显示面板的制备方法和显示面板技术

本发明专利技术公开了一种显示面板的制备方法和显示面板，显示面板的制备方法包括在透光基板上制备像素限定层，像素限定层包括像素限定结构和像素限定结构所限定出的多个开口，从像素限定层远离透光基板的表面至像素限定层靠近透光基板的表面，在沿平行于透光基板的方向上，开口的尺寸减小，将发光器件转移至像素限定层的开口内，在发光器件远离透光基板的一侧设置像素电路层。由于像素限定层远离透光基板的一侧的开口的尺寸较大、像素限定层靠近透光基板的一侧的开口的尺寸较小以及像素限定结构的嵌位作用，发光器件在转移时出现偏差但依然能最终准确落入对位的位置，提高发光器件的转移精度、降低对发光器件的转移要求。降低对发光器件的转移要求。降低对发光器件的转移要求。

【技术实现步骤摘要】
显示面板的制备方法和显示面板


[0001]本专利技术实施例涉及显示
，尤其涉及一种显示面板的制备方法和显示面板。

技术介绍

[0002]随着电子设备的快速发展，尤其是微型发光二极管(Micro
‑
LED)显示面板因其对比度高、生命周期长等原因快速兴起。
[0003]现有显示面板的制备过程中，通常是在包括像素电路的驱动背板制备完成后，使用巨量转移技术将LED芯片转移至包括像素电路的驱动背板上，通过LED芯片的电极与背板的电极相互压合完成连接。
[0004]但是现有显示面板的制备过程容易导致LED芯片对位不准确，影响显示面板的显示效果。

技术实现思路

[0005]本专利技术提供一种显示面板的制备方法和显示面板，以实现提高LED芯片转移的精度，保证显示面板的显示效果。
[0006]第一方面，本专利技术实施例提供了一种显示面板的制备方法，包括：
[0007]在透光基板上制备像素限定层，其中像素限定层包括像素限定结构和像素限定结构所限定出的多个开口，从像素限定层远离透光基板的表面至像本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种显示面板的制备方法，其特征在于，包括：在透光基板上制备像素限定层，其中所述像素限定层包括像素限定结构和所述像素限定结构所限定出的多个开口，从所述像素限定层远离所述透光基板的表面至所述像素限定层靠近所述透光基板的表面，在沿平行于所述透光基板的方向上，所述开口的尺寸减小；将发光器件转移至所述像素限定层的所述开口内；在所述发光器件远离所述透光基板的一侧设置像素电路层。2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于，在发光器件远离所述透光基板的一侧设置像素电路层之前，还包括：在所述发光器件和所述像素限定层远离所述透光基板的一侧制备绝缘层；优选的，所述在所述发光器件和所述像素限定层远离所述透光基板的一侧制备绝缘层，包括：在所述发光器件和所述像素限定层远离所述透光基板的一侧形成有机胶层；在所述有机胶层远离所述透光基板的一侧形成无机层。3.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述发光器件远离所述透光基板的一侧设置像素电路层，包括：在所述绝缘层远离所述透光基板的一侧制备所述像素电路层，并在所述像素电路层的制备过程中形成所述像素电路层中连接层至所述发光器件的过孔，以使所述像素电路层的像素电路与对应的发光器件通过所述过孔中的所述连接层的材料连接；优选的，在所述发光器件远离所述透光基板的一侧设置像素电路层之后，还包括：在所述像素电路层远离所述透光基板的一侧形成保护层。4.根据权利要求2所述的显示面板的制备方法，其特征在于，所述在所述发光器件远离所述透光基板的一侧设置像素电路层之前，还包括：在所述绝缘层对应于所述发光器件的位置形成过孔；在所述过孔中填充导电粒子；所述在所述发光器件远离所述透光基板的一侧设置像素电路层，包括：在衬底基板上制备所述像素电路层形成阵列基板；将所述阵列基板设置于所述绝缘层远离所述透光基板的一侧，使所述像素电路层所包括的像素电路与对应的发光...

【专利技术属性】
技术研发人员：李洋，钱先锐，李云泽，万宝红，
申请(专利权)人：成都辰显光电有限公司，
类型：发明
国别省市：