一种磷铜球的抛光打磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种磷铜球的抛光打磨装置，涉及磷铜球抛光技术领域，解决了目前长期的磨损会造成大量磨砂石的磨损，因此会造成磨砂石的减少，导致磷铜球的抛光打磨不够全面充分，且单次大量投入磷铜球则会造成其抛光打磨会出现大量磷铜球碰撞的现象发生的技术问题；包括抛光机箱，抛光机箱的顶部设有支撑套架，支撑套架的内部固定套接有两个进料斗箱，两个进料斗箱的内部转动套接有螺旋转杆，两个进料斗箱的底端均延伸至抛光机箱的内部，两个进料斗箱的顶部均开设有两个投料口；本实用新型专利技术具有伺服电机带动螺旋转杆进行旋转，由此使得磷铜球进行定时定量的投放，以及快速便捷的将打磨抛光用的磨砂进行投放。将打磨抛光用的磨砂进行投放。将打磨抛光用的磨砂进行投放。

【技术实现步骤摘要】
一种磷铜球的抛光打磨装置


[0001]本技术涉及磷铜球抛光
，尤其涉及一种磷铜球的抛光打磨装置。

技术介绍

[0002]磷铜球，一种电镀铜阳极材料，主材为铜，典型含铜量99.93％以上，含磷量250
‑
650ppm之间，产品主要应用于PCB制造、装饰及表面处理等电镀铜制造领域；磷铜球在抛光打磨时，由于长期的磨损会造成大量磨砂石的磨损，因此会造成磨砂石的减少，导致磷铜球的抛光打磨不够全面充分，且单次大量投入磷铜球则会造成其抛光打磨会出现大量磷铜球碰撞的现象发生；
[0003]为此，设计一种磷铜球的抛光打磨装置来解决上述问题。

技术实现思路

[0004]本技术提供一种磷铜球的抛光打磨装置，解决了长期的磨损会造成大量磨砂石的磨损，因此会造成磨砂石的减少，导致磷铜球的抛光打磨不够全面充分，且单次大量投入磷铜球则会造成其抛光打磨会出现大量磷铜球碰撞的现象发生的技术问题。
[0005]为解决上述技术问题，本技术提供的一种磷铜球的抛光打磨装置，包括抛光机箱，所述抛光机箱的顶部设有支撑套架，所述支撑套架的内部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种磷铜球的抛光打磨装置，包括抛光机箱(1)，其特征在于：所述抛光机箱(1)的顶部设有支撑套架(7)，所述支撑套架(7)的内部固定套接有两个进料斗箱(2)，两个所述进料斗箱(2)的内部转动套接有螺旋转杆(4)，两个所述进料斗箱(2)的底端均延伸至抛光机箱(1)的内部，两个所述进料斗箱(2)的顶部均开设有两个投料口，所述支撑套架(7)的底部固定安装有电机套架(6)，所述抛光机箱(1)的内部滑动套接有出料透孔板(9)，所述电机套架(6)与出料透孔板(9)位于同一竖直面，所述电机套架(6)的内部转动套接有混合转杆(8)，所述混合转杆(8)的外部固定套接有若干个翻料板(10)，所述电机套架(6)的内部固定安装有搅拌电机(12)，所述搅拌电机(12)的输出端与混合转杆(8)的顶端固定连接，所述转杆(8)的底端与出料透孔板(9)转动套接，所述抛光机箱(1)的外壁固定安装有两个固定支板(15)，两个所述固定支板(15)的两侧均转动套接有收合套板(14)，两个所述固定支板(15)的顶部均固定安装有升降套架(16)，两个所述升降套架(16)的外部均活动套接有活动套筒(22)，两个所述活动套筒(22)之间固定套接有套接连板(19)，所述套接连板(19)的两端分别与相对应的收合套板(14)滑动套接，两个所述升降套架(16)的内部均转动套接有螺纹转杆(23)，两个所述螺纹转杆(23)的外部均螺纹套接有螺纹套筒(20)，两个所述螺纹套筒(20)均与相对应的套接...

【专利技术属性】
技术研发人员：李莹，
申请(专利权)人：天津嘉能海能源科技发展有限公司，
类型：新型
国别省市：