有机电致发光显示面板及电子设备制造技术

本公开实施例提供了一种有机电致发光显示面板及电子设备，有机电致发光显示面板包括：第一显示区、第二显示区、过渡显示区；第一显示区和第二显示区域中子像素的像素定义层均具有相同的第一开口面积；所述过渡显示区中子像素的像素定义层包括至少两个不同的开口面积，同一颜色子像素的像素定义层的开口面积不同。本公开实施例调整后的过渡显示区子像素开口面积与其它正常显示区的子像素开口面积相近，不会存在过渡显示区凸显亮线问题，提升了硅基OLED产品性能，用户体验较好。用户体验较好。用户体验较好。

【技术实现步骤摘要】
有机电致发光显示面板及电子设备


[0001]本公开涉及显示领域，特别涉及一种有机电致发光显示面板及电子设备。

技术介绍

[0002]Micro
‑
OLED(硅基OLED)因为具备超高分辨率(3000PPI(像素密度单位)
‑
6000PPI)和对比度为AR/VR首选显示部件。当前微型显示主流尺寸为0.3Inch(英寸)
‑
0.8Inch，微型显示领域中受限于精细曝光机有效曝光面积的大小，目前最大可曝光面积为1.3Inch，超过1.3Inch产品进行光刻工艺时，需通过拼接方式完成曝光。
[0003]拼接曝光工艺中，为确保无缝拼接，拼接区域10um
‑
15um区域需进行重复曝光，重复曝光区域PDL(像素限定层)开口(决定像素开口)较其他显示区域大，显示亮度较其他显示区域高，在部分精细显示产品上视效表现为亮线，降低了Micro
‑
OLED产品性能，用户体验较差。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本公开实施例提出了一种有机电致发光显示面板及电子设备，用以解决现有技术的如下问题：拼接硅基OLED重复曝光区域的显示亮度较其他显示区域高，在部分精细显示产品上视效表现为亮线，降低了产品性能，用户体验较差。
[0005]一方面，本公开实施例提出了一种有机电致发光显示面板，包括：第一显示区、第二显示区、过渡显示区；第一显示区和第二显示区域中子像素的像素定义层均具有相同的第一开口面积；所述过渡显示区中子像素的像素定义层包括至少两个不同的开口面积，同一颜色子像素的像素定义层的开口面积不同。
[0006]在一些实施例中，所述过渡显示区的全部像素行的开口面积之和与所述第一显示区中同样数量的像素行的全部第一开口面积之和的差值处于预定误差范围内，所述预定误差范围为小于两个所述第一开口面积之和。
[0007]在一些实施例中，所述过渡显示区中第N行第一子像素的像素定义层的开口面积相同，所述过渡显示区中第N+1行第一子像素的像素定义层的开口面积相同，所述第N+1行第一子像素的像素定义层的开口面积不同于所述第N行第一子像素的像素定义层的开口的面积，其中，N为大于0的整数。
[0008]在一些实施例中，所述过渡显示区包括第一类子像素和第二类子像素，所述第一类子像素的像素定义层具有第二开口面积，所述第二类子像素的像素定义层具有第三开口面积，所述第二开口面积大于所述第一开口面积，所述第三开口面积小于所述第一开口面积。
[0009]在一些实施例中，所述第一类子像素的数量与所述第二类子像素的数量相同。
[0010]在一些实施例中，所述第二类子像素的像素定义层的开口图案至少包括以下之一：长方形、正方形、圆形、六边形。
[0011]在一些实施例中，所述第一显示区子像素的像素定义层的开口图案与所述第一类
子像素的像素定义层的开口图案相同。
[0012]在一些实施例中，所述第一显示区子像素的像素定义层的开口图案与所述第一类子像素的像素定义层的开口图案均为六边形。
[0013]在一些实施例中，所述显示区包括：像素限定层、通过所述像素限定层分隔的阳极层；发光材料层，设置在所述像素界定层和所述阳极层之上；阴极层，设置在所述发光材料层之上；封装层，设置在所述阴极层之上；彩膜材料层，设置在所述封装层之上；透镜层，设置在所述彩膜材料层之上。
[0014]另一方面，本公开实施例提出了一种电子设备，包括：本公开任意实施例提供的有机电致发光显示面板。
[0015]本公开实施例调整后的过渡显示区子像素开口面积与其它正常显示区的子像素开口面积相近，不会存在过渡显示区凸显亮线问题，提升了硅基OLED产品性能，用户体验较好。
[0016]本公开实施例为了实现无缝拼接显示效果，通过调节过渡显示区(即重复曝光区域)的开口面积进而可靠有效的实现亮度(开口)补偿或亮度模糊化。本公开在重复曝光区域设计类似马赛克的开口设计，即与其他显示区域相同(或类似)的开口图形和与其他子像素开口设计构成马赛克重复曝光区，较单一的重复曝光区马赛克设计有模糊化区域亮度偏高的作用；进一步，本公开实施例可以调整马赛克中部分图形(即第二类子像素)的开口率(降低)，与过渡显示区内经过重复曝光后偏大的相同开口图形结合，可将偏大的亮度补偿回来，达到拼接区域与其他显示区域亮度一致的无缝拼接效果。
附图说明
[0017]为了更清楚地说明本公开实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本公开中记载的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0018]图1为相关技术提供的硅基OLED产品剖面微观结构示意图；
[0019]图2为相关技术提供的现有拼接工艺示意图；
[0020]图3为相关技术提供的拼接工艺亮线情况示意图；
[0021]图4为相关技术提供的重复曝光区域的开口面积结构示意图；
[0022]图5为本公开第一实施例提供的有机电致发光显示面板的结构示意图；
[0023]图6为本公开第二实施例提供的有机电致发光显示面板的结构示意图；
[0024]图7为本公开第三实施例提供的有机电致发光显示面板的结构示意图一；
[0025]图8为本公开第三实施例提供的有机电致发光显示面板的结构示意图二。
具体实施方式
[0026]为了使得本公开实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本公开实施例的附图，对本公开实施例的技术方案进行清楚、完整地描述。显然，所描述的实施例是本公开的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于所描述的本公开的实施例，本领域普通技术人员在无需创造性劳动的前提下所获得的所有其他实施例，都属于本公开保护的范
围。
[0027]除非另外定义，本公开使用的技术术语或者科学术语应当为本公开所属领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本公开中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。“包括”或者“包含”等类似的词语意指出现该词前面的元件或者物件涵盖出现在该词后面列举的元件或者物件及其等同，而不排除其他元件或者物件。“连接”或者“相连”等类似的词语并非限定于物理的或者机械的连接，而是可以包括电性的连接，不管是直接的还是间接的。“上”、“下”、“左”、“右”等仅用于表示相对位置关系，当被描述对象的绝对位置改变后，则该相对位置关系也可能相应地改变。
[0028]为了保持本公开实施例的以下说明清楚且简明，本公开省略了已知功能和已知部件的详细说明。
[0029]图1硅基OLED产品剖面微观结构示意图，从图中可以看出其包括沉底层(Wafer)、像素限定层(PDL)、阳极层、发光材料层(EL)、阴极层、封装层、彩膜材料层(CF)、透镜层(LENS)本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光显示面板，其特征在于，包括：第一显示区、第二显示区、过渡显示区；第一显示区和第二显示区域中子像素的像素定义层均具有相同的第一开口面积；所述过渡显示区中子像素的像素定义层包括至少两个不同的开口面积，同一颜色子像素的像素定义层的开口面积不同。2.如权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述过渡显示区的全部像素行的开口面积之和与所述第一显示区中同样数量的像素行的全部第一开口面积之和的差值处于预定误差范围内，所述预定误差范围为小于两个所述第一开口面积之和。3.如权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述过渡显示区中第N行第一子像素的像素定义层的开口面积相同，所述过渡显示区中第N+1行第一子像素的像素定义层的开口面积相同，所述第N+1行第一子像素的像素定义层的开口面积不同于所述第N行第一子像素的像素定义层的开口的面积，其中，N为大于0的整数。4.如权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述过渡显示区包括第一类子像素和第二类子像素，所述第一类子像素的像素定义层具有第二开口面积，所述第二类子像素的像素定义层具有第三开口面积，所述第二开口面积大于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宗顺，申晓斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：