本实用新型专利技术公开了一种瓦楞辊用表面处理装置，包括张紧架、调节架、抛光架和横向支架，所述抛光架上部和下部分别设置有滚筒，张紧架上设置有张紧辊，滚筒与张紧辊之间设置有抛光砂带，所述张紧架与抛光架之间设置有弹簧，调节架上设置有限位滑槽Ⅰ，抛光架通过限位滑槽Ⅰ与调节架滑动连接，调节架上设置有电动伸缩杆Ⅱ，电动伸缩杆Ⅱ的伸缩端贯穿调节架与抛光架固定连接，所述抛光架与横向支架滑动连接，所述抛光架上部的滚筒为主动滚，抛光架上部的侧面设置有电机，电机的输出轴穿至抛光架的内侧与主动滚连接；本实用新型专利技术结构设计新颖，操作方便，能够进行抛光位置的调节，受力均匀，提高抛光质量和抛光效率，保证产品质量的一致性。保证产品质量的一致性。保证产品质量的一致性。
【技术实现步骤摘要】
一种瓦楞辊用表面处理装置
[0001]本技术涉及瓦楞辊抛光处理
，具体为一种瓦楞辊用表面处理装置。
技术介绍
[0002]钢锭经加热和锻压变成圆柱体的钢坯，瓦楞辊是采用圆柱体的钢坯制造而成，瓦楞辊是单面机的重要关键零件，所以瓦楞辊表面的纹理结构精度要求高，瓦楞辊在加工工程中，需要对其表面进行抛光处理，抛光质量的好坏直接影响瓦楞辊的质量，现有的抛光方式采用砂纸对其表面进行刨光，甚至有些企业还采用人工操作，由于受力的不均，影响抛光质量，而且还存在一定的风险，还有采用砂轮抛光机进行抛光，砂轮与瓦楞辊表面硬性接触，抛光质量差，不方便调节，使用起来不方便，无法满足实际使用中的需求，所以市面上迫切需要能改进的技术，以解决上述问题。
技术实现思路
[0003]本技术要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种瓦楞辊用表面处理装置，结构设计新颖，操作方便，能够进行抛光位置的调节，受力均匀，提高抛光质量和抛光效率，保证产品质量的一致性，可以有效解决
技术介绍
中的问题。
[0004]为实现上述目的，本技术提供如下技术方案：一种瓦楞辊用表面处理装置，包括张紧架、调节架、抛光架和横向支架，所述抛光架上部和下部分别设置有滚筒，张紧架上设置有张紧辊，滚筒与张紧辊之间设置有抛光砂带，所述张紧架与抛光架之间设置有弹簧，调节架上设置有限位滑槽Ⅰ，抛光架通过限位滑槽Ⅰ与调节架滑动连接，调节架上设置有电动伸缩杆Ⅱ，电动伸缩杆Ⅱ的伸缩端贯穿调节架与抛光架固定连接，所述抛光架与横向支架滑动连接。
[0005]进一步的，所述抛光架上部的滚筒为主动滚，抛光架上部的侧面设置有电机，电机的输出轴穿至抛光架的内侧与主动滚连接，通过电机带动滚筒转动，滚筒带动抛光砂带传动，抛光砂带对瓦楞辊表面进行抛光工作。
[0006]进一步的，所述滚筒的两端设置有限位环，通过限位环对抛光砂带进行限制，防止抛光砂带在传动的过程中发生位移。
[0007]进一步的，所述张紧辊设置为两个，设置在张紧辊和滚筒上的抛光砂带为等边梯形结构，通过张紧辊能够使抛光砂带时刻处在张紧状态，从而保证抛光砂带抛光效率，弹簧使张紧辊具有一定的弹性避免硬性接触。
[0008]进一步的，所述横向支架的前侧面上设置有限位滑槽Ⅱ，调节架通过限位滑槽Ⅱ与横向支架滑动连接，横向支架上设置有电动伸缩杆Ⅰ，电动伸缩杆Ⅰ的伸缩端与调节架固定连接，通过电动伸缩杆Ⅰ的伸缩端能够推动调节架左右移动，方便对抛光的位置进行调节，限位滑槽Ⅱ对调节架进行限制，使其在滑动的过程中稳定。
[0009]进一步的，所述横向支架的两端设置有三角支架，通过三角支架对横向支架进行可靠支撑。
[0010]与现有技术相比，本技术的有益效果是：
[0011]1、本技术上设置了电动伸缩杆Ⅱ，通过电动伸缩杆Ⅱ能够推动抛光架前后移动，调节与瓦楞辊的抛光面，通过电动伸缩杆Ⅰ的伸缩端能够推动调节架左右移动，方便对抛光的位置进行调节，限位滑槽Ⅱ对调节架进行限制，使其在滑动的过程中稳定。
[0012]2、本技术上设置了电机，通过电机带动滚筒转动，滚筒带动抛光砂带传动，抛光砂带对瓦楞辊表面进行抛光工作，通过张紧辊能够使抛光砂带时刻处在张紧状态，从而保证抛光砂带抛光效率，弹簧使张紧辊具有一定的弹性避免硬性接触。
[0013]3、本技术上设置了限位环，通过限位环对抛光砂带进行限制，防止抛光砂带在传动的过程中发生位移，本技术结构设计新颖，操作方便，能够进行抛光位置的调节，受力均匀，提高抛光质量和抛光效率，保证产品质量的一致性。
附图说明
[0014]图1为本技术结构示意图；
[0015]图2为本技术右视结构示意图；
[0016]图3为本技术正视结构示意图。
[0017]图中：1限位滑槽Ⅰ、2滚筒、3限位环、4三角支架、5张紧架、6弹簧、7张紧辊、8调节架、9抛光架、10横向支架、11电动伸缩杆Ⅰ、12抛光砂带、13电动伸缩杆Ⅱ、14电机、15限位滑槽Ⅱ。
具体实施方式
[0018]下面将结合本技术实施例中的附图，对本技术实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本技术一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本技术中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本技术保护的范围。
[0019]实施例一
[0020]请参阅图1
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3，本技术提供一种技术方案：一种瓦楞辊用表面处理装置，包括张紧架5、调节架8、抛光架9和横向支架10，抛光架9上部和下部分别设置有滚筒2，滚筒2的两端设置有限位环3，通过限位环3对抛光砂带12进行限制，防止抛光砂带12在传动的过程中发生位移，抛光架9上部的滚筒2为主动滚，抛光架9上部的侧面设置有电机14，电机14的输出轴穿至抛光架9的内侧与主动滚连接，通过电机14带动滚筒2转动，滚筒2带动抛光砂带12传动，抛光砂带12对瓦楞辊表面进行抛光工作，张紧架5上设置有张紧辊7，滚筒2与张紧辊7之间设置有抛光砂带12，张紧架5与抛光架9之间设置有弹簧6，张紧辊7设置为两个，设置在张紧辊7和滚筒2上的抛光砂带12为等边梯形结构，通过张紧辊7能够使抛光砂带12时刻处在张紧状态，从而保证抛光砂带12抛光效率，弹簧6使张紧辊7具有一定的弹性避免硬性接触，调节架8上设置有限位滑槽Ⅰ1，抛光架9通过限位滑槽Ⅰ1与调节架8滑动连接，调节架8上设置有电动伸缩杆Ⅱ13，电动伸缩杆Ⅱ13的伸缩端贯穿调节架8与抛光架9固定连接，抛光架9与横向支架10滑动连接，横向支架10的两端设置有三角支架4，通过三角支架4对横向支架10进行可靠支撑，横向支架10的前侧面上设置有限位滑槽Ⅱ15，调节架8通过限位滑槽Ⅱ15与横向支架10滑动连接，横向支架10上设置有电动伸缩杆Ⅰ11，电动伸缩杆Ⅰ11的伸
缩端与调节架8固定连接，通过电动伸缩杆Ⅰ11的伸缩端能够推动调节架8左右移动，方便对抛光的位置进行调节，限位滑槽Ⅱ15对调节架8进行限制，使其在滑动的过程中稳定，本技术结构设计新颖，操作方便，能够进行抛光位置的调节，受力均匀，提高抛光质量和抛光效率，保证产品质量的一致性。
[0021]在使用时：电机14带动滚筒2转动，滚筒2带动抛光砂带12传动，抛光砂带12对瓦楞辊表面进行抛光工作，通过张紧辊7能够使抛光砂带12时刻处在张紧状态，从而保证抛光砂带12抛光效率，弹簧6使张紧辊7具有一定的弹性避免硬性接触，通过电动伸缩杆Ⅱ13能够推动抛光架9前后移动，调节与瓦楞辊的抛光面，通过电动伸缩杆Ⅰ11的伸缩端能够推动调节架8左右移动，方便对抛光的位置进行调节，限位滑槽Ⅱ15对调节架8进行限制，使其在滑动的过程中稳定。
[0022]尽管已经示出和描述了本技术的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本技术的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本技术的范围由所附权本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种瓦楞辊用表面处理装置，包括张紧架（5）、调节架（8）、抛光架（9）和横向支架（10），其特征在于：所述抛光架（9）上部和下部分别设置有滚筒（2），张紧架（5）上设置有张紧辊（7），滚筒（2）与张紧辊（7）之间设置有抛光砂带（12），所述张紧架（5）与抛光架（9）之间设置有弹簧（6），调节架（8）上设置有限位滑槽Ⅰ（1），抛光架（9）通过限位滑槽Ⅰ（1）与调节架（8）滑动连接，调节架（8）上设置有电动伸缩杆Ⅱ（13），电动伸缩杆Ⅱ（13）的伸缩端贯穿调节架（8）与抛光架（9）固定连接，所述抛光架（9）与横向支架（10）滑动连接。2.根据权利要求1所述的一种瓦楞辊用表面处理装置，其特征在于：所述抛光架（9）上部的滚筒（2）为主动滚，抛光架（9）上部的侧面设置有电机（14），电机（14）的...
【专利技术属性】
技术研发人员：张军红，周瑞钦，赵瑞峰，
申请(专利权)人：济源市北方特钢制辊有限公司，
类型：新型
国别省市：
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