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本实用新型涉及化学气相沉积(CVD)管式炉技术领域，特别涉及一种均匀导气的管式炉，其包括：炉体；石英管，其穿设于炉体内，且其两端部自炉体向外伸出，两端部包括第一端部和第二端部；二法兰，其分别设于石英管的第一端部和第二端部上；导气装置，位于石...
该专利属于厦门大学所有，仅供学习研究参考，未经过厦门大学授权不得商用。

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