【技术实现步骤摘要】
一种纳米压印模板胶及其制备方法
[0001]本专利技术涉及材料领域,特别涉及一种纳米压印模板胶及其制备方法。
技术介绍
[0002]在纳米压印技术(Nanoimprint lithography,NIL)中,模板是压印光刻与传统光学光刻工艺最大的区别所在,模板作为压印特征的初始载体直接决定着压印图型的质量,要实现高质量的压印复型,必须要有高质量的压印模板。不同于传统光学光刻使用的掩模(4X),纳米压印光刻使用的是1X模版,它在模板制作、检查和修复技术上面临更大挑战。
[0003]目前很多研究团队致力于软模板的研究,软模板泛指基质是软的材料做成的模板,通常是以光刻胶作为预聚物,利用压印技术在其表面制作图形,再通过热固化或者紫外光固化成型,得到反向复制图形的聚合物软模板。相比于硬模板,软模板不仅制备工艺简单,大大节约了成本;同时软压印模板还能补偿表面形貌差异,可以替代硬性材料无法弯曲的缺点,大大提高了压印的质量和压印图形的面积。
[0004]目前较多的纳米压印模板胶都是丙烯酸酯类聚合物,采用UV固化自由基聚合方式,UV照射后可以快速固化,但是固化后的胶层收缩较大,体积收缩率在6%~10%,严重造成压印后微结构尺寸变化;聚合物膜层的机械性能比较差,压印脱模过程中容易断裂残胶,造成结构缺失;多次压印后表面能增大造成不易脱模,影响使用寿命;胶水采用自由基固化后体积收缩较大,造成结构精度差异,影响压印后产品的光学性能;不耐磨损,尤其是不能制作高精度,高分辨率的图形。
技术实现思路
[0005]有鉴 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.一种纳米压印模板胶,其特征在于,由包括以下质量比组分的原料制得:2.根据权利要求1所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述环氧改性聚硅氧烷树脂通过以下制备方法制得:硅油与4
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乙烯基环氧环己烷混合反应,得到环氧改性聚硅氧烷树脂。3.根据权利要求2所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述硅油∶4
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乙烯基环氧己烷的质量比为27.5∶(29.5~31);所述硅油的含氢量为1.5wt%~1.65wt%;所述反应在催化剂的作用下进行;所述催化剂为铑催化剂;所述催化剂∶硅油的质量比为(0.095~0.1)∶100。4.根据权利要求2或3所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述制备方法具体包括:将硅油、4
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乙烯基环氧环己烷和催化剂混合,在30~40℃搅拌24~36h,然后升温至80~90℃搅拌3~5h,得到环氧改性聚硅氧烷树脂。5.根据权利要求1所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述有机硅氟改性聚氨酯丙烯酸树脂为UV
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9843A、UV
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9843
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1、UV
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9843
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2、Trust
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7760、FSP8658、LuCure8696中的至少一种。6.根据权利要求1所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述氟改性丙烯酸酯为全氟辛基乙基丙烯酸酯、甲基丙烯酸十二氟庚酯、丙烯酸(N
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甲基全氟己基磺酰胺基)乙酯、全氟己基乙基丙烯酸酯、全氟己基乙基甲基丙烯酸酯、全氟丁基乙基丙烯酸酯和1H,1H,2H,2H
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全氟辛醇丙烯酸酯中的至少一种。7.根据权利要求1所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述改性环氧丙烯酸树脂为Ebecryl600、Agisyn 6050TF、WORLD ROCK 700、3,4
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环氧环己基甲基甲基丙烯酸酯和新戊二醇聚甲基环氧乙烷二丙烯酸酯中的至少一种;所述阳离子杂化丙烯酸树脂为U
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9100A、U
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9100B、U
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9101、U
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9103、U
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9200、U
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9210、U
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9310和U
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9340中的至少一种。8.根据权利要求1所述的纳米压印模板胶,其特征在于,所述交联稀释剂为羟丁基乙...
【专利技术属性】
技术研发人员:陈廷忠,周兴,关健,徐松,赵晋,
申请(专利权)人:珠海莫界科技有限公司,
类型:发明
国别省市:
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