掩模框架组件和通过使用其制造显示装置的方法制造方法及图纸

本申请提供了掩模框架组件，其包括掩模和框架，其中，掩模包括多个开口部分，框架联接到掩模的边缘，其中掩模包括：第一遮盖部分，其在第一方向上延伸并且彼此平行；第二遮盖部分，其彼此平行并且在与第一方向交叉的第二方向上延伸，从而与第一遮盖部分一起限定所述多个开口部分；以及第一凸起，其在第一遮盖部分上，其中，在第二方向上，第一凸起距所述多个开口部分之中的、在第一遮盖部分的一侧的开口部分的距离不同于第一凸起距所述多个开口部分之中的、在第一遮盖部分的另一侧的开口部分的距离。离。离。

【技术实现步骤摘要】
掩模框架组件和通过使用其制造显示装置的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请要求于2021年11月29日在韩国知识产权局提交的第10
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2021
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0167725号韩国专利申请的优先权和权益，该韩国专利申请的全部公开内容通过引用并入本文。


[0003]一个或更多实施例的方面涉及掩模框架组件和通过使用掩模框架组件制造显示装置的方法。

技术介绍

[0004]通常，当制造显示装置(包括有机发光显示装置等)时，通过沉积等形成各种层。例如，在有机发光显示装置的情况下，可以在制造过程期间通过使用沉积装置在衬底上形成空穴注入层、空穴传输层、电子传输层或电子注入层。在该过程期间，可以通过使用掩模将材料沉积在衬底上的预设区域处。
[0005]在本“
技术介绍
”部分中公开的上述信息仅用于增强对
技术介绍
的理解，并且因此在本“
技术介绍
”部分中讨论的信息不一定构成现有技术。

技术实现思路

[0006]一个或更多实施例的方面涉及掩模框架组件以及通过使用掩模框架组件制造显示装置的方法本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩模框架组件，包括：掩模，包括多个开口部分；以及框架，与所述掩模的边缘联接，其中，所述掩模包括：第一遮盖部分，在第一方向上延伸并且彼此平行；第二遮盖部分，彼此平行并且在与所述第一方向交叉的第二方向上延伸，从而与所述第一遮盖部分一起限定所述多个开口部分；以及第一凸起，在所述第一遮盖部分上，其中，在所述第二方向上，所述第一凸起距所述多个开口部分之中的、在所述第一遮盖部分的一侧的开口部分的距离不同于所述第一凸起距所述多个开口部分之中的、在所述第一遮盖部分的另一侧的开口部分的距离。2.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述第一凸起在所述第一方向上延伸。3.如权利要求1所述的掩模框架组件，其中，所述多个开口部分包括第一开口部分和第二开口部分，所述第二开口部分在所述第二方向上与所述第一开口部分间隔开，以及所述掩模还包括与所述第一开口部分接触并且周向地围绕所述第一开口部分的第三凸起，其中所述第三凸起的一部分在所述第一遮盖部分上。4.如权利要求3所述的掩模框架组件，其中，所述掩模还包括接触所述第二开口部分并且周向地围绕所述第二开口部分的第四凸起，其中所述第四凸起的一部分在所述第一遮盖部分上。5.如权利要求4所述的掩模框架...

【专利技术属性】
技术研发人员：禹珉娥，姜秀贞，金相勳，金谞延，朴钟圣，安洪均，全志妍，曹尚佑，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：