一种显微成像系统的扫描透镜技术方案

本发明专利技术公开了一种显微成像系统的扫描透镜，由光阑、焦距为负的第一透镜、焦距为正的第二透镜、焦距为正的第三透镜和焦距为负的第四透镜组成，整个系统满足以下关系：arctan(HI/EFL)≤11.8

【技术实现步骤摘要】
一种显微成像系统的扫描透镜


[0001]本专利技术涉及一种显微成像系统，尤其是涉及一种显微成像系统的扫描透镜。

技术介绍

[0002]由于传统光学收到光波衍射的限制，为了提高显微镜可观测微小细胞的能力，1957vin Minsky提出了共聚焦显微镜技术。1978年德国的托马斯
·
克里默(Thomas Cremer)和克里斯托夫
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克里默(Christoph Cremer)兄弟，通过将扫描透镜与大功率的激光器结合，采用将激光所有的能量汇聚成点，逐点扫描并通过计算机处理手段合成图样，解决了最初共聚焦显微镜技术对高亮度能源的需求。由于观察的样品的色彩比较丰富，为了实现同时观察不同颜色的样品，显微成像系统上使用的扫描透镜满足在不同波长同时观测情况下，将像差矫正在同一水平。目前光学领域使用扫描透镜较多的场合是激光雕刻行业，这种场合大多数情况下只要将一种波长的平行光束通过扫描透镜形成一个圆形点状光斑即可，如CN114029609A中国专利技术专利申请说明书描述的内容。但是这种扫描透镜在用于显微成像系统时，当不同的波长的光本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显微成像系统的扫描透镜，其特征在于由光阑、焦距为负的第一透镜、焦距为正的第二透镜、焦距为正的第三透镜和焦距为负的第四透镜组成，整个系统满足以下关系：arctan(HI/EFL)≤11.8
°
，2.2≤|F
S1
/EFL|≤2.9，1.9≤|F
S2
/EFL|≤2.2，1.0≤|F
S3
/EFL|≤1.3，1.4≤|F
S4
/EFL|≤1.7，所述的光阑距离所述的第一透镜的第一面的距离≥0.65*EFL，所述的光阑距离所述的像面的距离<3*EFL，其中HI为像面的半像高，EFL表示的为整个扫描透镜的焦距，F
S1
为所述的第一透镜的焦距，F
S2
为所述的第二透镜的焦距，F
S3
为所述的第三透镜的焦距，F
S4
为所述的第四透镜的焦距。2.如权利要求1所述的一种显微成像系统的扫描透镜，其特征在于所述的第一透镜为一片弯月透镜L1，所述的第二透镜为由负透镜L2与正透镜L3构成的胶合透镜，所述的第...

【专利技术属性】
技术研发人员：赵宇，崔志英，毛昊阳，王红飞，张丽，龚谱银，
申请(专利权)人：宁波永新光学股份有限公司，
类型：发明
国别省市：