一种常压连续式滤材处理设备及其使用方法技术

本发明专利技术介绍了一种常压连续式滤材处理设备及其使用方法，其中，所述连续式滤材处理设备包括上电极、下电极、气压缸；上电极通过气压缸与下电极连接，下电极顶部的前后壁上设置有密封O形圈，下电极顶部的左右壁上嵌有聚四氟乙烯圆棒，上电极底部的左右壁上嵌有聚四氟乙烯圆棒；所述上电极包括正电极框架和正极电晕陶瓷管，正电极框架底部设置正电极凹槽，正极电晕陶瓷管固定放置在正电极凹槽中；所述下电极包括进气空腔、负电极框架和负极电极板，进气空腔与负极电极板连接，负电极框架顶部设置负电极凹槽，所述固定放置在负电极凹槽中。通过上述设计的常压连续式滤材处理设备，本申请能够实现在常压下对连续式滤材进行表面处理。能够实现在常压下对连续式滤材进行表面处理。能够实现在常压下对连续式滤材进行表面处理。

【技术实现步骤摘要】
一种常压连续式滤材处理设备及其使用方法


[0001]本专利技术属于等离子体处理领域，具体涉及一种常压连续式滤材处理设备及其使用方法。

技术介绍

[0002]材料表面处理一直是新材料开发的一个重要的方向，而使用等离子体进行材料表面处理因其节能环保的优点，得到了越来多的重视，如中国专利CN115364577A公开了一种抗菌型聚丙烯无纺布过滤材料的制备方法，包括以下的步骤：提供材料、制抗菌整理液、涂层整理、干燥交联反应等步骤，制得的抗菌型聚丙烯无纺布过滤材料；其通过采用了等离子体技术，使聚丙烯无纺布表面产生许多活性基团，且聚丙烯纤维表面会被刻蚀，增加了抗菌液和无纺布的结合力。
[0003]目前低温等离子体表面处理分为真空式和常压式两大类。真空式等离子体处理目前比较成熟，应用领域也很广泛，但存在设备成本高、处理效率低的缺点，在某些领域的应用受到了限制；而常压等离子体表面处理由于是在常压环境下工作，不需真空系统，有着明显的优点，但目前均为开放结构，产品目前仅有喷射式和电晕式两大类别，而工作气体的单一又限制了常压等离子体表面处理的功能和效率。若是使用真空式等离子体对连续的滤材进行表面处理显然会造成严重大量的工作气体流失以及能耗的损失，而使用常压式对其处理，工作介质又只能用空气。
[0004]中国专利CN101972568B公开了一种医用高效细菌阻隔滤材及其制备方法，其中，滤材由集聚纤维编织而成；其设计的制备方法将高熔融指数大于800小于1500的聚烯类高分子颗粒熔化后的熔体经计量泵在持续的直流高压电场作用下连续输送至一线性排列多孔的喷丝模口，喷出的纤维在离开模口后在熔融状态下经过等离子发射装置被等离子作用后到达接收装置，上述数根纤维被一负压成型装置收集粘结集聚的纤维即可得到所述医用高效细菌阻隔滤材。其虽然使用的是常压等离子体处理设备，但是其并没有考虑到使用不同的等离子体设备的种类，会带来不同的效果，而且其设计的滤材处理方法是通过对集聚纤维进行处理，而不是对连续的滤材进行处理。
[0005]针对常压等离子体处理方法只能使用空气作为工作气体，进而导致等离子体设备的处理功能单一的问题，以及现有等离子体处理设备无法对连续式的滤材进行表面处理的问题，急需设计一种能够在常压状态下对连续性滤材进行处理的等离子体处理设备及其使用方法。

技术实现思路

[0006]针对现有常压等离子体处理方法只能使用空气作为工作气体，进而导致的等离子体设备的处理功能单一、效率低下的问题，以及现有等离子体处理设备无法对连续式的滤材进行表面处理的问题，本申请设计了一种常压连续式滤材处理设备，以求实现在常压下对连续式滤材进行表面处理。
[0007]一种常压连续式滤材处理设备，其包括上电极、下电极、气压缸；
[0008]所述上电极通过气压缸与下电极连接；
[0009]所述下电极顶部的前后壁上设置有密封O形圈；
[0010]所述下电极顶部的左右壁上设置有凹槽，凹槽内嵌有聚四氟乙烯圆棒；
[0011]所述上电极底部的左右壁上设置有凹槽，凹槽内嵌有聚四氟乙烯圆棒。
[0012]优选地，所述上电极包括正电极框架和正极电晕陶瓷管；
[0013]所述正电极框架底部设置正电极凹槽，所述正极电晕陶瓷管固定放置在正电极凹槽中。
[0014]优选地，所述下电极包括进气空腔、负电极框架和负极电极板；
[0015]所述进气空腔与负极电极板连接；
[0016]所述负电极框架顶部设置负电极凹槽，所述固定放置在负电极凹槽中。
[0017]优选地，所述正电极框架与负电极框架的外壁上还连接设置有直线导轨滑块模组。
[0018]优选地，所述正极电晕陶瓷管与负极电极板竖直位置对应。
[0019]优选地，所述正极电晕陶瓷管的底部与正电极框架底部保持水平；
[0020]所述负极电极板的顶部与负电极框架顶部保持水平。
[0021]优选地，负电极框架顶部上还设置有滤材支撑圆帽。
[0022]优选地，正电极框架和负电极框架之间还设置有定位销。
[0023]优选地，所述负电极框架底部设置有进气空腔，所述进气空腔与负极电极板相连。
[0024]一种常压连续式滤材处理设备的使用方法，包括以下步骤：
[0025]步骤S1、控制气压缸带动上电极、下电极分开；
[0026]步骤S2、将放料辊上的滤材穿入上电极和下电极之间的间隙，并缠绕到收料辊上；
[0027]步骤S3、控制气压缸使上电极、下电极压合；
[0028]步骤S4、通过进气空腔向负极电极板通入工作气体；
[0029]步骤S5、通气一段时间后，并对正极电晕陶瓷管、负极电极板进行通电；
[0030]步骤S6、收料辊收料，使滤材以恒定的速度连续通过上电极与下电极之间形成的工作区；
[0031]步骤S7、待滤材等离子体处理完成后，关闭放电电源，关闭进气，停止收料，从收料辊上取下处理完的滤布；
[0032]步骤S8、新的滤材处理只需要重复步骤S1～S7即可完成处理。
[0033]本申请的优点和效果如下：
[0034]1、本申请将上电极通过气压缸与下电极连接，下电极顶部的前后壁上设置有密封O形圈，下电极顶部和上电极底部的左右壁上均嵌入设置有聚四氟乙烯圆棒；并将密封O形圈的厚度设置为大于聚四氟乙烯圆棒，形成了上电极与下电极下压合拢后，中间段密封、两侧留有窄缝的技术方案，进而实现了窄缝用于连续式滤材通过，中间段用于等离子体处理滤材的技术效果。
[0035]2、本申请将正极电晕陶瓷管的底部与正电极框架底部保持水平，负极电极板的顶部与负电极框架顶部保持水平，并将正极电晕陶瓷管与负极电极板竖直位置保持对应；通过上述设计，本申请避免了正负极板影响滤材处理设备的密封性问题，确保电极正常对应
放电的同时，工作气体只能够从上下电极之间的左右侧流出。
[0036]3、本申请通过在正电极框架与负电极框架的外壁上连接设置有直线导轨滑块模组，以及在正电极框架和负电极框架之间设置有定位销，进而解决了上下电极的相对滑动问题。
[0037]4、本申请通过在负电极框架顶部上设置有滤材支撑圆帽，所述滤材支撑圆帽用于支撑滤材，进而避免了滤材直接贴合在下电极上。
[0038]5、本申请设计的一种常压连续式滤材处理设备的使用方法，通过控制气压缸带动上电极、下电极合并，进而实现上电极、下电极之间的压合与滤材等离子处理，待滤材等离子体处理完成后，关闭放电电源，关闭进气，停止收料，从收料辊上取下处理完的滤布；即可实现连续性滤材的表面处理。
[0039]上述说明仅是本申请技术方案的概述，为了能够更清楚了解本申请的技术手段，从而可依照说明书的内容予以实施，并且为了让本申请的上述和其他目的、特征和优点能够更明显易懂，以下以本申请的较佳实施例并配合附图详细说明如后。
[0040]根据下文结合附图对本申请具体实施例的详细描述，本领域技术人员将会更加明了本申请的上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种常压连续式滤材处理设备，其特征在于，其包括上电极(1)、下电极(2)、气压缸(3)；所述上电极(1)通过气压缸(3)与下电极(2)连接；所述下电极(2)顶部的前后壁上设置有密封O形圈(4)；所述下电极(2)顶部的左右壁上设置有凹槽，凹槽内嵌有聚四氟乙烯圆棒(5)；所述上电极(1)底部的左右壁上设置有凹槽，凹槽内嵌有聚四氟乙烯圆棒(5)。2.根据权利要求1所述的一种常压连续式滤材处理设备，其特征在于，所述上电极(1)包括正电极框架(6)和正极电晕陶瓷管(7)；所述正电极框架(6)底部设置正电极凹槽，所述正极电晕陶瓷管(7)固定放置在正电极凹槽中。3.根据权利要求2所述的一种常压连续式滤材处理设备，其特征在于，所述下电极(2)包括进气空腔(13)、负电极框架(8)和负极电极板(9)；所述进气空腔(13)与负极电极板(9)连接；所述负电极框架(8)顶部设置负电极凹槽，所述固定放置在负电极凹槽中。4.根据权利要求3所述的一种常压连续式滤材处理设备，其特征在于，所述正电极框架(6)与负电极框架(8)的外壁上还连接设置有直线导轨滑块模组(10)。5.根据权利要求3所述的一种常压连续式滤材处理设备，其特征在于，所述正极电晕陶瓷管(7)与负极电极板(9)竖直位置对应。6.根据权利要求4或5任一项所述的一种常压连续式滤材处理设备，其特征在于，所述正极电晕陶瓷管(7)的底部与正电极框架(6)底部...

【专利技术属性】
技术研发人员：王红卫，姚晰，梁兆学，
申请(专利权)人：苏州杰世科新材料技术有限公司，
类型：发明
国别省市：