一种反应设备的气体分布器制造技术

技术编号:37611767 阅读:12 留言:0更新日期:2023-05-18 12:03
本实用新型专利技术公开了一种反应设备的气体分布器,包括反应设备外分布管,所述反应设备外分布管的内侧均匀安装有第一连接管,且第一连接管的内侧均安装有密封套主体。本实用新型专利技术通过设置有反应设备外分布管和反应设备内分布管,在使用过程中通过定位块和定位槽的作用使反应设备外分布管和反应设备内分布管分别卡合在密封套主体的两端,通过螺孔和螺栓将上密封套与下密封套相连接,以起到对反应设备外分布管和反应设备内分布管连接处的连接和密封作用,从而能够根据不同反应设备的反应需求选择是否对反应设备内分布管进行安装,即安装后能够扩大气体的分布范围,提高反应速率和效果。果。果。

【技术实现步骤摘要】
一种反应设备的气体分布器


[0001]本技术涉及气体分布器
,特别涉及一种反应设备的气体分布器。

技术介绍

[0002]在工业化气体反应中,通常采用插底管分布的结构,即通过把通气管从反应器外侧底部伸至内部,达到气体与催化剂、物料接触的目的;
[0003]中国专利授权公告号CN209287259U公开了一种气体分布器,包括进气管,进气管为半圆弧形,进气管上设置有出气孔,出气孔为若干个;其中一出气孔连接有进气管,另外的出气孔均连通有分布构件;分布构件上设置有分布孔,分布孔位若干个,若干个分布孔在分布构件上均匀分布;出气孔的直径大于分布孔的直径,分布孔的直径等于出气孔的直径的十分之一;该气体分布器用于三单体生产过程中的反应釜内,气体分布器的分布孔不易堵塞,气体分布均匀,提高了生产效率,上述的现有技术方案存在以下不足之处:现有技术在使用过程中由于分布器通常处于反应釜底部,且气体分布器呈环状设置,使得出气的气体容易存在内外分布不均匀的现象,从而延长了反应时间,降低了反应速率,具有一定优化空间。

技术实现思路

[0004]本技术的目的在于提供一种反应设备的气体分布器,以解决上述
技术介绍
中提出的反应面积具有一定局限性的问题。
[0005]为实现上述目的,本技术提供如下技术方案:一种反应设备的气体分布器,包括反应设备外分布管,所述反应设备外分布管的内侧均匀安装有第一连接管,且第一连接管的内侧均安装有密封套主体,所述密封套主体的内侧均安装有第二连接管,且第二连接管的内侧安装有反应设备内分布管,所述反应设备外分布管和反应设备内分布管的底端皆均匀安装有分布头,且分布头的内部皆均匀设置有分布口,所述密封套主体由下密封套和上密封套组成,所述下密封套顶部的两端均匀安装有安装块,所述上密封套底部的两端均匀设置有安装槽,且安装槽均与安装块相连接,所述安装块的外侧均设置有螺孔,且螺孔的内部均安装有螺栓,所述第一连接管的外侧均安装有安装环,且安装环的内侧均安装有插环,所述安装环的外侧均安装有密封盖,且密封盖的内侧均设置有插槽,且插槽均与插环相连接。
[0006]使用本技术方案的一种反应设备的气体分布器时,通过设置有可拆装的反应设备内分布管,能够根据使用需求选择是否安装,安装后能够扩大分布面积和范围,提高反应速率。
[0007]优选的,所述上密封套的底端和下密封套的顶端均匀安装有定位块,所述第一连接管和第二连接管的两端均匀设置有定位槽,且定位槽均与定位块相连接。
[0008]优选的,所述定位块外侧的下密封套和上密封套的内部均安装有密封垫。
[0009]优选的,所述插环的内部均安装有第二磁铁,所述插槽外侧的密封盖的内部均安
装有第一磁铁。
[0010]优选的,所述密封盖的外侧均匀安装有防滑圈,且防滑圈的剖面均设置呈矩形。
[0011]优选的,所述密封盖的内侧均安装有密封塞,且密封塞均与第一连接管相连接。
[0012]与现有技术相比,本技术的有益效果是:该反应设备的气体分布器实现了可满足不同使用需求的功能,通过设置有反应设备外分布管和反应设备内分布管,在使用过程中通过定位块和定位槽的作用使反应设备外分布管和反应设备内分布管分别卡合在密封套主体的两端,通过螺孔和螺栓将上密封套与下密封套相连接,以起到对反应设备外分布管和反应设备内分布管连接处的连接和密封作用,从而能够根据不同反应设备的反应需求选择是否对反应设备内分布管进行安装,即安装后能够扩大气体的分布范围,提高反应速率和效果,不安装时通过插环和插槽的连接以使密封盖与反应设备外分布管相连接,即实现对反应设备外分布管管口的密封性,以提高其实用性和灵活性,从而可满足不同的使用需求。
附图说明
[0013]为了更清楚地说明本技术实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图是本技术的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
[0014]图1为本技术的仰视结构示意图;
[0015]图2为本技术的正视剖面结构示意图;
[0016]图3为本技术的图2中A处结构示意图;
[0017]图4为本技术的密封套主体侧视剖面结构示意图;
[0018]图5为本技术的密封盖正视剖面结构示意图;
[0019]图6为本技术的密封盖正视结构示意图。
[0020]图中的附图标记说明:1、反应设备外分布管;2、分布头;3、分布口;4、第一连接管;5、密封套主体;6、第二连接管;7、反应设备内分布管;8、安装环;9、定位块;10、定位槽;11、下密封套;12、上密封套;13、密封垫;14、安装槽;15、安装块;16、螺孔;17、螺栓;18、插环;19、插槽;20、密封盖;21、第一磁铁;22、第二磁铁;23、密封塞;24、防滑圈。
具体实施方式
[0021]为使本技术实施例的目的、技术方案和优点更加清楚,下面将结合本技术实施例中的附图,对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例是本技术一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例,本领域普通技术人员在没有作创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本技术保护的范围。
[0022]请参阅图1

6,本技术提供的一种实施例:一种反应设备的气体分布器,包括反应设备外分布管1,反应设备外分布管1的内侧均匀安装有第一连接管4,且第一连接管4的内侧均安装有密封套主体5,密封套主体5的内侧均安装有第二连接管6,且第二连接管6的内侧安装有反应设备内分布管7,反应设备外分布管1和反应设备内分布管7的底端皆均
匀安装有分布头2,且分布头2的内部皆均匀设置有分布口3,密封套主体5由下密封套11和上密封套12组成;
[0023]上密封套12的底端和下密封套11的顶端均匀安装有定位块9,第一连接管4和第二连接管6的两端均匀设置有定位槽10,且定位槽10均与定位块9相连接,定位块9外侧的下密封套11和上密封套12的内部均安装有密封垫13;
[0024]具体的,如图3所示,使用时,通过定位块9和定位槽10的作用便于起到对第一连接管4和第二连接管6安装时的定位功能;
[0025]下密封套11顶部的两端均匀安装有安装块15,上密封套12底部的两端均匀设置有安装槽14,且安装槽14均与安装块15相连接,安装块15的外侧均设置有螺孔16,且螺孔16的内部均安装有螺栓17,第一连接管4的外侧均安装有安装环8,且安装环8的内侧均安装有插环18;
[0026]插环18的内部均安装有第二磁铁22,插槽19外侧的密封盖20的内部均安装有第一磁铁21;
[0027]具体的,如图5所示,使用时,通过第一磁铁21和第二磁铁22的作用便于起到对密封盖20的加固功能;
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【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种反应设备的气体分布器,包括反应设备外分布管(1),其特征在于:所述反应设备外分布管(1)的内侧均匀安装有第一连接管(4),且第一连接管(4)的内侧均安装有密封套主体(5),所述密封套主体(5)的内侧均安装有第二连接管(6),且第二连接管(6)的内侧安装有反应设备内分布管(7),所述反应设备外分布管(1)和反应设备内分布管(7)的底端皆均匀安装有分布头(2),且分布头(2)的内部皆均匀设置有分布口(3),所述密封套主体(5)由下密封套(11)和上密封套(12)组成,所述下密封套(11)顶部的两端均匀安装有安装块(15),所述上密封套(12)底部的两端均匀设置有安装槽(14),且安装槽(14)均与安装块(15)相连接,所述安装块(15)的外侧均设置有螺孔(16),且螺孔(16)的内部均安装有螺栓(17),所述第一连接管(4)的外侧均安装有安装环(8),且安装环(8)的内侧均安装有插环(18),所述安装环(8)的外侧均安装有密封盖(20),且密封盖(20)的内侧均设置有插槽(19),且插槽(19)...

【专利技术属性】
技术研发人员:俞一奇
申请(专利权)人:杭州杰威密封件有限公司
类型:新型
国别省市:

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