一种蓝宝石衬底稳定抛光去除率的方法及装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供了一种蓝宝石衬底稳定抛光去除率的方法及装置，通过将金刚石微粉、抛光液原液、水按一定比例进行混合制得抛光混合液，并通过抛光管道滴入抛光装置的抛光垫中，使抛光混合液渗入抛光垫上蓝宝石衬底的抛光面，由于金刚石微粉硬度高，不与碱反应，且不会形成表面水化层，抛光过程中粒径不易磨小，可以有效代替磨损的氧化铝颗粒，从而保证CMP抛光中的机械抛光的效率，最终稳定蓝宝石衬底抛光作业中抛光液的去除率，保证去除率波动小，有效提高抛光液作业寿命。提高抛光液作业寿命。提高抛光液作业寿命。

【技术实现步骤摘要】
一种蓝宝石衬底稳定抛光去除率的方法及装置


[0001]本专利技术属于LED芯片抛光工艺技术，具体涉及一种蓝宝石衬底稳定抛光去除率的方法及装置。

技术介绍

[0002]目前LED芯片基片材料是以蓝宝石衬底为主，衬底表面必须具有极高的平整度、洁净度，而最有效方法为CMP抛光技术，CMP抛光技术是既有机械抛光又有碱性溶液参与化学反应的两种相结合的抛光方式，可以把蓝宝石衬底表面抛光到高平坦度和洁净度。行业内通常的做法是把经过线切割、研磨、退火后的衬底，先放入清洗机进行清洗，接着使用贴蜡机将衬底贴到平整的圆形陶瓷盘表面，再将贴好衬底的陶瓷盘搬到抛光机上进行抛光。
[0003]而CMP抛光必须使用抛光液抛光，目前蓝宝石衬底抛光主要使用氧化铝抛光液，抛光液与水配比一般1:8～1:14不等，抛光作业时加入一定量的碱液，保持抛光液PH>12，抛光液针对蓝宝石衬底的去除率会随作业时间的增加而逐渐下降，一般连续作业15小时，去除率会下降30％以上，目前维持抛光液去除率的方法主要为：1.每抛光一批次以蓝宝石衬底(定时)添加一定量的抛光液原液；2.本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种蓝宝石衬底稳定抛光去除率的方法，其特征在于：包括以下步骤：S1：将金刚石微粉、抛光液原液、水按(1.8g～2.2g)：(4115g～4120g)：47000g的比例进行混合，得到抛光混合液；S2：对蓝宝石衬底表面滴入液态蜡，将蓝宝石衬底装入离心装置，通过离心装置令液态蜡在旋转状态的蓝宝石衬底表面均匀扩散，将蓝宝石衬底放入烘箱烘干，将液态蜡的流动性成分挥发，在蓝宝石衬底表面得粘稠状态、且均匀扩散的蜡层，将蓝宝石衬底表面的蜡层贴附于抛光装置中冷凝，完成蓝宝石衬底的粘附固定；将抛光混合液加入抛光管道，通过抛光管道滴入抛光装置的抛光垫中，使抛光混合液渗入抛光垫上蓝宝石衬底的抛光面；S3：将蓝宝石衬底按间隔式作业抛光多次，直至衬底表面平整度达标。2.如权利要求1所述的蓝宝石衬底稳定抛光去除率和延长抛光液寿命的方法，其特征在于：步骤S1中所述抛光液原液类型为氧化铝抛光液。3.如权利要求1所述的蓝宝石衬底稳定抛光去除率和延长抛光液寿命的方法，其特征在于：步骤S1中所述金刚石微粉粒径为1.5μm～3.5μm。4.如权利要求1所述的蓝宝石衬底稳定抛光去除率和延长抛光液寿命的方法，其特征在于：步骤S3中间隔作业抛光次数为7次～10次。5.如权利要求1所述的蓝宝...

【专利技术属性】
技术研发人员：毕永平，张丙权，吴琼琼，崔思远，文国昇，金从龙，
申请(专利权)人：江西兆驰半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：