【技术实现步骤摘要】
一种提升含碳气体吸气容量的吸气薄膜
[0001]本专利技术涉及电子元件材料
，更加具体来说，本专利技术涉及一种提升含碳气体吸气容量的吸气薄膜。
技术介绍
[0002]用于获得、维持真空以及纯化气体等，能有效的吸着某些(种)气体分子的制剂或装置通称为吸气剂。常见的吸气剂主要有：
⑴
蒸散型吸气剂：将钡、锶、钙等金属的铝合金与如铁粉、镍粉、钛粉的还原剂组成的混合物在真空中加热，使其中的钡、锶、钙等活性金属蒸发出来并在器件的内壁冷凝下来形成吸气薄膜，应用最广泛的是钡铝合金与镍粉的混合物。
⑵
非蒸散型吸气剂：将锆、钛、钇单质粉末或其与钒、铁、锰、钴、铝、钼、稀土组成的二元或多元合金的粉末烧结体在真空中加热，使其表面的氧化层向内部扩散，暴露出新鲜表面，应用最广泛的是锆铝合金、锆钒铁合金。
[0003]近年来随着传统电真空器件及各类传感器、MEMS器件向小型化、扁平化、集成化，其所需的吸气剂从蒸散型为主逐渐转变为以非蒸散型为主，其加工方式也从传统的烧结型圆柱、厚膜，发展成为PVD沉积的薄膜...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种提升含碳气体吸气容量的吸气薄膜，其特征在于，不锈钢、可伐、硅、锗、陶瓷的基底表面通过PVD方法沉积0.1
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15μm的吸气薄膜，吸气薄膜包括钛、锆中的一种或两种，同时含有重量百分比为吸气薄膜总重0.5
‑
20%的钨、钼或其任意比例的组合，以及可选的钒、锰、钴、钇、铝。2.根据权利要求1所述的提升含碳气体吸气容量的吸气薄膜，其由多层膜组成，除了吸气层外还含有阻挡层或保护层，吸气层中的一层或多层包括钛、锆中的一种或两种，同时含有重...
【专利技术属性】
技术研发人员：郭卫斌，薛函迎，柴云川，王浏杰，
申请(专利权)人：南京华东电子真空材料有限公司，
类型：发明
国别省市：
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