一种均匀导气的管式炉制造技术

本实用新型专利技术涉及化学气相沉积(CVD)管式炉技术领域，特别涉及一种均匀导气的管式炉，其包括：炉体；石英管，其穿设于炉体内，且其两端部自炉体向外伸出，两端部包括第一端部和第二端部；二法兰，其分别设于石英管的第一端部和第二端部上；导气装置，位于石英管的第一端部上，其包括穿设在第一端部的法兰上的进气管、以及设于石英管内与进气管连通的导气结构；导气结构包括进气主管道、与进气主管道连通的导气主管道、与进气主管道连通并与导气主管道呈环形平行设置的若干导气支管道、以及顺次衔接各导气支管道的环形加固件；出气管，其穿设在第二端部的法兰上。采用本实用新型专利技术提供的均匀导气的管式炉，其炉内的气流平稳且气体扩散均匀。匀。匀。

【技术实现步骤摘要】
一种均匀导气的管式炉


[0001]本技术涉及化学气相沉积(CVD)管式炉
，特别涉及一种均匀导气的管式炉。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)是指化学气体在基质表面反应形成薄膜或纳米材料的一种化工技术，是半导体领域中制备薄膜材料应用最为广泛的技术之一。该技术主要是利用一种或几种气相化合物或单质，在基质表面上进行化学反应生成薄膜或纳米材料。
[0003]申请人发现在使用管式炉进行CVD法制备二维材料时，气流扩散不均匀，导致化学气体结合不均匀，导致材料制备可重复性差；且当样品为轻质粉末时，不稳定的气流容易将粉末吹飞，导致污染其他原材料、药品浪费、污染石英管、堵塞出气口等。因此，气流平稳和气体扩散均匀是管式炉CVD法制备二维材料
亟须解决的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服上述现有技术中的不足，提供一种均匀导气的管式炉。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供一种均匀导气的管式炉，包括：
[0006]一炉体；
[0007]一石英管，其穿设于该炉体内，且其两端部自该炉体向外伸出，该两端部包括第一端部和第二端部；
[0008]二法兰，其分别设于该石英管的第一端部和第二端部上；
[0009]一导气装置，位于该石英管的第一端部上，其包括穿设在该第一端部的法兰上的一进气管、以及设于该石英管内与该进气管连通的一导气结构；
[0010]该导气结构包括一进气主管道、与该进气主管道连通的一导气主管道、与该进气主管道连通并与该导气主管道呈环形平行设置的若干导气支管道、以及一顺次衔接各导气支管道的环形加固件；
[0011]一出气管，其穿设在第二端部的法兰上。
[0012]在一更佳的实施例中，所述进气主管道的管径大于所述导气主管道的管径。
[0013]在一更佳的实施例中，所述进气主管道的管径与所述导气主管道的管径比为(9
‑
10):(4
‑
5)。
[0014]在一更佳的实施例中，所述导气结构的最外侧表面到所述石英管内壁的距离为9
‑
10mm。
[0015]在一更佳的实施例中，所述石英管的管径为59
‑
61mm，所述进气主管道的管径为11
‑
12mm，所述进气管的管径为13
‑
14mm，所述出气管的管径为13
‑
14mm。
[0016]在一更佳的实施例中，所述进气主管道与所述导气支管道的通过一弧形管道连通。
[0017]在一更佳的实施例中，所述弧形管道的弧度为π/2
‑
19π/36。
[0018]在一更佳的实施例中，所述导气结构包括4个导气支管道，沿所述进气主管道管径的轴线方向观之，所述4个导气支管道分别位于导气主管道的正上方、正下方、正左方、以及正右方。
[0019]在一更佳的实施例中，任一所述导气支管道与所述进气主管道的间距相等。
[0020]在一更佳的实施例中，所述进气管上设置有一气压表。
[0021]综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：管式炉中的气流平稳且气体扩散均匀。
[0022]本技术的其它特征和有益效果将在随后的说明书中阐述，并且，部分地从说明书中变得显而易见，或者通过实施本技术而了解。本技术的目的和其他有益效果可通过在说明书、权利要求书以及附图中所特别指出的结构来实现和获得。
附图说明
[0023]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作一简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本技术的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图；在下面描述中附图所述的位置关系，若无特别指明，皆是图示中组件绘示的方向为基准。
[0024]图1为本技术一实施例提供的一种均匀导气的管式炉的结构示意图；
[0025]图2为本技术一实施例提供的导气结构的放大示意图；
[0026]图3为本技术一实施例提供的导气结构的侧视结构示意图。
[0027]附图标记：
[0028]1、炉体；11、上腔体；12、下腔体；2、石英管；21、第一端部；22、第二端部；23、前瓷方舟；23a、上游原材料；24、后瓷方舟；24a、下游原材料；24b、倒置衬底；31、进气法兰；32、出气法兰；41、进气管；42、进气主管道；43、导气主管道；44、导气支管道；45、环形加固件；46、弧形管道；47、气压表；5、出气管。
具体实施方式
[0029]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例；下面所描述的本技术不同实施方式中所设计的技术特征只要彼此之间未构成冲突就可以相互结合；基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0030]在本技术的描述中，需要说明的是，本技术所使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)具有与本技术所属领域的普通技术人员通常所理解的含义相同的含义，不能理解为对本技术的限制；应进一步理解，本技术所使用的术语应被理解为具有与这些术语在本说明书的上下文和相关领域中的含义一致的含义，并且不应以理想化或过于正式的意义来理解，除本技术中明确如此定义之外。
[0031]以下所公开的不同实施例可能重复使用相同的参考符号和/或标记。这些重复是为了简化与清晰的目的，并非用以限定所讨论的不同实施例和/或结构之间有特定的关系。
[0032]请参考图1
‑
3，本技术一实施例提供一种均匀导气的管式炉，包括一炉体1、一石英管2、二法兰、一导气装置4以及一出气管5；
[0033]一炉体1，该炉体1内具有一空腔，该空腔由上腔体11和下腔体12构成；
[0034]一石英管2，其穿设于该炉体1内，且其两端部自该炉体1向外伸出，该两端部包括第一端部21和第二端部22，具体而言，该石英管2分为第一端部21、中部、以及第二端部22，其中，其大部分为处于炉体1内部的中部，其余则为端部，例如是该石英管2的3/5位于炉体1内，而第一端部21和第二端部22则各占1/5，分别从炉体1的两端向外伸出；
[0035]二法兰，其分别设于该石英管2的第一端部21和第二端部上22，具体而言，该二法兰包括进气法兰31和出气法兰32，其设置在石英管2的管端，起到良好的封闭密封作用；
[0036]一导气装置4，位于该石英管2的第一端部21上，其包括穿设在该第一端部21的法兰上的一进气管41、以及设于该石英管2内与该进气管41本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种均匀导气的管式炉，其特征在于，包括：一炉体(1)；一石英管(2)，其穿设于该炉体(1)内，且其两端部自该炉体(1)向外伸出，该两端部包括第一端部(21)和第二端部(22)；二法兰，其分别设于该石英管(2)的第一端部(21)和第二端部(22)上；一导气装置(4)，位于该石英管(2)的第一端部(21)上，其包括穿设在该第一端部(21)的法兰上的一进气管(41)、以及设于该石英管(2)内与该进气管(41)连通的一导气结构；该导气结构包括一进气主管道(42)、与该进气主管道(42)连通的一导气主管道(43)、与该进气主管道(42)连通并与该导气主管道(43)呈环形平行设置的若干导气支管道(44)、以及一顺次衔接各导气支管道(44)的环形加固件(45)；一出气管(5)，其穿设在第二端部(22)的法兰上。2.根据权利要求1所述的均匀导气的管式炉，其特征在于：所述进气主管道(42)的管径大于所述导气主管道(43)的管径，所述导气主管道(43)的管径与所述导气支管道(44)的管径相同。3.根据权利要求1所述的均匀导气的管式炉，其特征在于：所述进气主管道(42)的管径与所述导气主管道(43)的管径比为(9
‑
10):(4
‑
5)。4.根据权利要求1所述的均匀导气的管式炉，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁丛辉，罗雨，戴李宗，罗伟昂，许一婷，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：新型
国别省市：