光斑大小管控系统及方法技术方案

本发明专利技术涉及光学技术领域，公开一种光斑大小管控系统及方法，以实现像素级光斑大小的宽量程动态切换。方法，包括以下步骤：部署组件和光路；组件包括控制主机、在Z轴方向调整三轴位移台与物镜之间间距的第一位移组件；位于物镜之前光路中的成像透镜；对成像透镜沿光路方向进行水平位移的第二滑移机构；控制主机标定并保存不同像素级光斑大小分别与第一位移组件所处位置和第二滑移机构所处位置之间的映射关系；在对样品进行光学处理的过程中，控制主机获取三轴位移台在XY轴水平面内不同像素位置点之间的切换频率、及样品在水平面内各切换像素位置点的目标光斑大小，然后根据映射关系分别驱动第一位移组件和第二滑移机构同步进行位移切换处理。行位移切换处理。行位移切换处理。

【技术实现步骤摘要】
光斑大小管控系统及方法


[0001]本专利技术涉及光学
，尤其涉及一种光斑大小管控系统及方法。

技术介绍

[0002]在光学产品用于取向的光敏材料的曝光等应用场景中，通常需要对光的偏振态和光斑大小进行调制。
[0003]现有基于光斑大小的调制可通过图像传感器采集并计算光斑大小，然后通过三轴位移台的单维调整以使得同一样品在制备过程中各切换位置的光斑大小相一致。但现有的单维调整方式往往面临空间局限而导致光斑大小的调整范围受限；从而也使得现有制备的样品大多采用同一规格大小的光斑且填充率偏低。

技术实现思路

[0004]本专利技术目的在于公开一种光斑大小管控系统及方法，以实现像素级光斑大小的宽量程动态切换。
[0005]为达上述目的，本专利技术公开一种光斑大小管控系统，包括：
[0006]三轴位移台，设置有在Z轴方向调整承载样品与物镜之间间距的第一位移组件；
[0007]位于所述物镜之前光路中的成像透镜；
[0008]对所述成像透镜沿光路方向进行水平位移的第二滑移机构；<br/>[0009]本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光斑大小管控系统，其特征在于，包括：三轴位移台，设置有在Z轴方向调整承载样品与物镜之间间距的第一位移组件；位于所述物镜之前光路中的成像透镜；对所述成像透镜沿光路方向进行水平位移的第二滑移机构；与所述三轴位移台中第一位移组件及所述第二滑移机构建立数据信号连接的控制主机；所述控制主机用于执行下述步骤：标定并保存不同像素级光斑大小分别与所述第一位移组件所处位置和所述第二滑移机构所处位置之间的映射关系；在对样品进行光学处理的过程中，获取所述三轴位移台在XY轴水平面内不同像素位置点之间的切换频率、及样品在水平面内各切换像素位置点的目标光斑大小，然后根据所述映射关系分别驱动所述第一位移组件和所述第二滑移机构同步进行位移切换处理。2.根据权利要求1所述的光斑大小管控系统，其特征在于，还包括：位于所述成像透镜光路之前的电光晶体，用于根据XY轴水平面内不同像素位置点之间的切换频率同步调制对应单像素点光斑的通断状态。3.根据权利要求2所述的光斑大小管控系统，其特征在于，还包括：位于所述成像透镜与所述电光晶体之间的相位延迟器，用于通过改变光的相位延迟量来调制光的偏振态。4.一种光斑大小管控方法，其特征在于，包括以下步骤：步骤S1、部署组...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨阳，代林茂，李晓春，
申请(专利权)人：长沙麓邦光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：