一种点光源光量分布均衡化校正系统及校正方法技术方案

本发明专利技术公开了一种点光源光量分布均衡化校正系统及校正方法，应用于光源检测系统校正技术领域，校正板朝向待校正器件一侧表面设置有反光区和非反光区，待校正器件设置有点光源以及线阵光学传感器；上位机用于待校正器件跨置反光区与非反光区时，通过线阵光学传感器获取基于点光源照射校正板所产生的第一采样数据；基于第一采样数据调整线阵光学传感器的拍摄参数；通过线阵光学传感器获取点光源照射反光区所产生的第二采样数据；通过线阵光学传感器获取点光源照射非反光区所产生的第三采样数据；根据第二采样数据与第三采样数据，确定线阵光学传感器中各个像素点所对应的实际灰度空间，以进行校正，从而实现精确的进行点光源光量分布均衡化校正。源光量分布均衡化校正。源光量分布均衡化校正。

【技术实现步骤摘要】
一种点光源光量分布均衡化校正系统及校正方法


[0001]本专利技术涉及光源检测系统校正
，特别是涉及一种点光源光量分布均衡化校正系统以及一种点光源光量分布均衡化校正方法。

技术介绍

[0002]基于视觉图像进行位移量计算应用的产品辅助类装置系统，所涉及的基于视觉图像进行位移量计算的产品有如位移量是角度的视觉编码器，位移量是刻度的直线编码或者光栅尺等。目前国内高精度的基于图像传感技术的绝对位置编码几乎还没有，光栅尺等产品相对也比较少，各家采用的技术方案也千差万别。
[0003]上述传感器都有一个共同的传感器采集最小组成单元是点光源和线阵型CMOS(Complementary Metal Oxide Semiconductor，互补金属氧化物半导体)或者CCD(charge coupled device，电荷耦合器件)传感器。区别与其他常见类的视觉应用系统，该应用是在一个内部密闭，狭小的空间内使用，点光源是不可见光源，在批量化生产此类产品时，无法做到LED(light
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emitting diode，发光二极管)等点本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种点光源光量分布均衡化校正系统，其特征在于，包括测量装置和上位机；所述测量装置包括校正板，待校正器件位于所述校正板一侧，所述待校正器件与所述上位机通信连接；所述校正板朝向所述待校正器件一侧表面设置有反光区和非反光区，所述待校正器件设置有点光源以及线阵光学传感器；所述上位机用于：当所述待校正器件跨置所述反光区与所述非反光区时，通过所述线阵光学传感器获取基于所述点光源照射所述校正板所产生的第一采样数据；基于所述第一采样数据调整所述线阵光学传感器的拍摄参数；在调整所述拍摄参数后，当所述待校正器件朝向所述反光区时，通过所述线阵光学传感器获取所述点光源照射所述反光区所产生的第二采样数据；在调整所述线阵光学传感器的拍摄参数后，当所述待校正器件朝向所述非反光区时，通过所述线阵光学传感器获取所述点光源照射所述非反光区所产生的第三采样数据；根据所述第二采样数据与所述第三采样数据，确定所述线阵光学传感器中各个像素点所对应的实际灰度空间，以用于根据所述实际灰度空间进行校正。2.根据权利要求1所述的点光源光量分布均衡化校正系统，其特征在于，所述上位机还用于：将所述实际灰度空间存储于所述待校正器件，使得在实际工作时根据所述线阵光学传感器中各个像素点获取的实际采样值，以及对应的所述实际灰度空间，确定在同一标准灰度空间中各个所述像素点对应的标准采样值。3.根据权利要求1所述的点光源光量分布均衡化校正系统，其特征在于，所述上位机用于：根据所述第一采样数据以及所述线阵光学传感器的内置参数特性，调整所述线阵光学传感器的拍摄参数，使所述线阵光学传感器在避免过曝光的前提下增加所述第一采样数据中两极值之间的差值。4.根据权利要求3所述的点光源光量分布均衡化校正系统，其特征在于，所述拍摄参数包括曝光值和亮度增益值。5.根据权利要求1所述的点光源光量分布均衡化校正系统，其特征在于，所述上位机用于：在获取所述第二采样数据后，根据所述第二采样数据的方差以及分布特性，确定所述第二采样数据的是否有效；当所述第二采样数据有效时，记录有效的所述第二采样数据；在获取所述第三采样数据后，根据所述第三...

【专利技术属性】
技术研发人员：王耀，鄢鹏飞，董国伟，
申请(专利权)人：浙江禾川科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：