光学膜层叠体的制造方法技术

本发明专利技术提供一种光学膜层叠体的制造方法，在该制造方法中，制备包含偏振器和相位差层的预备光学膜层叠体。使用可旋转的切割工具对预备光学膜层叠体进行侧面研削工序。在侧面研削工序中，切割工具的移动方向与偏振器的吸收轴之间的角度在0

【技术实现步骤摘要】
光学膜层叠体的制造方法


[0001]本专利技术涉及一种光学膜层叠体的制造方法。更具体地，本专利技术涉及一种包含偏振器的光学膜层叠体的制造方法。

技术介绍

[0002]例如，光学膜如相位差膜、偏光膜或亮度增强膜，可以被插入到图像显示设备，如液晶显示器(LCD)或有机发光二极管(OLED)显示设备中。例如，光学膜可以包含染色和拉伸的聚乙烯醇(PVA)系偏振器或涂层型偏振器。
[0003]光学膜可以根据图像显示设备正面的尺寸进行切割。该尺寸可以通过切割后的侧面研削进行精细调整。
[0004]然而，由于侧面研削，光学膜的侧面可能会发生损伤，且可能引发裂纹并延伸到光学膜中。侧面损伤可以沿着包含在光学膜中的偏振器的吸收轴增加。
[0005]例如，韩国公开专利申请第10
‑
2014
‑
0135739号公开了一种包含偏振器和相位差片的光学膜，但没有考虑到上述研削工序对偏振器的损伤。

技术实现思路

[0006]根据本专利技术的一个方面，提供一种具有改善的机械可靠性和稳定性的光学膜层叠体的制造方法。
[0007](1)一种光学膜层叠体的制造方法，包括：制备包含偏振器和相位差层的预备光学膜层叠体；以及使用可旋转的切割工具对预备光学膜层叠体进行侧面研削工序，其中，在侧面研削工序中，切割工具的移动方向与偏振器的吸收轴之间的角度保持在0
°
和90
°
的范围。
[0008](2)根据上述(1)的方法，其中，切割工具的移动方向与预备光学膜层叠体的侧面表面平行。
[0009](3)根据上述(1)的方法，其中，光学膜层叠体具有圆形区域。
[0010](4)根据上述(3)的方法，其中，切割工具在圆形区域内的移动方向是圆形区域的侧面表面与切割工具之间接触部分的切线方向。
[0011](5)根据上述(1)的方法，其中，在侧面研削工序中，切割工具的移动方向与偏振器的吸收轴之间的角度为0
°
以上且小于90
°
。
[0012](6)根据上述(1)的方法，其中，预备光学膜层叠体进一步包含形成在偏振器和相位差层之间的第一粘接剂层。
[0013](7)根据上述(6)的方法，其中，相位差层包含半波长(λ/2)相位差层和四分之一波长(λ/4)相位差层，且半波长相位差层附着于所述第一粘接剂层。
[0014](8)根据上述(7)的方法，进一步包含在半波长(λ/2)相位差层和四分之一波长(λ/4)相位差层之间形成的第二粘接剂层。
[0015](9)根据上述(8)的方法，进一步包含在四分之一波长(λ/4)相位差层底面上形成的第三粘接剂层。
[0016](10)根据上述(9)的方法，其中，第三粘接剂层、四分之一波长(λ/4)相位差层、第二粘接剂层、半波长(λ/2)相位差层、第一粘接剂层和偏振器依次堆叠的总厚度为50μm以下。
[0017](11)根据上述(1)的方法，其中，侧面研削工序包括第一侧面研削工序，以及在第一侧面研削工序之后进行的第二侧面研削工序，并且第二侧面研削工序中的切割量小于第一侧面研削工序中的切割量。
[0018](12)根据上述(11)的方法，其中，在第一侧面研削工序中切割工具的线速度等于或大于在第二侧面研削工序中切割工具的线速度。
[0019]在根据本专利技术实施方式的光学层叠体的制造方法中，形成预备光学膜层叠体并进行预备切割。此后，使用立铣刀(end mill)之类的切割工具可以进行侧面研削工序。因此，通过利用立铣刀的旋转，可以光滑地形成光学膜层叠体的切割面，并且可以精细调整偏振片的尺寸。
[0020]根据示例性的实施方式，可以以使偏振器的吸收轴与立铣刀移动方向上的切割表面之间的角度保持在0
°
至90
°
内的方式进行侧面研削工序。在该角度范围内，可以抑制或减少切割表面上的裂纹，并可以防止裂纹延伸到偏振器中。
[0021]在一些实施方式中，侧面研削工序可以包括第一研削工序和第二研削工序。在第二研削工序中，切割工具的线速度可以比第一研削工序中的线速度小。第二道研削工序可以提供精细的研削处理，并可制造出具有实质无缝侧表面的偏振片。
附图说明
[0022]图1是描述根据示例性实施方式的光学膜层叠体的制造方法的工序流程示意图。
[0023]图2是说明根据示例性实施方式的预备光学膜层叠体的截面示意图。
[0024]图3是描述根据示例性实施方式的侧面研削工序的俯视示意图。
[0025]图4和图5是描述根据示例性实施方式的侧面研削工序的局部放大俯视示意图。
[0026]图6是描述根据一些示例性实施方式的侧面研削工序的局部放大俯视示意图。
具体实施方式
[0027]根据本专利技术的示例性实施方式，提供一种包括侧面研削工序的光学膜层叠体的制造方法。
[0028]下面，将参照附图对本专利技术进行详细描述。然而，本领域技术人员将理解，提供这种参照附图描述的实施方式是为了进一步理解本专利技术的精神，并不限制在说明书和所附权利要求书中公开的保护主题。
[0029]本申请中使用的术语“上”、“下”、“顶”、“底”等是根据附图指定/引用的，并不是为了限制绝对位置。例如，“上”或“顶”可以指图像显示设备的用户观看侧，而“下”或“底”可以指图像显示设备的面板侧。
[0030]图1是描述根据示例性实施方式的光学膜层叠体的制造方法的工序流程示意图。图2是说明根据示例性实施方式的预备光学膜层叠体的截面示意图。
[0031]参照图1和图2，可以形成预备光学膜层叠体100(例如，在步骤S10中)。如图2所示，预备光学膜层叠体100可以包含偏振器110和相位差层140。
[0032]偏振器110可以包含可拉伸的偏振器，其中二向色性染料在可拉伸的薄膜上吸附并取向。
[0033]偏振器110可以包含可被二向色性染料染色的树脂，例如，聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、乙烯
‑
乙酸乙烯酯共聚物、乙烯
‑
乙烯醇共聚物、纤维素树脂、聚乙烯醇系树脂等。
[0034]优选地，考虑到面内偏光度的均匀性和对二向色性材料的亲和性，可以使用聚乙烯醇系树脂。
[0035]例如，偏振器110可以包含通过皂化聚乙酸乙烯酯系树脂而获得聚乙烯醇系树脂。聚乙烯醇系树脂可以包含乙酸乙烯酯的均聚物或乙酸乙烯酯与可与乙酸乙烯酯共聚的单体的共聚物。可与乙酸乙烯酯共聚的单体的例子可以包含不饱和羧酸系单体、不饱和磺酸系单体、烯烃系单体、乙烯醚系单体、具有铵基的丙烯酰胺系单体等。
[0036]偏振器110还可以包含改性的聚乙烯醇系树脂，例如，通过添加醛系化合物改性而成的聚乙烯醇缩甲醛或聚乙烯醇缩乙醛。
[0037]在一实施方式中，可以通过在聚乙烯醇系树脂膜上进行如溶胀、染色、交联、拉伸、水洗、干燥等工序来获得偏振器。
[0038]溶胀、染色、本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种光学膜层叠体的制造方法，包括：制备包含偏振器和相位差层的预备光学膜层叠体；以及使用可旋转的切割工具对所述预备光学膜层叠体进行侧面研削工序，其中，在所述侧面研削工序中，所述切割工具的移动方向与所述偏振器的吸收轴之间的角度保持在0
°
和90
°
的范围。2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述切割工具的所述移动方向与所述预备光学膜层叠体的侧面表面平行。3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述光学膜层叠体具有圆形区域。4.根据权利要求3所述的方法，其中，所述切割工具在所述圆形区域内的移动方向是所述圆形区域的侧面表面与所述切割工具之间接触部分的切线方向。5.根据权利要求1所述的方法，其中，在所述侧面研削工序中，所述切割工具的移动方向与所述偏振器的吸收轴之间的角度为0
°
以上且小于90
°
。6.根据权利要求1所述的方法，其中，所述预备光学膜层叠体进一步包含形成在所述偏振器和所述相位差层之间的第一粘接剂...

【专利技术属性】
技术研发人员：黄寅燮，孔志熏，崔动德，金基昌，
申请(专利权)人：东友精细化工有限公司，
类型：发明
国别省市：