【技术实现步骤摘要】
一种宽频减反膜及其制备方法和应用
[0001]本专利技术属于光学仪器薄膜
,具体涉及一种宽频减反膜及其制备方法和应用。
技术介绍
[0002]减反射膜,也称增透膜,用于降低光学元件表面的反射率,提高工作波段内光线的透过率,是光学薄膜中应用最广泛的一种薄膜。直至今日,其生产总量也远远超过其他类型的薄膜。可以说减反膜揭开了早期薄膜光学的应用与发展。减反膜对光学仪器的光学质量的改善是非常明显的。例如,照相机、投影仪等可见光学系统,都包含几个与空气相毗邻的表面,如果没有减反射膜,光的透过率很低而导致光学损失很大,造成成像质量很低。
[0003]随着技术的不断发展,细胞切割、植物学切片、3D打印等微加工技术越来越精细和自动化,同时对各种技术的要求也越来越高。然而,在设计和制造相关的仪器时,遇到了一系列的技术问题:首先,要实现高清图像显示,光学系统的像素和放大倍数要求高,这样设计出来的光学系统结构复杂,镜片组数较多,图像清晰度受到影响。其次,要实现自动3D打印加工,由于镜头组数多,经过多次反射以后,光线经过光路系统最终清淅 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种宽频减反膜,其特征在于,包括由上到下依次设置的H4层、Ag层和MgF2层。2.如权利要求1所述的宽频减反膜,其特征在于,所述H4层的厚度为19
‑
20nm,所述Ag层的厚度为3
‑
4nm,所述MgF2层的厚度为86
‑
87nm。3.如权利要求1所述的宽频减反膜,其特征在于,所述宽频减反膜的带宽为400
‑
850nm。4.一种如权利要求1
‑
3任一所述的宽频减反膜的制备方法,其特征在于,所述制备方法具体包括如下步骤:S1、将K9玻璃基底清洗烘干后放入真空室中,然后将真空室的真空度抽至<5.0x10
‑4Pa,再用充满氩气的离子源对基底进行镀前清洗;S2、采用在镀膜腔室不充氧的情况下将H4原料在基底上蒸镀H4层;S3、采用在镀膜腔室不充氧的情况下将Ag原料在步骤S2得到的H4层上蒸镀Ag层;S...
【专利技术属性】
技术研发人员:张全文,赵建村,虞益挺,
申请(专利权)人:西北工业大学宁波研究院,
类型:发明
国别省市:
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