【技术实现步骤摘要】
显示设备和制造其的方法
[0001]相关申请的交叉引用
[0002]本申请基于并且要求于2021年11月29日在韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10
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2021
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0167722号的优先权，其公开通过引用以其整体并入本文。
[0003]一个或多个实施方式大体上涉及显示设备和制造其的方法，并且更具体地，涉及能够容易与载体基板分开的显示设备和制造其的方法。
技术介绍
[0004]一般而言，柔性的显示设备的制造包括在载体基板上形成柔性的显示基板的工艺。在显示基板(形成在载体基板上)上形成显示元件层之后，将显示基板与载体基板分开，以制造显示设备。
技术实现思路
[0005]然而，根据相关领域制造显示设备的方法涉及到难以将显示基板与载体基板分开的问题。
[0006]一个或多个实施方式包括可容易与载体基板分开的显示设备，然而，上面的目标为示例，并且本公开的实施方式的范围不受上面的目标的限制。
[0007]另外的方面将部分在如下的描述中陈述，并且部分将从...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种制造显示设备的方法，所述方法包括下述步骤：在载体基板上形成包括硅氧化物的第一无机层；通过使用一氧化二氮(N2O)气体等离子体处理所述第一无机层；在所述等离子体处理之后，在所述第一无机层上形成显示基板；形成设置在所述显示基板上的显示元件层；和将所述显示基板与所述载体基板分开。2.根据权利要求1所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过等离子体处理所述第一无机层的上表面来完成。3.根据权利要求2所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过根据在所述第一无机层中的位置改变所述第一无机层中每单位体积的氧含量来完成。4.根据权利要求3所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过使所述第一无机层中每单位体积的氧含量在从所述第一无机层的面向所述载体基板的底表面至所述第一无机层的上表面的方向上增加来完成。5.根据权利要求3所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过使所述第一无机层的背向所述载体基板的第一部分中每单位体积的氧含量比所述第一无机层的第二部分中每单位体积的氧含量高来完成，所述第二部分比所述第一部分靠近所述载体基板。6.根据权利要求5所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过使所述第一无机层的第三部分中每单位体积的氧含量在从所述第三部分的面向所述载体基板的底表面至所述第三部分的上表面的方向上增加来完成，所述第三部分位于所述第一部分和所述第二部分之间。7.根据权利要求2所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过根据在所述第一无机层中的位置改变所述第一无机层中每单位体积的氢含量来完成。8.根据权利要求7所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过使所述第一无机层中每单位体积的氢含量从所述第一无机层的面向所述载体基板的底表面至所述第一无机层的所述上表面减少来完成。9.根据权利要求7所述的方法，其中所述等离子体处理所述第一无机层通过使所述第一无机层的背向所述载体基板的第一部分中每单位体积的氢含量比所述第一无机层的第二部分中每单位体积的氢含量低来完成，所述第二部分比所述第一部分靠近所述载体基板。10.根据权利要求9所述的方法...
【专利技术属性】
技术研发人员：郑镕彬，郭银珍，韩智慧，裵哲敏，李相旭，
申请(专利权)人：三星显示有限公司，
类型：发明
国别省市：
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