一种掩膜版、对准标记以及光刻系统技术方案

一种掩膜版、对准标记以及光刻系统，所述对准标记包括多个间隔排布的对准图形，所述对准图形包括沿第一方向延伸的第一图形和沿第二方向延伸的第二图形，所述第一图形在第一方向包括相对的第一端和第二端，所述第二图形在第二方向包括相对的第三端和第四端，所述第二端和第三端连接，第四端和第一端连接，所述对准图形为二维线形图形，本发明专利技术实施例与所述对准标记为一维线形图形的情况相比，在利用本发明专利技术实施例提出的对准标记进行对准的过程中，对准标记在宏观上构成周期排布的摩尔纹，摩尔纹能够使得对准系统获得更大的一阶衍射信号强度，相应的对准信号强度较大，提高套刻精度(OVL)，降低返工率和生产成本。降低返工率和生产成本。降低返工率和生产成本。降低返工率和生产成本。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：桑伟华，吴世杰，邢滨，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造北京有限公司，
类型：发明
国别省市：