有机电致发光显示面板及电子设备制造技术

本公开实施例提供了一种有机电致发光显示面板及电子设备，有机电致发光显示面板包括：第一显示区、第二显示区、过渡显示区；第一显示区和第二显示区域中子像素的像素定义层均具有相同的第一开口面积；所述过渡显示区中子像素的像素定义层包括至少两个不同的开口面积，同一颜色子像素的像素定义层的开口面积不同。本公开实施例调整后的过渡显示区子像素开口面积与其它正常显示区的子像素开口面积相近，不会存在过渡显示区凸显亮线问题，提升了硅基OLED产品性能，用户体验较好。用户体验较好。用户体验较好。

【技术实现步骤摘要】
有机电致发光显示面板及电子设备


[0001]本公开涉及显示领域，特别涉及一种有机电致发光显示面板及电子设备。

技术介绍

[0002]Micro
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OLED(硅基OLED)因为具备超高分辨率(3000PPI(像素密度单位)
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6000PPI)和对比度为AR/VR首选显示部件。当前微型显示主流尺寸为0.3Inch(英寸)
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0.8Inch，微型显示领域中受限于精细曝光机有效曝光面积的大小，目前最大可曝光面积为1.3Inch，超过1.3Inch产品进行光刻工艺时，需通过拼接方式完成曝光。
[0003]拼接曝光工艺中，为确保无缝拼接，拼接区域10um
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15um区域需进行重复曝光，重复曝光区域PDL(像素限定层)开口(决定像素开口)较其他显示区域大，显示亮度较其他显示区域高，在部分精细显示产品上视效表现为亮线，降低了Micro
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OLED产品性能，用户体验较差。

技术实现思路

[0004]有鉴于此，本公开实施例提出了一种有机电致发光显示面板本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种有机电致发光显示面板，其特征在于，包括：第一显示区、第二显示区、过渡显示区；第一显示区和第二显示区域中子像素的像素定义层均具有相同的第一开口面积；所述过渡显示区中子像素的像素定义层包括至少两个不同的开口面积，同一颜色子像素的像素定义层的开口面积不同。2.如权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述过渡显示区的全部像素行的开口面积之和与所述第一显示区中同样数量的像素行的全部第一开口面积之和的差值处于预定误差范围内，所述预定误差范围为小于两个所述第一开口面积之和。3.如权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述过渡显示区中第N行第一子像素的像素定义层的开口面积相同，所述过渡显示区中第N+1行第一子像素的像素定义层的开口面积相同，所述第N+1行第一子像素的像素定义层的开口面积不同于所述第N行第一子像素的像素定义层的开口的面积，其中，N为大于0的整数。4.如权利要求1所述的有机电致发光显示面板，其特征在于，所述过渡显示区包括第一类子像素和第二类子像素，所述第一类子像素的像素定义层具有第二开口面积，所述第二类子像素的像素定义层具有第三开口面积，所述第二开口面积大于所述第...

【专利技术属性】
技术研发人员：杨宗顺，申晓斌，
申请(专利权)人：京东方科技集团股份有限公司，
类型：发明
国别省市：