【技术实现步骤摘要】
用于沉积设备的检测机构
[0001]本申请涉及沉积设备
,特别是涉及一种用于沉积设备的检测机构。
技术介绍
[0002]晶圆制造过程包括氧化、沉积、光刻、刻蚀和离子注入/扩散等过程。相关技术中,通常利用沉积设备对晶圆进行沉积,沉积设备的气密性直接影响着晶圆沉积的质量,为此,需要对沉积设备的气密性进行检测,然而,传统的检测机构存在应用局限性。
技术实现思路
[0003]基于此,有必要针对上述技术问题,提供一种用于沉积设备的检测机构,可检测沉积设备的气密性。
[0004]本申请提供了一种用于沉积设备的检测机构,包括:
[0005]气体检测仪,具有进气口;以及
[0006]导气管,连接于所述气体检测仪,且所述导气管连接所述气体检测仪的一端与所述进气口相连通;
[0007]其中,所述气体检测仪用于检测进入所述进气口内的目标气体的浓度。
[0008]在其中一个实施例中,所述检测机构还包括具有预设尺寸的集气部件,所述集气部件具有集气口和与所述集气口相连通的导气口;
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【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种用于沉积设备的检测机构,其特征在于,包括:气体检测仪(110),具有进气口(111);以及导气管(120),连接于所述气体检测仪(110),且所述导气管(120)连接所述气体检测仪(110)的一端与所述进气口(111)相连通;其中,所述气体检测仪(110)用于检测进入所述进气口(111)内的目标气体的浓度。2.根据权利要求1所述的用于沉积设备的检测机构,其特征在于,所述检测机构(10)还包括具有预设尺寸的集气部件(130),所述集气部件(130)具有集气口(131)和与所述集气口(131)相连通的导气口(132);所述导气管(120)连接于所述气体检测仪(110)和所述集气部件(130)之间,所述导气管(120)的一端与所述进气口(111)相连通,所述导气管(120)的另一端与所述导气口(132)相连通。3.根据权利要求2所述的用于沉积设备的检测机构,其特征在于,所述集气部件(130)被构造为弧形结构,所述集气部件(130)背离所述导气口(132)的一侧设有弧面(133),所述弧面(133)上设有沿所述弧面(133)的弧长方向间隔布设的多个所述集气口(131)。4.根据权利要求3所述的用于沉积设备的检测机构,其特征在于,所述集气部件(130)被构造为椭圆弧形结构,所述导气口(132)设于所述椭圆弧形结构沿所述椭圆弧形结构的长轴方向的一端。5.根据权利要求2所述的用于沉积设备的检测机构,其特征在于,所述导气管(120)的一端与所述进气口(111)可拆卸地连通,所述导气管(120)的另一端与所述导气口(132)可拆卸地连通。6.根据权利要求2所述的用于沉积设备的检测机构,其特征...
【专利技术属性】
技术研发人员:肖礼达,赵超,安云富,
申请(专利权)人:上海鼎泰匠芯科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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