一种冲洗组合物及其光刻胶图案形成方法技术

本发明专利技术涉及一种冲洗组合物及其光刻胶图案形成方法。冲洗组合物包含含氟表面活性剂、含有羟基的水溶性物质和水。所述组合物适用于光刻显影后对光刻胶图案的冲洗过程，防止光刻胶图案的倒塌和缺陷产生，用于进一步提高图案分辨率。分辨率。

【技术实现步骤摘要】
一种冲洗组合物及其光刻胶图案形成方法


[0001]本专利技术涉及光刻胶
，尤其涉及半导体器件制造中的光刻工艺。

技术介绍

[0002]光刻工艺在半导体芯片制造中起着至关重要的作用，主要包括光刻胶旋涂，曝光，显影和清洗等步骤。28nm之前的光刻工艺，显影后直接用超纯水做旋干处理后即可进入下道工序。但随着技术节点和集成度的快速提高，图案的极限细微化不仅对光刻胶的性能提出更高的要求，同时对显影后光刻胶图案的要求也变得更为苛刻。尤其是28nm及以下工艺节点，随着线宽的极度缩小和深宽比的增大，很容易因光刻胶图案的倒塌而造成缺陷，此外，曝光后的线边缘粗糙度LER(line edge roughness)和线宽粗糙度LWR（line width roughness）也需要更为精准的控制，以避免良品率恶化。

技术实现思路

[0003]为了进一步降低光刻胶图案倒塌率和改善图案粗糙度，以形成更为精细和完整的光刻胶图案，达到工艺要求的技术指标，提升良品率和可靠性，本专利技术提供一种冲洗组合物，包括含氟表面活性剂、含有羟基的水溶性物质和水。...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种冲洗组合物，其特征在于，包括含氟表面活性剂、含有羟基的水溶性物质和水。2.根据权利要求1所述的冲洗组合物，其特征在于，所述含氟表面活性剂为全氟聚醚基非离子表面活性剂，化学结构如下所示：，其中n为0或1，m为22
‑
90的整数。3.根据权利要求1所述的冲洗组合物，其特征在于，所述含有羟基的水溶性物质为EO/PO嵌段聚醚，聚乙二醇，C5~C10直链或带有支链的醇类中的一种。4.根据权利要求3所述的冲洗组合物，其特征在于，所述聚乙二醇分子量为200
‑
600；C5~C10直链或带有支链的醇类为2
‑
乙基己醇、庚醇、辛醇、壬醇中的一种或多种。5.根据权利要求1
‑
4任一项所述的冲洗组合物，其特征在于，所述含氟表面活性剂在冲洗组合物中的含量为0.02
‑
0.1wt%。6.根据权利要求1
‑
...

【专利技术属性】
技术研发人员：李永斌，陈志鹏，黄玉伟，魏玉凤，
申请(专利权)人：甘肃华隆芯材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：