可逆光/磁/压力响应的环状三聚体动态有机框架材料及其制备和应用制造技术

技术编号:37621816 阅读:26 留言:0更新日期:2023-05-18 12:13
本发明专利技术属于光电材料领域,具体公开了可逆光/磁/压力响应的环状三聚体动态有机框架材料及其制备和应用。本发明专利技术还公开了可逆光/磁/压力响应的环状三聚体动态有机框架材料的制备方法和应用方法。本发明专利技术所述全新结构的化合物具有优异的性质,在刺激下具有高灵敏、高响应的光学、磁学、荧光响应效果。荧光响应效果。荧光响应效果。

【技术实现步骤摘要】
可逆光/磁/压力响应的环状三聚体动态有机框架材料及其制备和应用


[0001]本专利技术涉及功能分子领域,具体涉及一类可逆光/磁/压力响应的动态有机框架材料。

技术介绍

[0002]可逆转变的固态分子框架材料在外界刺激下,分子材料的光、电、磁学性质或分子和框架结构可以发生明显改变,在智能传感、可控显示、软机械、信息存储等方面的潜在用途而受到重点关注和研究。通常来说,分子材料的可逆响应策略依赖于外界刺激下化合物基元的化学转变或分子聚集模式的物理相变。但是,当涉及到具体场景,尤其是固态化合物时,由于化合物基元的化学转变的灵敏度不高,响应速度慢或者分子聚集态抑制了化合物的相变过程,导致固态分子材料的可逆转换效率和可逆性有待提高。克服这一障碍的有效方法是在分子材料中引入空间间隙,以确保活跃的固态分子运动或化学

物理转化在足够的空间中快速进行。由此获得的固态分子材料可以在晶体固体状态下显示出智能调制材料功能的高度可逆性、灵敏性和快速响应性。然而,目前报道的此类体系高度局限于晶体刚性分子框架,刚性分子框架限制了刺激响应固态分子的具体应用场本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.三聚体动态有机框架材料,其特征在于,具有式1结构式:式1中,所述的R1、R2独自为H、

Cl、

Br、

I、

CN、C1

C24烷基、C3

C24环烷基、C1

C24烷氧基、卤代C1

C24烷基、卤代C3

C24环烷基或卤代C1

C24烷氧基或芳基;Ar为五元杂环芳基、苯基、取代苯基、六元杂环芳基或稠环芳基。2.如权利要求1所述的环状三聚体动态有机框架材料,其特征在于,Ar为苯基、取代苯基或者五元杂环芳基。3.如权利要求1所述的环状三聚体动态有机框架材料,其特征在于,可逆光/磁/压力响应的环状三聚体动态有机框架材料及其制备和应用具有式1

A结构式:其中,R1、R2独自为H、C1

C24烷基、C1

C24烷氧基或芳基;优选地,R1、R2为相同基团;进一步优选为C1~C4的烷基。
4.一种权利要求1~3任一项所述的环状三聚体动态有机框架材料的制备方法,其特征在于,通过式2所述的化合物和氧化剂进行氧化环化反应得到:式2中,所述的R1、R2、Ar的选取范围同式1。5.如权利要求4所述的制备方法,其特征在于,所述的氧化环化反应的溶剂为疏水有机溶剂,优选为二氯甲烷;优选地,所述的氧化剂为PbO2、DDQ或四氯苯醌中的至少一种;优选地,式2与氧化剂的摩尔比为1:100~250;优选地,氧化环化反应的温度范围为15~45℃;优选为25~35℃。6.如权利要求4或...

【专利技术属性】
技术研发人员:曾泽兵王欣浩谢胜杨坤姚奕帆王燕培
申请(专利权)人:湖南大学深圳研究院
类型:发明
国别省市:

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