耐磨性、耐腐蚀性等。
[0003]由于一些基体的外表面无需全部镀膜，因此通常会使用遮挡件遮挡基体的部分结构，以避免基体的这部分结构被镀膜。然而，遮挡件插设于用于收容遮挡件的收容槽内时，会有部分气体存在于收容槽内，当PVD真空电镀炉进行镀膜作业时温度升高，使得收容槽内的气体的压强增加并与外部大气压形成气压差，以使升压后的气体推动基体移出收容槽，使无需镀膜的基体结构被镀膜，这会降低遮挡精度。

技术实现思路

[0004]鉴于上述状况，有必要提供一种用于PVD镀膜的遮挡装置，以提高遮挡精度。
[0005]本申请实施例提供一种用于PVD镀膜的遮挡装置，包括：第一遮挡件，设有收容槽和第一通孔，所述收容槽与待镀膜的工件相适配并用于收容所述工件的一部分，所述本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种用于PVD镀膜的遮挡装置，其特征在于，包括：第一遮挡件，设有收容槽和第一通孔，所述收容槽与待镀膜的工件相适配并用于收容所述工件的一部分，所述一部分是所述工件在镀膜过程中需要被遮挡的一处部位，所述第一通孔相对于所述收容槽的轴向方向垂直或倾斜地贯穿所述第一遮挡件并与所述收容槽连通，用于平衡所述收容槽的内外气压差；限位件，沿所述收容槽的轴向方向穿设于所述第一遮挡件并伸至所述收容槽，且所述限位件抵接位于所述收容槽内的所述工件，并用以限制位于所述收容槽内的所述工件的位置。2.如权利要求1所述的用于PVD镀膜的遮挡装置，其特征在于，所述第一遮挡件包括：第一遮挡部，设有所述收容槽和所述第一通孔；收纳部，与所述第一遮挡部连接并设有与所述收容槽相连通的收纳槽，所述收纳槽与所述限位件相适配以收纳所述限位件。3.如权利要求2所述的用于PVD镀膜的遮挡装置，其特征在于，所述限位件包括：主体部，穿设于所述收纳槽并卡接于所述收纳部；限位部，与所述主体部连接并位于所述收容槽内，且所述限位部设有相连接的第一限位面和第二限位面，所述第一限位面和所述第二限位面分别抵接所述工件相连接的两个侧面，以限制所述工件的位置。4.如权利要求3所述的用于PVD镀膜的遮挡装置，其特征在于，所述主体部上设有凹槽结构，部分所述收纳部凸伸至所述凹槽结构，以使所述凹槽结构卡接所述收纳部。5....

【专利技术属性】
技术研发人员：赵贺骁，郑朝仁，李娜，吴海生，李媛媛，张生，门朝辉，
申请(专利权)人：富联精密电子郑州有限公司，
类型：新型
国别省市：