【技术实现步骤摘要】
一种有机小分子修饰的纳米氮化碳、制备方法及其应用
[0001]本专利技术涉及材料制备
，具体涉及一种有机小分子修饰的纳米氮化碳、制备方法及其应用。
技术介绍
[0002]半导体光催化法由于其经济性和环境友好性，在自然条件下可将有机污染物降解为二氧化碳和水，已被广泛应用于环境清洁领域。然而，仍然存在一些缺陷，如对光响应能力有限和光生电荷转移率低，这限制了它们的进一步应用，因此需要找到一种合适的半导体作为光催化剂。
[0003]1834年报道了聚合氮化碳的首次合成，此后的深入研究发现其具有一系列优异的物理化学性质，如高硬度、高熔点、高化学稳定性、高热导、低密度、耐酸碱及抗氧化和腐蚀等等。氮化碳具有5种结构，如阿尔法相、贝塔相、石墨相、立方相、准立方相等。其中，石墨相氮化碳由于具有较大的共轭结构，稳定的化学性质和简单的制备方法，是报道最广泛的无金属聚合物光催化剂。王心晨教授及其研究团队作为早期一批研究氮化碳光催化方向的专家，对氮化碳的改性及其应用方向做出了广泛的尝试，并取得了大量的研究成果，例如：利用改性氮化碳光催化...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种有机小分子修饰的纳米氮化碳的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：S1，制备体相氮化碳：将三聚氰胺在空气气氛下煅烧后待自然冷却至室温得到体相氮化碳；S2，制备功能化氮化碳：将步骤S1中得到体相氮化碳与有机溶剂溶液混合后置于球磨罐中球磨后得到有机分子修饰的氮化碳混合物；S3，将步骤S2中所得的混合物烘干后得到有机分子修饰的纳米氮化碳粉末。2.如权利要求1所述的一种有机小分子修饰的纳米氮化碳的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中添加的三聚氰胺的量为1～20.0g。3.如权利要求1所述的一种有机小分子修饰的纳米氮化碳的制备方法，其特征在于，所述步骤S1中煅烧升温速率为2.5℃/min，煅烧温度为550℃，恒温时间为2h。4.如权利要求1所述的一种有机小分子修饰的纳米氮化碳的制备方法，其特征在于，所述步骤S2中有机溶剂为甲醇溶液、乙醇溶液、二甲基亚砜溶液、N，N
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