一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法技术

本发明专利技术公开了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法，其在二维平面生成规则周期点阵；对规则周期点阵中的每个点做随机扰动，得到非规则随机点阵；将随机点阵分割为Delaunay三角网，划分为泰森多边形，得到随机结构金属网栅图案；检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准，包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能；若没有达到标准，则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分，直至达到预期标准；本发明专利技术设计并制备了一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜，易于设计和加工，还可根据光学系统对光学性能和电磁屏蔽效能的具体要求对随机结构金属网栅的结构参数进行针对性调整，可应用于不同的工况环境。用于不同的工况环境。用于不同的工况环境。

【技术实现步骤摘要】
一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法


[0001]本专利技术属于光学薄膜
，具体涉及一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计及制备方法。

技术介绍

[0002]光学窗口是各类光电设备的重要组成部件，随着现代科技的进步和通信频段的拓宽，空间电磁环境日益复杂，对设备的光学窗口提出了需要具备电磁屏蔽功能的要求。金属网栅电磁屏蔽薄膜是实现光学窗口同时具有高光学透过率和优良电磁屏蔽效能的主要手段之一，近来在民用和军用领域获得了广泛关注。
[0003]目前金属网栅结构一般为规则多边形阵列后形成的周期性结构，在使用过程中高级次衍射光集中分布，形成杂散光干扰，对精密光学系统的分辨率和像质产生不利影响，特别是在探测强点光源时，高级次衍射光斑会形成虚假目标，严重影响探测精度。因此，削弱和消除高级次衍射光集中分布，是目前急需解决的问题。
[0004]国内外的科研人员在消除金属网栅的次级衍射集中分布方面进行了深入的研究，通过使用多种圆环嵌套交互排布或采用多周期复合结构降低高次衍射能量集中分布程度，但其网栅结构在整体上仍然为周期性排布，不能从本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
1.一种随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计方法，其特征在于包括以下步骤：(1)在二维平面生成规则周期点阵；(2)对规则周期点阵中的每个点做随机扰动，得到非规则随机点阵；(3)将随机点阵分割为Delaunay三角网，将Delaunay三角网划分为泰森多边形，得到随机结构金属网栅图案；(4)检查随机结构金属网栅的结构参数是否达到预期标准，包括网孔随机程度、光学透过率、次级衍射分布和电磁屏蔽效能；若结构参数没有达到标准，则重复进行规则周期点阵的随机扰动和泰森多边形划分，直至结构参数达到预期标准。2.如权利要求1所述随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计方法，其特征在于步骤1所述规则周期点阵为二维正三角形点阵、二维四方点阵或二维密排六方点阵。3.如权利要求1所述随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计方法，其特征在于步骤2对生成的规则周期点阵进行随机赋值，采用以下公式：(x
rand_
，y
rand_
)＝((x
i
+rand(1))，(y
j
+rand(1)))其中，x
i
、y
j
为规则点阵中各点的初始坐标，rand(1)为随机生成0～1区间内任意数值的函数，(x
rand_i
，y
rand_j
)为随机赋值后的各点坐标，规则周期性点阵转变为非规则随机点阵。4.如权利要求1所述随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计方法，其特征在于步骤3依据具体技术需求，设定泰森多边形网络中的所有线条的宽度和长度，得到随机结构金属网栅图案。5.如权利要求1所述随机结构金属网栅电磁屏蔽薄膜设计方法，其特征...

【专利技术属性】
技术研发人员：孙义可，郝博，熊涛，徐旭，薛俊，何光宗，王航，张天行，
申请(专利权)人：湖北久之洋红外系统股份有限公司，
类型：发明
国别省市：