本发明专利技术涉及半导体制造设备技术领域，公开了一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜，所述清洗柜内安装有喷头，所述清洗室和集液室通过回收孔相接通，所述集液室内设置有滤网，当对单晶片上表面进行清洗时，启动循环泵，通过吸液管和输液管将集液室中的清洗液输送到喷头中，通过喷头喷洒清洗液对单晶片进行清洗，由于移动座可以带动喷头沿着模组滑轨移动，便于喷头对单晶片进行全方面的清洗，通过回收孔可以将清洗室中的清洗液回流到集液室中，并且，通过集液室中的滤网可以对回流的清洗液进行过滤，有利于对清洗液中所携带的颗粒杂质进行拦截，能够实现清洗液的循环利用。的循环利用。的循环利用。
【技术实现步骤摘要】
一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备
[0001]本专利技术涉及半导体制造设备
，具体为一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备。
技术介绍
[0002]锗单晶是不含大角晶界或孪晶的锗晶体，呈金刚石型晶体结构，是重要的半导体材料，现如今，锗单晶片的应用越来越广泛，产量也大大的增加，锗单晶片主要用于三结太阳能电池的衬底材料，与单晶硅电池相比，锗衬底电池具有更高的光电转化效率和更低的发电成本，且具有更好的耐高温性能和更好的空间抗辐射能力，寿命约为硅太阳能电池的两倍，因此锗衬底在空间卫星太阳能电池的制备方面有良好的应用。
[0003]目前的单片生产用清洗设备主要是通过在高速旋转的晶片表面上喷射清洗液来达到清洗的目的，在清洗过程中，夹持部件夹持着晶片以进行高速旋转，使得清洗液可以对单片表面的颗粒物进行冲刷，但清洗过程中由于喷头固定，不便于对晶片表面进行全方面的清洗，容易出现清洗死角，与此同时，不便于对清洗液中的杂质进行过滤，对清洗液的循环利用功能造成影响，导致清洗液使用成本增加。
技术实现思路
[0004]本专利技术的目的在于提供一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。
[0005]为了解决上述技术问题，本专利技术提供如下技术方案：一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜，所述清洗柜内设置有清洗室和集液室，所述清洗室内安装有基座，所述基座上开设有置物槽，所述清洗室的顶部安装有模组滑轨，所述模组滑轨上滑动安装有移动座，所述移动座上安装有喷头，所述清洗柜上安装有循环泵，所述循环泵的输出端与喷头通过输液管相连接，且循环泵的输入端与集液室通过吸液管相连接，所述清洗室和集液室通过回收孔相接通，所述集液室内设置有滤网，当工作人员通过机械手将单晶片放置在置物槽中，对单晶片上表面进行清洗时，启动循环泵，通过吸液管和输液管将集液室中的清洗液输送到喷头中，通过喷头喷洒清洗液对单晶片进行清洗，由于移动座可以带动喷头沿着模组滑轨移动，便于喷头对单晶片进行全方面的清洗，通过回收孔可以将清洗室中的清洗液回流到集液室中，并且，通过集液室中的滤网可以对回流的清洗液进行过滤，有利于对清洗液中所携带的颗粒杂质进行拦截，能够实现清洗液的循环利用。
[0006]作为优选技术方案，所述清洗柜上设置有清洗防污染组件和清洗防污染利用组件，所述清洗防污染组件为清洗防污染利用组件提供运行驱动力。
[0007]作为优选技术方案，所述清洗防污染组件包括工作腔、双轴驱动电机、穿孔、转盘和电动吸盘；所述基座内设有工作腔，所述工作腔内安装有双轴驱动电机，所述工作腔与置物
槽通过穿孔相接通，所述置物槽内设置有转盘，所述双轴驱动电机的上输出轴贯穿穿孔与转盘相连接，所述转盘上安装有电动吸盘，当单晶片放置在转盘上时，通过启动电动吸盘实现对单晶片的吸附固定，再启动双轴驱动电机，使双轴驱动电机的上输出轴带动转盘进行高速旋转，让转盘可以带动单晶片进行同步转动，能够利用旋转离心力将单晶片上表面上的清洗液抛离，提高清洗液对单晶片表面的清洗效果。
[0008]作为优选技术方案，所述清洗防污染组件包括移动块、丝孔、连接弹簧、连接轴承、连接环、传动板、顶升杆、第一滑孔、传动环和封堵垫；所述双轴驱动电机的上输出轴设有螺纹，且双轴驱动电机的上输出轴上设置有移动块，所述移动块上开设有丝孔，所述双轴驱动电机的上输出轴贯穿丝孔，且双轴驱动电机的上输出轴与丝孔螺纹配合，所述移动块与双轴驱动电机通过连接弹簧相连接，所述移动块通过连接轴承套设有连接环，所述连接环上安装有传动板，所述传动板上安装有顶升杆，所述工作腔的顶部开设有第一滑孔，所述置物槽内放置有传动环，所述顶升杆贯穿第一滑孔与传动环相连接，所述传动环上安装有封堵垫，当双轴驱动电机运转时，双轴驱动电机的上输出轴在旋转过程中可以驱动移动块拉伸连接弹簧进行快速上移，移动块在上移过程中能够通过连接环带动传动板进行同步移动，与此同时，由于顶升杆与第一滑孔为滑动配合，传动板在移动过程中可以通过顶升杆顶升传动环进行同步位移，有利于传动环带动封堵垫对置物槽与单晶片的间隙进行封堵，可以避免清洗液流入到置物槽与单晶片的间隙中。
[0009]作为优选技术方案，所述清洗防污染组件还包括有凸环、滑道、固定块、腔室、顶板、支撑弹片、连接销、通孔和连接孔；所述传动环上安装有凸环，所述封堵垫的底部开设有滑道，所述凸环与滑道相嵌合，且凸环与滑道为转动配合，所述封堵垫的底部固定安装有固定块，所述固定块内设有腔室，所述腔室内滑动安装有顶板，所述顶板与腔室通过支撑弹片相连接，所述顶板上安装有连接销，所述腔室上开设有通孔，所述连接销贯穿通孔，所述转盘的侧壁上开设有连接孔，当移动块移动至最高点时，此时，腔室中的顶板能够在支撑弹片的弹力作用下进行外移，顶板在移动过程中能够带动连接销穿插到转盘侧壁上的连接孔内，与此同时，由于封堵垫通过凸环与滑道的转动配合可以在传动环上进行转动，转盘进行旋转时，通过连接销可以带动封堵垫进行同步转动，利用封堵垫旋转所形成的离心作用力，能够将封堵垫表面上的清洗液快速抛出。
[0010]作为优选技术方案，所述连接销和连接孔上均设有斜面，所述封堵垫上设有抛离坡，所述连接销的端部滚动嵌合有接触球，所述接触球与转盘的侧壁为点接触。
[0011]作为优选技术方案，所述清洗防污染利用组件包括联动杆、第二滑孔、转孔、转轴和连轴器；所述传动板上安装有联动杆，所述清洗室的底部开设有第二滑孔，所述联动杆贯穿第二滑孔与滤网相连接，所述滤网上开设有转孔，所述转孔通过轴承安装有转轴，所述转轴的上端安装有连轴器，所述连轴器与双轴驱动电机的下输出轴处于同一中心轴线上，当传动板进行上移时，由于联动杆与第二滑孔为滑动配合，传动板在移动过程中能够通过联动杆带动滤网进行同步移动，使得双轴驱动电机的下输出轴与连轴器相连接，实现双轴驱动电机与连轴器的对接，让双轴驱动电机的下输出轴通过连轴器带动转轴进行同步旋转。
[0012]作为优选技术方案，所述清洗防污染利用组件还包括转柱、轨道、伸缩杆、联动块、
传动轴和颠板；所述转轴的下端安装有转柱，所述转柱的圆周侧壁上设有轨道，所述滤网的底部通过伸缩杆安装有联动块，所述联动块上安装有传动轴，所述传动轴与轨道相契合，所述联动块上安装有颠板，当转轴进行旋转时，转轴能够带动转柱进行同步旋转，由于传动轴与轨道相契合，且传动轴能够在轨道中滑动，利用转柱旋转过程中轨道对传动轴所形成的高度差，从而能够在转柱的旋转周期内通过传动轴带动联动块进行纵向往复移动，进而使联动块带动颠板对滤网进行振动，可以避免清洗液中的颗粒杂质堵塞滤网。
[0013]与现有技术相比，本专利技术所达到的有益效果是：当工作人员通过机械手将单晶片放置在置物槽中，对单晶片上表面进行清洗时，启动循环泵，通过吸液管和输液管将集液室中的清洗液输送到喷头中，通过喷头喷洒清洗液对单晶片进行清洗，由于移动座可以带动喷头沿着模组滑轨移动，便于喷头对单晶片进行全方面的清洗，通过本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：该具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备包括清洗柜（1），所述清洗柜（1）内设置有清洗室（2）和集液室（3），所述清洗室（2）内安装有基座（4），所述基座（4）上开设有置物槽（5），所述清洗室（2）的顶部安装有模组滑轨（6），所述模组滑轨（6）上滑动安装有移动座（7），所述移动座（7）上安装有喷头（8），所述清洗柜（1）上安装有循环泵（9），所述循环泵（9）的输出端与喷头（8）通过输液管（10）相连接，且循环泵（9）的输入端与集液室（3）通过吸液管（11）相连接，所述清洗室（2）和集液室（3）通过回收孔（12）相接通，所述集液室（3）内设置有滤网（13）。2.根据权利要求1所述的一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：所述清洗柜（1）上设置有清洗防污染组件（14）和清洗防污染利用组件（15），所述清洗防污染组件（14）为清洗防污染利用组件（15）提供运行驱动力。3.根据权利要求2所述的一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：所述清洗防污染组件（14）包括工作腔（1401）、双轴驱动电机（1402）、穿孔（1403）、转盘（1404）和电动吸盘（1405）；所述基座（4）内设有工作腔（1401），所述工作腔（1401）内安装有双轴驱动电机（1402），所述工作腔（1401）与置物槽（5）通过穿孔（1403）相接通，所述置物槽（5）内设置有转盘（1404），所述双轴驱动电机（1402）的上输出轴贯穿穿孔（1403）与转盘（1404）相连接，所述转盘（1404）上安装有电动吸盘（1405）。4.根据权利要求3所述的一种具有循环利用功能的锗单晶片生产用清洗设备，其特征在于：所述清洗防污染组件（14）包括移动块（1406）、丝孔（1407）、连接弹簧（1408）、连接轴承（1409）、连接环（1410）、传动板（1411）、顶升杆（1412）、第一滑孔（1413）、传动环（1414）和封堵垫（1415）；所述双轴驱动电机（1402）的上输出轴设有螺纹，且双轴驱动电机（1402）的上输出轴上设置有移动块（1406），所述移动块（1406）上开设有丝孔（1407），所述双轴驱动电机（1402）的上输出轴贯穿丝孔（1407），且双轴驱动电机（1402）的上输出轴与丝孔（1407）螺纹配合，所述移动块（1406）与双轴驱动电机（1402）通过连接弹簧（1408）相连接，所述移动块（1406）通过连接轴承（1409）套设有连接环（1410），所述连接环（1410）上安装有传动板（1411），所述传动板（1411）上安装有顶升杆（1412），所述工作腔（1401）的顶部开设有第一滑孔（1413），所述置物槽（5）内放置有传动环（1414），所述顶升杆（1412）贯穿第一滑孔（1413）与传动环（141...
【专利技术属性】
技术研发人员：吕远芳，杜晓星，张皓楠，李超，
申请(专利权)人：保定三晶电子材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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