掩膜干燥装置制造方法及图纸

本发明专利技术公开一种掩膜干燥装置。根据本发明专利技术一实施例的掩膜干燥装置用于干燥掩膜组装体，该掩膜组装体包括形成开口的掩膜框架、以及向第一方向施加张力且两端的裙部焊接结合在所述掩膜框架上的棒状掩膜，所述掩膜干燥装置可包括：IR灯，能够照射红外线；以及一对第一托架，其与所述裙部并排地相互隔开，具有与所述棒状掩膜的一表面形成预定角度的支撑表面，且能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。

【技术实现步骤摘要】
掩膜干燥装置


[0001]本专利技术涉及掩膜干燥装置，更详细而言，涉及能够增加掩膜的使用年限的掩膜干燥装置。

技术介绍

[0002]在显示装置中，有机发光显示装置(Organic Light Emitting Device，OL ED)具有视野宽、对比度(contrast)优异、响应速度快的优点。由此，有机发光显示装置(OLED)使用领域呈逐渐扩大的趋势。
[0003]这种有机发光显示装置(OLED)的包括电极和发光层的中间层可通过各种方法形成，其中一种方法为蒸镀法(deposition)。
[0004]制造高分辨率有机发光显示装置(OLED)的最大难关在于有机发光显示装置(OLED)工序中作为制造RGB像素的核心的蒸镀工序(deposition)。对准具有与将要形成在基板上的薄膜等的图案相同的图案的细金属掩膜(Fin e Metal Mask，以下简称“掩膜”)，并蒸镀薄膜的原材料以形成所需的图案的薄膜。这种蒸镀工序是在位于腔体(chamber)下端的蒸镀源中加热有机物，将加热的有机物升华，并通过位于上部的掩膜以蒸镀在基板上。
[0005]有机物蒸镀装置包括真空腔体、掩膜框架、掩膜、基板及有机物蒸镀容器，此时，掩膜在拉伸状态下通过焊接固定结合到掩膜框架上。
[0006]当使用掩膜进行多次的蒸镀工序时，有机物等蒸镀物质沉积在掩膜表面。由于因沉积的蒸镀物质而引起掩膜的变形等问题，因此需要定期的掩膜清洁工序以将蒸镀图案的精度、蒸镀成品率保持在预定水平以上。
[0007]蒸镀工序之后，为了除去沉积在掩膜上的有机浆料(slurry)，掩膜清洁系统将主要经过清洁工序和干燥工序。在清洁工序中，向掩膜提供处理液，例如纯水(DIW，deonized water)等清洁液以进行掩膜清洁处理，在干燥工序中使用空气刀(air knife)工序和热风干燥工序，其中，所述空气刀工序是通过向掩膜喷射高压气体来使残留物和清洁液等杂质与高压气体一同脱落而除去的工序，所述热风干燥工序是向掩膜提供热风以除去残留杂质的工序。
[0008]在常规方式的干燥工序中，存在难以有效地除去残留在掩膜框架与掩膜之间相接触位置的焊接部分缝隙中的杂质的问题。
[0009]现有技术文献
[0010]专利文献
[0011]专利文献0001：韩国公开公报第10
‑
2015
‑
0006335号(公开日：2015年01月16日)

技术实现思路

[0012]技术问题
[0013]本专利技术所要解决的一个技术问题在于提供能够在短时间内有效除去残留在掩模中杂质的掩膜干燥装置。
[0014]技术方案
[0015]为了解决如上所述的技术问题，本专利技术提供掩膜干燥装置。
[0016]根据本专利技术一实施例的掩膜干燥装置可用于干燥掩膜组装体，所述掩膜组装体可包括形成开口的掩膜框架、以及向第一方向施加张力且两端的裙部焊接结合在所述掩膜框架上的棒状掩膜，所述掩膜干燥装置可包括：IR灯，能够照射红外线；以及第一托架，具有与所述棒状掩膜的一表面形成预定角度的支撑表面，且能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。
[0017]根据一实施例，所述掩膜干燥装置还可包括第二托架，所述第二托架可具有与所述棒状掩膜的另一表面形成预定角度的支撑表面，能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。
[0018]根据一实施例，所述掩膜干燥装置还可包括第二托架，所述第二托架可包括与所述棒状掩膜的另一表面形成第一角度的第一支撑表面、以及在所述第一支撑表面延伸设置以与所述棒状掩膜的另一表面形成第二角度的第二支撑表面，能够将所述IR灯支撑在所述第一支撑表面和所述第二支撑表面上。
[0019]根据一实施例，所述第一支撑表面可具有与所述第二支撑表面形成钝角的夹角。
[0020]根据一实施例，所述掩膜干燥装置还可包括与所述裙部并排地相互隔开的一对第二托架，所述一对第二托架与所述棒状掩膜的另一表面相向，具有任意曲率半径的曲面的横截面，并将所述IR灯支撑在所述曲面上。
[0021]根据一实施例，所述掩膜干燥装置还可包括干燥腔体，所述干燥腔体收容所述掩膜组装体以提高所述红外光集中效率。
[0022]专利技术效果
[0023]根据本专利技术的实施例，通过将红外线照射到因与掩膜框架叠加而难以干燥的棒状掩膜部位，高温红外线有效地使清洗液和超纯水汽化，因此具有提高干燥效率的优点。
[0024]根据本专利技术的一实施例，通过根据表面温度的瞬间升高而不是物理外力来进行挥发或蒸发，从而具有可以在不损坏掩膜组装体的情况下进行干燥且增加使用年限的优点。
[0025]根据本专利技术的另一实施例，通过在第一托架和第二托架中双重照射红外线，从而具有通过提高掩膜组装体的表面温度上升速度来提高干燥性能的优点。
[0026]根据本专利技术的还一实施例，通过在第二托架的互不相同的第一支撑表面和第二支撑表面上设置IR灯以增加特定部位的红外线照射强度，从而具有通过提高棒状掩膜与掩膜框架之间的接合区域中因叠加而难以干燥的部位的干燥速度来提高生产率和运转效率的优点。
[0027]根据本专利技术的又一实施例，在干燥腔体中收容IR灯，从而具有阻挡外部气流，并且即使在IR灯的瞬时温度升高的情况下，内部也提供稳定的温度变化，通过控制IR灯的高照度的红外线以排除对工作人员的人体有害性的优点。
附图说明
[0028]图1是示出根据本专利技术一实施例的掩膜组装体的立体图。
[0029]图2是示出根据本专利技术一实施例的掩膜干燥装置的立体图。
[0030]图3是图2的掩膜干燥装置的俯视图。
[0031]图4是示出根据本专利技术的另一实施例的掩膜干燥装置的立体图。
[0032]图5的(a)部分至图5的(c)部分是根据本专利技术的不同实施例的掩膜干燥装置的侧面剖视图。
[0033]图6是示出根据本专利技术一实施例的掩膜干燥装置的侧面剖视图。
[0034]图7的(a)部分至图7的(d)部分是根据本专利技术的不同实施例的掩膜干燥装置的仰视图。
[0035]图8是图7的(d)部分的掩膜干燥装置的立体图。
[0036]附图标记的说明
[0037]10：掩膜干燥装置
[0038]100：IR灯
[0039]200：第一托架210：支撑表面
[0040]300：第二托架310：第一支撑表面
[0041]320：第二支撑表面
[0042]400：干燥腔体
[0043]1：掩膜组装体2：掩膜框架
[0044]3：棒状掩膜4：裙部
具体实施方式
[0045]以下，将参照附图详细描述本专利技术的优选实施例。然而，本专利技术的技术思想不限于此处描述的实施例，也能够以其他形式实施。相反，这里所介绍的实施例是为了使所公开的内容全面、完整并使本专利技术的思想充分传达给普通技术人员而提供。
[0046]在本文中，当提及一个结构要素位于另一本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种掩膜干燥装置，用于干燥掩膜组装体，所述掩膜组装体包括形成开口的掩膜框架、以及向第一方向施加张力且两端的裙部焊接结合在所述掩膜框架上的棒状掩膜，所述掩膜干燥装置包括：IR灯，能够照射红外线；以及第一托架，具有与所述棒状掩膜的一表面形成预定角度的支撑表面，且能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。2.根据权利要求1所述的掩膜干燥装置，其中，所述掩膜干燥装置还包括第二托架，所述第二托架具有与所述棒状掩膜的另一表面形成预定角度的支撑表面，能够将所述IR灯支撑在所述支撑表面上。3.根据权利要求1所述的掩膜干燥装置，其中，所述掩膜干燥装置还包括第二托架，所述第二托架包括与所述棒状掩膜的另一表面形成第一角度的第一支...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘大日，韩奎龙，朴商弼，田银秀，金明珍，
申请(专利权)人：系统科枝公司，
类型：发明
国别省市：