本实用新型专利技术涉及抛光垫测量技术领域，具体涉及一种抛光垫压缩比测量装置，包括测量平台、调节组件和测量表组件，测量平台上设有立柱，调节组件包括套设在立柱上的移动环，移动环上转动连接有支架，测量表组件包括测量表和探针，测量表的外部套设有安装环，测量表通过安装环安装在支架上，探针设置在测量表的底部，探针的底端设有砝码连接块。本实用新型专利技术的结构简单，操作方便，且便于调节测量组件的高度和角度，便于多次测量；通过设置第一卡槽和第二卡槽，使得安装环在支架上、砝码在砝码连接块上可以快速地拆装；移动环通过螺栓与立柱连接固定，可便捷地调节高度；支架套设在移动环上，可便捷地调节角度。可便捷地调节角度。可便捷地调节角度。
【技术实现步骤摘要】
一种抛光垫压缩比测量装置
[0001]本技术涉及抛光垫测量
，具体涉及一种抛光垫压缩比测量装置。
技术介绍
[0002]化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing，CMP)是高密度集成电路制造工艺中的一种，用来对正在加工中的硅片或其它衬底材料进行平坦化处理。CMP工艺过程主要有抛光、后清洗和计量测量等部分组成，抛光垫是CMP工艺的关键要素之一，其性能决定CMP能达到的表面平整水平。而抛光垫的性能是决定缺陷尺寸、数量的决定性因素。因此，有必要对抛光垫的各项性能进行综合测量，以保证抛光垫生产过程中的稳定性，其中压缩比对抛光垫的稳定性影响尤为显著。而当前抛光垫压缩比的测量装置结构较为复杂，且高度和角度调节操作繁琐，导致操作耗时较长、测量效率低。
技术实现思路
[0003]针对现有技术中存在的技术问题，本技术的目的是：提供了一种抛光垫压缩比测量装置，该测量装置结构简单、操作简便，高度和角度调节容易，可以提高抛光垫压缩性能的测量效率。
[0004]为了达到上述目的，本技术采用如下技术方案：
[0005]一种抛光垫压缩比测量装置，包括测量平台、调节组件和测量表组件，测量平台上设有立柱，调节组件包括套设在立柱上的移动环，移动环上转动连接有支架，测量表组件包括测量表和探针，测量表的外部套设有安装环，测量表通过安装环安装在支架上，探针设置在测量表的底部，探针的底端设有砝码连接块。
[0006]进一步地，安装环包括左卡环和右卡环，左卡环和右卡环上均设有半圆槽，左卡环和右卡环的半圆槽配合形成圆形槽，测量表安装在圆形槽中。
[0007]进一步地，左卡环和右卡环上均设有卡块，支架上开设有第一卡槽，卡块卡在第一卡槽内。
[0008]进一步地，左卡环和右卡环上均开设有第一螺纹通孔，左卡环与右卡环通过连接螺丝连接固定。
[0009]进一步地，砝码连接块的底部开设有第二卡槽，第二卡槽用于安装砝码。
[0010]进一步地，移动环的底端设有凸台，支架安装在凸台的上方。
[0011]进一步地，凸台上开设有第二螺纹通孔，凸台与立柱通过螺栓连接固定。
[0012]进一步地，支架上开设有通孔，支架通过通孔套设在移动环上。
[0013]进一步地，测量平台上开设有第三螺纹通孔，立柱的外壁上设有螺纹，立柱通过第三螺纹通孔连接在测量平台上。
[0014]进一步地，测量平台为高精度大理石台。
[0015]总的说来，本技术具有如下优点：
[0016]一、本技术的结构简单，操作方便，且便于调节测量表组件的高度和角度，便
于多次测量。
[0017]二、本技术通过设置第一卡槽和第二卡槽，使得安装环在支架上、砝码在砝码连接块上都可以便捷地安装和取下，进而实现测量表组件可快速拆装的效果。
[0018]三、本技术的移动环通过螺栓与立柱连接固定，实现了高度调节方便且稳固的效果；支架套设在移动环上，支架可以沿移动环的径向旋转，实现了角度调节方便的效果。
附图说明
[0019]图1是本技术的抛光垫压缩比测量装置的结构示意图；
[0020]图2是本技术的抛光垫压缩比测量装置的爆炸视图；
[0021]图3是本技术的支架的结构示意图；
[0022]图4是本技术的测量表组件的结构示意图；
[0023]图5是本技术的砝码连接块的结构示意图。
[0024]其中：1：测量平台，11：第三螺纹通孔，2：立柱，3：调节组件，31：移动环，311：第二螺纹通孔，312：凸台，32：支架，321：第一卡槽，322：通孔，4：测量表组件，41：测量表，42：左卡环，43：右卡环，44：卡块，45：第一螺纹通孔，46：连接螺丝，47：探针，48：砝码连接块，481：第二卡槽。
具体实施方式
[0025]下面将结合附图和具体实施方式来对本技术做进一步详细的说明。
[0026]如图1和图2所示，一种抛光垫压缩比测量装置，包括测量平台、调节组件和测量表组件，测量平台上设有立柱，调节组件包括套设在立柱上的移动环，移动环上转动连接有支架，测量表组件包括测量表和探针，测量表的外部套设有安装环，测量表通过安装环安装在支架上，探针设置在测量表的底部，探针的底端设有砝码连接块。支架不仅可以随着移动环沿立柱轴向移动来调节高度，还可以在移动环上转动来调节角度。
[0027]在本实施例中，支架上开设有通孔，支架通过通孔套设在移动环上。支架的通孔内径略大于移动环的外径，支架套设在移动环上，不仅能够实现沿移动环径向转动的功能，还能沿移动环轴向轻松装卸，使用方便。具体的，移动环的底端设有凸台，支架安装在凸台的上方，使得支架可以随移动环上下移动，且不会从移动环上滑落。
[0028]如图2所示，凸台上开设有第二螺纹通孔，凸台与立柱通过螺栓连接固定。凸台可沿立柱轴向上下移动，螺栓穿过第二螺纹通孔与立柱抵接，拧松螺栓，上下滑动移动环，调节到适当高度后拧紧螺栓，即可将凸台紧固在立柱上，结构简单，高度调节容易。
[0029]如图4所示，安装环包括左卡环和右卡环，左卡环和右卡环上均设有半圆槽，左卡环和右卡环的半圆槽配合形成圆形槽，测量表安装在圆形槽中。在本实施例中，左卡环和右卡环上均开设有第一螺纹通孔，左卡环与右卡环通过连接螺丝连接固定。连接螺丝穿过左卡环和右卡环上的第一螺纹通孔，将测量表固定在左卡环和右卡环形成的圆形槽内。
[0030]如图2至图4所示，左卡环和右卡环上均设有卡块，支架上开设有第一卡槽，卡块卡在第一卡槽内。左卡环和右卡环通过卡块与第一卡槽的配合安装在支架上，进而使得测量表组件可以随意地在支架上安装和取下。
[0031]如图5所示，砝码连接块的底部开设有第二卡槽，第二卡槽用于安装砝码。在本实施例中，砝码的顶部设有与第二卡槽相配合的连接块，砝码通过连接块卡在第二卡槽内，第二卡槽上可以加装任意重量和尺寸的砝码。
[0032]如图2所示，测量平台上开设有第三螺纹通孔，立柱的外壁上设有螺纹，立柱通过第三螺纹通孔连接在测量平台上。立柱与测量平台通过螺纹连接，达到立柱可以在测量平台上快速拆装的效果。
[0033]在本实施例中，测量平台为高精度大理石台，可以有效避免平台精度对测量结果产生影响。
[0034]本技术的使用步骤如下：
[0035]S1、在第二卡槽上加装第一砝码，然后调节移动环至合适位置，使第一砝码紧贴测量平台，记下测量表读数T0；
[0036]S2、将抛光垫放置在测量平台上，转动支架使第一砝码落于抛光垫上，保持60s后记下测量表读数T1；
[0037]S3、将第一砝码更换为第二砝码，转动支架使第二砝码落于抛光垫上，保持60s后记下测量表读数T2；
[0038]S4、将第二砝码更换为第一砝码，转动支架使第一砝码落于步骤S3中抛光垫上的相同位置，保持60s后记下测量表读数T本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种抛光垫压缩比测量装置，其特征在于：包括测量平台、调节组件和测量表组件，测量平台上设有立柱，调节组件包括套设在立柱上的移动环，移动环上转动连接有支架，测量表组件包括测量表和探针，测量表的外部套设有安装环，测量表通过安装环安装在支架上，探针设置在测量表的底部，探针的底端设有砝码连接块。2.根据权利要求1所述的一种抛光垫压缩比测量装置，其特征在于：安装环包括左卡环和右卡环，左卡环和右卡环上均设有半圆槽，左卡环和右卡环的半圆槽配合形成圆形槽，测量表安装在圆形槽中。3.根据权利要求2所述的一种抛光垫压缩比测量装置，其特征在于：左卡环和右卡环上均设有卡块，支架上开设有第一卡槽，卡块卡在第一卡槽内。4.根据权利要求2所述的一种抛光垫压缩比测量装置，其特征在于：左卡环和右卡环上均开设有第一螺纹通孔，左卡环与右卡环通过...
【专利技术属性】
技术研发人员：王杰，肖亮锋，袁黎光，吴泽佳，石鑫，
申请(专利权)人：广东粤港澳大湾区黄埔材料研究院，
类型：新型
国别省市：
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