一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法技术

本发明专利技术揭示了一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法，属于光伏技术领域，包括下述步骤，S1、通过磁力搅拌机、涂布辊和烘箱的配合制作UV吸收树脂层，S2、使用涂布机在对基材的低折面先涂布一层UV吸收树脂层，UV吸收树脂层厚度为1μm～5μm，基材的厚度优选为50μm、100μm、125μm或188μm，所述基材为聚苯二甲酸乙二醇酯，S3、通过磁力搅拌机、涂布辊和烘箱的配合下制作光稳定树脂层，S4、使用涂布机在UV吸收树脂层上，涂布一层光稳定树脂层，光稳定树脂层的厚度为200nm～1000nm，S5、使用涂布机在基材的高折面先涂布一层折射率在1.60～1.65的树脂硬化层，树脂硬化层厚度为500nm～1000nm。本发明专利技术实现透明导电薄膜材料耐磨性高，同时实现了UV阻隔性能高，达到将380nm波段的UV光的透过率降低到2％以下。的UV光的透过率降低到2％以下。的UV光的透过率降低到2％以下。

【技术实现步骤摘要】
一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法


[0001]本专利技术属于光伏
，具体涉及一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法。

技术介绍

[0002]紫外线是在太阳光谱中，频率和能量是高于可见光线。其中，波段在400nm～320nm的紫外光A和波段在320nm～280nm的紫外光B长时间照射会灼伤皮肤，导致皮肤的加速老化。在户外电子显示屏上，高能量的紫外光线长时间照射会破坏显示屏膜材和内部电子元件的结构，加速其老化。因此，需要在显示屏的光学薄膜的表面增加UV吸收和光稳定助剂，从而提高光学薄膜的UV阻隔性能和对内部电子元件的保护。
[0003]在专利号ZL2019107112513中公开了一种多层透明UV阻隔膜，该专利技术因为只添加的一种UV阻隔剂，故需要多层叠加UV阻隔剂，提高UV阻隔剂的加入量，才可以达到80～90％的UV光阻隔率。
[0004]在专利号ZL2015106832330中公开了一种防污抗UV涂覆组合物、硬化膜及制备方法，该专利技术在涂覆组合物中加入纳米二氧化硅层2分散液和紫外吸收剂，使得由该涂覆组合物制本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法，其特征在于，包括下述步骤；S1、通过磁力搅拌机、涂布辊和烘箱的配合制作UV吸收树脂层；S2、使用涂布机在对基材的低折面先涂布一层UV吸收树脂层，UV吸收树脂层厚度为1μm～5μm，基材的厚度优选为50μm、100μm、125μm或188μm，所述基材为聚苯二甲酸乙二醇酯；S3、通过磁力搅拌机、涂布辊和烘箱的配合下制作光稳定树脂层；S4、使用涂布机在UV吸收树脂层上，涂布一层光稳定树脂层，光稳定树脂层的厚度为200nm～1000nm；S5、使用涂布机在基材的高折面先涂布一层折射率在1.60～1.65的树脂硬化层，树脂硬化层厚度为500nm～1000nm；S6、通过磁控溅射真空镀膜设备，磁控溅射一层二氧化硅层，二氧化硅层厚度为5～20nm；S7、通过磁控溅射真空镀膜设备，镀上氧化铟锡导电层，氧化铟锡导电层厚度为15nm～50nm。2.根据权利要求1所述的一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法，其特征在于，所述UV吸收树脂层的制作包括下述步骤；S11、将丙烯酸类树脂加入到溶剂中，使用磁力搅拌机在常温下磁力搅拌30min，使其充分稀释；S12、然后加入二氧化硅层粒子和分散剂，使用磁力搅拌机在常温下磁力搅拌40min，使其充分散均匀；S13、在该上述混合液搅拌过程中，依次逐滴加入硅烷偶联剂、光引发剂和UV吸收剂；S14、使用磁力搅拌机在常温下磁力搅拌30min，从而得到UV吸收树脂液；S15、使用涂布辊将UV吸收树脂液均匀的涂布在基材上；S16、通过烘箱去除溶剂，再通过UV固化，最后得到干厚在1μm～5μm的UV吸收树脂层。3.根据权利要求1所述的一种具有UV阻隔性能的光学导电薄膜制备方法，其特征在于，所述光稳定树脂层的制作包括下述步骤；S31、将丙烯酸类树脂加入到...

【专利技术属性】
技术研发人员：严俊，于佩强，汪金铭，胡业新，刘世琴，
申请(专利权)人：江苏日久光电股份有限公司，
类型：发明
国别省市：