一种均匀导气的管式炉制造技术

本实用新型专利技术涉及化学气相沉积(CVD)管式炉技术领域，特别涉及一种均匀导气的管式炉，其包括：炉体；石英管，其穿设于炉体内，且其两端部自炉体向外伸出，两端部包括第一端部和第二端部；二法兰，其分别设于石英管的第一端部和第二端部上；导气装置，位于石英管的第一端部上，其包括穿设在第一端部的法兰上的进气管、以及设于石英管内与进气管连通的导气结构；导气结构包括进气主管道、与进气主管道连通的导气主管道、与进气主管道连通并与导气主管道呈环形平行设置的若干导气支管道、以及顺次衔接各导气支管道的环形加固件；出气管，其穿设在第二端部的法兰上。采用本实用新型专利技术提供的均匀导气的管式炉，其炉内的气流平稳且气体扩散均匀。匀。匀。

【技术实现步骤摘要】
一种均匀导气的管式炉


[0001]本技术涉及化学气相沉积(CVD)管式炉
，特别涉及一种均匀导气的管式炉。

技术介绍

[0002]化学气相沉积(CVD)是指化学气体在基质表面反应形成薄膜或纳米材料的一种化工技术，是半导体领域中制备薄膜材料应用最为广泛的技术之一。该技术主要是利用一种或几种气相化合物或单质，在基质表面上进行化学反应生成薄膜或纳米材料。
[0003]申请人发现在使用管式炉进行CVD法制备二维材料时，气流扩散不均匀，导致化学气体结合不均匀，导致材料制备可重复性差；且当样品为轻质粉末时，不稳定的气流容易将粉末吹飞，导致污染其他原材料、药品浪费、污染石英管、堵塞出气口等。因此，气流平稳和气体扩散均匀是管式炉CVD法制备二维材料
亟须解决的问题。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于克服上述现有技术中的不足，提供一种均匀导气的管式炉。
[0005]为了解决上述技术问题，本技术提供一种均匀导气的管式炉，包括：
[0006]一炉体；
[0007]一石英管，其穿设于该炉体内，且其两端部本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种均匀导气的管式炉，其特征在于，包括：一炉体(1)；一石英管(2)，其穿设于该炉体(1)内，且其两端部自该炉体(1)向外伸出，该两端部包括第一端部(21)和第二端部(22)；二法兰，其分别设于该石英管(2)的第一端部(21)和第二端部(22)上；一导气装置(4)，位于该石英管(2)的第一端部(21)上，其包括穿设在该第一端部(21)的法兰上的一进气管(41)、以及设于该石英管(2)内与该进气管(41)连通的一导气结构；该导气结构包括一进气主管道(42)、与该进气主管道(42)连通的一导气主管道(43)、与该进气主管道(42)连通并与该导气主管道(43)呈环形平行设置的若干导气支管道(44)、以及一顺次衔接各导气支管道(44)的环形加固件(45)；一出气管(5)，其穿设在第二端部(22)的法兰上。2.根据权利要求1所述的均匀导气的管式炉，其特征在于：所述进气主管道(42)的管径大于所述导气主管道(43)的管径，所述导气主管道(43)的管径与所述导气支管道(44)的管径相同。3.根据权利要求1所述的均匀导气的管式炉，其特征在于：所述进气主管道(42)的管径与所述导气主管道(43)的管径比为(9
‑
10):(4
‑
5)。4.根据权利要求1所述的均匀导气的管式炉，其特征在于：...

【专利技术属性】
技术研发人员：袁丛辉，罗雨，戴李宗，罗伟昂，许一婷，
申请(专利权)人：厦门大学，
类型：新型
国别省市：